JPS62297062A - ラツプ剤組成物およびその製造方法 - Google Patents

ラツプ剤組成物およびその製造方法

Info

Publication number
JPS62297062A
JPS62297062A JP61138289A JP13828986A JPS62297062A JP S62297062 A JPS62297062 A JP S62297062A JP 61138289 A JP61138289 A JP 61138289A JP 13828986 A JP13828986 A JP 13828986A JP S62297062 A JPS62297062 A JP S62297062A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
glycols
agent
lapping
abrasive particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61138289A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenzo Yokoyama
横山 健三
Hiromichi Tomihari
富張 弘道
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yushiro Chemical Industry Co Ltd filed Critical Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP61138289A priority Critical patent/JPS62297062A/ja
Publication of JPS62297062A publication Critical patent/JPS62297062A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の、iT MIIな説明 産業上の利用分野 本発明はランプ剤、特にフェライトおよびセラミックな
どの電ト部品材料のランプ加工に使用されるラップ剤に
関するものである。
ざらに詳しくいえば本発明は貯蔵中および使用中に研磨
材粒子が安定に分散し、研削性に優れかつ加工後水で容
易に洗浄除去できるラップ剤組成物に関するものである
従来の技術 M敲した研磨材粒子を用いるラップ加工は磁気へラドコ
アあるいは石英などの電f一部品材料の仕−Lげ加工と
して広く適用されており、特に、要求される寸法、精度
および表面粗さが比較的容易に維持できる優、れた特徴
をもつ加工法である。
このラップ加工にはダイヤモンド、窒化硼素、溶融アル
ミナなどの研磨材粒子を水あるいは写油に分散させたラ
ップ剤が使用されている。う、プ加工後、被加工物の表
面が清浄でないと磁気特性が低下し、品質が劣るため、
後工程での最終洗浄には水を用いて被加工物表面を清浄
にしている。
そのため、ラップ剤の基剤としては鉱物油、油脂等の水
不溶性の物質よりも水または水に可溶なポリフルキレン
グリコールのような水に可溶な物質が多用されている。
一方、ラップ剤においては研磨材粒子が基剤に安定に分
散していることが重要である。
研磨材粒子の分散が不安定であると次のような不都合が
生じる。
(1)ラップ剤中に分散している研磨材粒子の分離、沈
降を貯蔵中あるいは使用中に十分に防止することができ
ない。
(2)分離沈降した研磨材粒子はハードケーキ状態にな
りやすい。
上記のような欠点をもつラップ剤を用いると、研磨材粒
子の不均一偏在により、加工精度あるいは表面粗さなど
の一次性能を維持することが困難となり、しばしば不良
品を発生させる。そのため加工能率を著しく低下させる
したがって、このようなラップ剤を使用するにはラップ
加工萌にラップ剤をあらかじめ攪拌あるいはMia波な
どによって強力なせん断エネルギーを芋え分離沈降して
できたハードケーキ状になった研磨材粒子を再び均一に
分散させ、また、使用中には研磨材粒子の分散状態を常
時管理する必要がある。
水または水に可溶な物質を基剤とする従来のラップ剤に
おいて当然研磨材粒子を基剤に安定させるための措置が
種々試みられてきたが満足し得るものは存在しなかった
例えば、特公昭53−37154号公報には、水または
グリコールからなるベース液体にカルボキシメチレン重
合体を分散させた分散液を使用することが開示され、ま
た特開昭52−27353号公報には、水溶性増粘剤と
してグリセリンなどのグリコールを使用することが開示
されており、研府粉を懸濁させた安定な懸濁液を製造す
ることが試みられている。
しかし、カルボキシメチレン川合物あるいはグリセリン
などを使用する方法では研磨材粒子を長期間安定に分散
状態を保つことが難しいためラップ剤を使用する前およ
び使用中に攪拌などをして分散性を維持しているのが現
状である。
発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、研磨材粒子の分散が良好で、長期間の
貯蔵中または使用中に研磨材粒子の不均一・偏在がなく
、また分離沈降を起こしにくいラップ剤を提供すること
により安定したラップ加工ができ、さらに加工後の洗浄
上程において水によって容易に除去され、被加工物の品
質を向−卜せしめることができるラップ剤を提供するこ
とである。
問題点を解決するための¥I= 15を上記の問題点を
解決するため、本発明者らは鋭意研究の結果、特定のグ
リコール類と有機ベントナイトと水との混合物を主剤と
する基剤に研磨材粒子を分散させることにより、分散安
定性に優れ、水によって容易に洗浄除去されるラップ剤
が得られることを知見し、本発明を完成するに至った0
本願の第1発明は、有機ベントナイト、下記CI)式で
表わされるグリコール類、研磨材粒子および水を必須成
分として含有することを特徴とするラップ剤組成物であ
り、 R+  −0−(CH2CH2O)n −R2(I)こ
こで、R1は水素または)RJ原子数が1〜4のアルキ
ル基 nは1〜4の整数 R2は水素またはアセチル基 本願の第2発明は、前記(1)式で表わされるグリコー
ル類と有機ベントナイトを混合して粘稠状物質をつくり
、つぎに水および研磨材粒子を加えることを特徴とする
ラップ剤組成物の製造方法である。
本発明を構成する各要素について以下詳細に説明する。
(有機ベントナイト) 本発明のラップ剤に使用する有機ベントナイトは脂肪族
第4級アミンを用い、ベントナイトと塩ノフ交換させた
ものであり、例えばベントン(Benton)、  (
ナショナル・リード社製)あるいはオルベン(白石工業
社製)などの商品名で市販されているものを使用するこ
とができる。
ラップ剤中の有機ベントナイトの含有量は前記(1)式
で表わされるグリコール類lOO重量部に対し0.2〜
2O重輩部の割合であることが望ましく、さらに好まし
くは0.5〜5重量部である。
有機ベントナイトの含有量が0.2重量部未満の場合、
研磨材粒子を安定に分散させることが難しく、また2O
重量部を超えると、研磨材粒子を均一に分散させるため
には強力なせん断エネルギーが必要となり得策でない。
(グリコール類) 本発明のラップ剤において使用するグリコール類は下記
(I)式で表わされる化合物である。
R+ −0−(CH2CH2O)II −R2(I)こ
こで、R1は水素または炭素原子数が1〜4のアルキル
基 nは1〜4の整数 R2は水素または7セチル基 グリコール類としては、例えば、ブチルセロソルブ、カ
ービトール、カービトールアセテイト、ブチルエチルソ
ルブ、エチレングリコールなどを挙げることができ、中
でもカービトール、エチレングリコールのような蒸発お
よび引火しに<<。
かつ水に易溶性のグリコール類を用いると分散安定性の
良いラップ剤が得られ、かつ後工程における水による洗
浄除去に好都合である。また、(1)式以外のグリコー
ル類、例えばポリエチレングリコール(Q= 400〜
1000)などを単独で用いると分散安定性が極端に悪
くなる。
(研磨材粒子) 本発明のラップ剤に使用する研磨材粒子としてはダイヤ
モンド、窒化硼素、溶融アルミナなどの他に従来のラッ
プ剤において研磨材粒子として使用されている高硬度鉱
物の粒子や粉末などのすべてのものを使用することがで
きる。
研磨材粒子の粒度は従来のラップ剤中の研磨材粒子の粒
度と同じであるが磁気へントコアあるいは石英などの′
Iし子部品材料に対しては粒径0.2〜2Ogm程度の
ものが望ましく中でも0.4〜5gm程度のものが好適
である。
本発明のラップ剤中の研磨材粒−fの含有量は上記(1
)式で表わされるグリコール類100重量部に対して0
.1〜5重量部が望ましく、研削量および経済性より0
.2〜1重量部か−・層好適である。
(水) 本発明のラップ剤に使用する水は粘度調整および洗浄性
の向上を計るために配合する。特に、その他の成分とし
てポリアルキレングリコール類をも併用する場合には、
水を添加すると効果が顕著である。
(その他の成分) 本発明のラップ剤には、所望に応じて、モの他の配合成
分として、アルコール類、ポリフルキレングリコール類
などをも適宜添加し適切な粘度になるよう調整したりす
ることができる。
本発明のラップ剤に用いる任意成分のアルコール類およ
びポリアルキレングリコール類は加工精度の維持あるい
は加工時の環境汚染防+hなどより、できるだけ蒸発お
よび引火をしにくいものが要求されまた、水で容易に洗
nIできることが望まれる。したがって、アルコール類
としてプロピレングリコール、トリメチレングリコール
、ネオペンチルグリコール、1.3−ブタンジオール、
1.4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオールのよ
うな常温で液状で比較的引火点の高いアルコール類を用
いることが望ましい、また、ポリアルキレングリコール
類はポリオキシエチレン類を多く含み水に溶解しやすい
分子量2oo〜1000程度のものが好適である。
(ラップ剤の製造方法) 本発明のラップ剤は前記(I)式で表わされるグリコー
ル類に有機ベントナイトを混合し、粘度がtoo 〜5
000cp (25℃)になるまで攪拌したのち、研磨
材粒子を添加しさらに攪拌を続は均一に分散させたのち
、水または水とアルコール類およびポリアルキレングリ
コール類から選ばれた1種以上の化合物を添加し粘度を
myして製造する。
有機ベントナイトとグリコール類の攪拌方法として、ホ
モミキサー、ディシルバーなどの機械的な攪拌および超
音波によるホモジナイザーなどが効果的である。
また、製造する順序としてますカービトール。
エチレングリコールなどの前記(I)式で表わされるグ
リコール類に有機ベントナイトを分散させることが必要
であり、その順序を変えたり1組成酸分を一度に添加し
たりすると調整毎に粘度が異なり1分散安定性が極端に
悪くなる。
(使用方法) ラップ加工に際して、本発明のう′ツブ剤を使用する方
法は従来のラップ剤と同様である。
本発明のラップ剤は加工物から木を用いて容易に洗浄除
去することができる。
実施例 次に本発明の実施例を示して本発明の構成および効果を
具体的に説明するが、本発明は下記実施例によって何ら
制限されるものでない。
実施例1 (重量m) 力−ビトール             100ベント
ン#34(ナショナル命す−ド社製)4ダイヤモンド低
粒(粒子径IILm)    0.41.4−ブタンジ
オール         50ポリエチレングリコール
(Q=800)   75木            
                    21上記カ
ービトールにベントン#34を攪拌しながら添加し均一
に分散させ粘稠液にしたのち、さらに攪拌しながら残り
のダイヤモンド砥粒、l。
4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール(n= 
s o o)および水を配合、分散させ粘度40±5c
p(25℃)のラップ剤を調製した。
実施例2 (!l!動部) エチレングリコール          lOOベント
ン#34 (ナショナル−リード社TA)  3ダイヤ
モンド砥粒(粒子径IILm)    0.3木   
                         
     15実施例1と同様、エチレングリコールに
ベントン#34を攪拌しながら添加したのち、ダイヤモ
ンド砥粒および水を配合し、均一に分散させ粘度工5±
5cp(25℃)のラップ剤を調製した。
比較例1〜2 実施例1および実施例2の組成中のベントン#34を除
いた組成物をそれぞれ比較例1(粘度25cp、25℃
)、比較例2(粘度7cp、25℃)とした。
分散安定性試験 試料400m文を500mJl容のサンプルびんに入れ
、蓋をして30℃および50℃の恒温槽に静置し、経時
による分散安定性を観察すると共に分離沈降してできた
ケーキ状の沈降物をホモミキサーで(条件:11000
rp、3分間)攪拌後の液を顕微鏡(X 600)で観
察した。
その結果を第1表に示す。
第1表 注) 静置後の液状態 ■=殆ど分離沈降なし Δ:やや沈降あり ×:沈降が多くハードケーキ状 攪拌後の液状態 0ニ一次粒子に解謬 Δ:若干凝集物あり ×:凝集物多い 第1表より、本発明のラップ剤は分散安定性に優れてい
ることが分る。
ラップ試験 フェライト材のラップ加工を10分間行い、研削量をデ
ジタルゲージ(読みIgm)により測定し、面状態を金
属顕微鏡(X 400)でa察を行った後、加工物を水
で超音波洗浄して表面状態を肉眼観察し評価した。
(研削条件) 加工物 マンガン−亜鉛フェライト材(30X7X2m
m) 荷重圧力240 g / c rn’ (S n定盤)
回転数 3Orpm 研削時間10m1n 評価試験結果を第2表に示す。
第2表 注) 研削4t  実施例1を100として算出。
面状態 0:良好、X:面荒れ多い。
洗顔性 0:良好、 ×:水の濡れ性が不良。
第2表から、実施例1.2は研削性能に世れ、かつ面状
態も良好であることが分かる。また、洗詐性は良好で問
題ないことが分かる。
比較例3〜5 実施例1.2の成分の添加、混合方法を変えたときの分
散安定性を検討した結果を下記に示す。
(試料) 実施例1及び実施例2と同じ成分、同じ添加量で添加、
混合方法の順序を変えて組成した試料で検討。
(製法) (1)カービトール及び1.4−ブタンジオールの混合
液にベントン#34を攪拌しながら添加し均一に分散さ
せ粘稠液にしたのち、さらに攪拌しながら残りのダイヤ
モンド砥粒、ポリエチレングリコール及び水を分散させ
粘度31±5CP(25℃)のラップ剤を調整した。(
比較例3) (2)カービトール、1.4−ブタンジオール及びポリ
エチレングリコールの混合液にベントン#34を攪拌し
ながら添加し均一に分散させ粘稠液にしたのち、さらに
攪拌しながら残りのダイヤモンド砥粒及び水を分散させ
粘度30±5CP(25℃)のラップ剤を調整した。(
比較例4) (3)エチレングリコール及び水の混合液にベントン#
34を攪拌しながら添加し均一に分散させたのち、さら
に攪拌しながら残りのダイヤモンド砥粒を分散させ粘度
6±3CP(25℃)のラップ剤を調整した。(比較例
(分散安定性試験) 試$4400 m l容のサンプルびんに入れ、蓋をし
て30℃及び50℃の恒温槽に静置し、経時による分散
安定性を観察すると共に分離沈降してできたケーキ状の
沈降物をホモミキサーで(条件:11000rp、3分
間)攪拌後の液を顕微鏡(X 600)で観察した。そ
の結果を第3表に示す。
発明の効果 第1表、第2表および第3表から明らかなように、本発
明のラップ剤は分散安定性および研削性能に優れている
また、ラップ加工後の水による洗浄性は良好であり問題
はない。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)有機ベントナイト、下記( I )式で表わされる
    グリコール類、研磨材粒子および水を必須成分として含
    有することを特徴とするラップ剤組成物。 R_1−O−(CH_2CH_2O)_n−R_2(
    I )ここで、R_1は水素または炭素原子数が1〜4の
    アルキル基 nは1〜4の整数 R_2は水素またはアセチル基
  2. (2)有機ベントナイトと下記( I )式で表わされる
    グリコール類とを混合して粘稠状物質をつくり、つぎに
    水および研磨材粒子を加えることを特徴とするラップ剤
    組成物の製造方法。 R_1−O−(CH_2CH_2O)_n−R_2(
    I )ここで、R_1は水素または炭素原子数が1〜4の
    アルキル基 nは1〜4の整数 R_2は水素またはアセチル基
JP61138289A 1986-06-16 1986-06-16 ラツプ剤組成物およびその製造方法 Pending JPS62297062A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61138289A JPS62297062A (ja) 1986-06-16 1986-06-16 ラツプ剤組成物およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61138289A JPS62297062A (ja) 1986-06-16 1986-06-16 ラツプ剤組成物およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62297062A true JPS62297062A (ja) 1987-12-24

Family

ID=15218412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61138289A Pending JPS62297062A (ja) 1986-06-16 1986-06-16 ラツプ剤組成物およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62297062A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994004627A1 (en) * 1992-08-11 1994-03-03 Toshikazu Tabata Solid buffing agent
EP0824144A1 (en) * 1996-08-12 1998-02-18 Nippei Toyama Corporation Aqueous working liquid composition for wire saw
US5749773A (en) * 1992-08-11 1998-05-12 Tabata; Toshikazu Solid buffing compound
CN1048750C (zh) * 1992-08-11 2000-01-26 田端敏和 固体抛光剂
JP2002080883A (ja) * 2000-06-20 2002-03-22 Neos Co Ltd ワイヤソ−用水溶性加工液
JP2002193894A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Neos Co Ltd 芳香環を有するアルキルエーテルカルボン酸エステル
JP2007031502A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Yushiro Chem Ind Co Ltd 水性砥粒分散媒組成物
JP6099067B1 (ja) * 2016-04-26 2017-03-22 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994004627A1 (en) * 1992-08-11 1994-03-03 Toshikazu Tabata Solid buffing agent
US5749773A (en) * 1992-08-11 1998-05-12 Tabata; Toshikazu Solid buffing compound
CN1048750C (zh) * 1992-08-11 2000-01-26 田端敏和 固体抛光剂
EP0824144A1 (en) * 1996-08-12 1998-02-18 Nippei Toyama Corporation Aqueous working liquid composition for wire saw
JP2002080883A (ja) * 2000-06-20 2002-03-22 Neos Co Ltd ワイヤソ−用水溶性加工液
JP2002193894A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Neos Co Ltd 芳香環を有するアルキルエーテルカルボン酸エステル
JP2007031502A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Yushiro Chem Ind Co Ltd 水性砥粒分散媒組成物
JP6099067B1 (ja) * 2016-04-26 2017-03-22 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物
WO2017187749A1 (ja) * 2016-04-26 2017-11-02 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物
JP2017197708A (ja) * 2016-04-26 2017-11-02 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108239484B (zh) 一种蓝宝石抛光用氧化铝抛光液及其制备方法
TWI281493B (en) Polishing material
US4242842A (en) Precision polishing suspension and method for making same
TWI395807B (zh) 水性研磨粒分散媒介組成物
US3097083A (en) Polishing composition and process of forming same
JP3933748B2 (ja) ワイヤソー用水溶性切削液
CN101909816A (zh) 研磨浆料、其制造方法、研磨方法及磁盘用玻璃基板的制造方法
JP2001139935A (ja) 研磨用組成物
JPS62297062A (ja) ラツプ剤組成物およびその製造方法
CN101064121A (zh) 用于磁盘的玻璃基板的制造方法以及磁盘
JP3290189B2 (ja) シリコンウェハーの研磨方法
CN112322256B (zh) 一种氧化镓晶片精细研磨液及其制备方法
JPH0637634B2 (ja) 凝集研磨物質、該物質を含有する組成物、及びその製造方法
JPH0631393B2 (ja) コバルト含有金属の機械加工方法
JP3782771B2 (ja) 研磨用砥粒及び研磨剤の製造方法
JP2000001666A (ja) 研磨剤スラリ−
TW200415232A (en) Polishing composition
JP2002114970A (ja) 水系ラップ液及び水系ラップ剤
JPH03181598A (ja) 切断加工用油剤
JP3869520B2 (ja) ワイヤソー用水溶性切削液
TWI262208B (en) Polishing composition
JP2003041240A (ja) 切断砥粒およびそれを含む切断用組成物、ならびにその組成物を用いたシリコンウェーファーの製造法
JPS62489A (ja) 流れ助剤としてのアセチレン系アルコ−ルを含有するトリエチレンジアミン
JP2000063806A (ja) 研磨剤スラリ−およびその調製方法
CN110540889B (zh) 一种光学玻璃研磨减薄磨削液、其制备方法和应用