JPS62292618A - 超高純度沃化チタンの製造方法 - Google Patents
超高純度沃化チタンの製造方法Info
- Publication number
- JPS62292618A JPS62292618A JP2684686A JP2684686A JPS62292618A JP S62292618 A JPS62292618 A JP S62292618A JP 2684686 A JP2684686 A JP 2684686A JP 2684686 A JP2684686 A JP 2684686A JP S62292618 A JPS62292618 A JP S62292618A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iodide
- titanium iodide
- distillation
- titanium
- iodine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 title claims abstract description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 3
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 28
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 abstract description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000006192 iodination reaction Methods 0.000 description 7
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000026045 iodination Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYXVNDWLLVXOK-UHFFFAOYSA-N [Ti].[I] Chemical compound [Ti].[I] IAYXVNDWLLVXOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CECABOMBVQNBEC-UHFFFAOYSA-K aluminium iodide Chemical compound I[Al](I)I CECABOMBVQNBEC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000035922 thirst Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
6発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は不純物が極めて低減された超高純度沃化チタン
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
超高純度沃化チタンは、本来の沃化物の性質を研究する
上で当然必要とされている他、最近では特に集積回路の
電極材として有望なチタンシリサイドおよび高純度金属
チタンを製造するための原料として有要な物質である。
上で当然必要とされている他、最近では特に集積回路の
電極材として有望なチタンシリサイドおよび高純度金属
チタンを製造するための原料として有要な物質である。
沃化チタンの製法としては以下の方法が知られているが
、それらのいずれによっても純度の良い沃化チタンを得
ることはできない。
、それらのいずれによっても純度の良い沃化チタンを得
ることはできない。
1、 金属チタンと沃素の混合物を加熱する。
2、塩化チタンに乾燥した沃化水素を反応させる。
五 塩化チタンと水素および沃素を暗赤熱させる。
4、 沃化アルミと酸化チタンを反応させろ。
また、上記の方法で得られた沃化チタンを精密蒸溜で精
製する方法は、非常に複雑な設備を必要とする上に、蒸
溜温度によっては沃化チタン(Tlr、)が低級沃化物
(Ti工3 nr Tir、)に分解し蒸気圧が変動す
るため、その蒸溜渇度には上限があり完全に不純物が除
去されないばかりか、逆に濃縮してしまう不純物さえ存
在する。
製する方法は、非常に複雑な設備を必要とする上に、蒸
溜温度によっては沃化チタン(Tlr、)が低級沃化物
(Ti工3 nr Tir、)に分解し蒸気圧が変動す
るため、その蒸溜渇度には上限があり完全に不純物が除
去されないばかりか、逆に濃縮してしまう不純物さえ存
在する。
さらに、減圧蒸溜法も考えられるが、これも設備的にか
なりしっかりしたものが必要でハンドリングも難しい上
に蒸溜に多大な時間がかかるので実用的でない。
なりしっかりしたものが必要でハンドリングも難しい上
に蒸溜に多大な時間がかかるので実用的でない。
本発明はこの様に従来法では容易に製造し得なかった超
高純度沃化チタンを簡単な装置で収率良く製造する方法
である。
高純度沃化チタンを簡単な装置で収率良く製造する方法
である。
本発明の要旨は不純物を含む沃化チタンを蒸溜温度と捕
集温度を段階的に変化させ、初期揮発物をすみやかに系
外に排気し、高純度の沃化チタンを捕集することを特徴
とするものである。
集温度を段階的に変化させ、初期揮発物をすみやかに系
外に排気し、高純度の沃化チタンを捕集することを特徴
とするものである。
現在、市販されている沃化チタンの代表的なもので純度
の良いものでもその不純物として少なくとも以下の成分
を含有している。
の良いものでもその不純物として少なくとも以下の成分
を含有している。
このように不純物を含有している場合は、沃化チタン本
来の特性に関する研究は不可能であるし、超高純度金属
T1の原料としても不適当である。
来の特性に関する研究は不可能であるし、超高純度金属
T1の原料としても不適当である。
また、単純な蒸溜を行っても沃化チタンと蒸気圧の類似
している5nx4. A4T4などは沃化チタンが低級
化しやすいこととあいまって完全に除去することはでき
ず、逆に濃縮することさえありうる。
している5nx4. A4T4などは沃化チタンが低級
化しやすいこととあいまって完全に除去することはでき
ず、逆に濃縮することさえありうる。
そこで本発明者らは、沃化チタンの蒸溜精製時において
蒸溜温度と捕集温度を段階的に変化させ初期揮発物をす
みやかに系外に排気し、沃化チタンのみを捕集すること
Kより超高純度な沃化チタンを製造することを見出した
。
蒸溜温度と捕集温度を段階的に変化させ初期揮発物をす
みやかに系外に排気し、沃化チタンのみを捕集すること
Kより超高純度な沃化チタンを製造することを見出した
。
沃化チタンはどの様な方法で製造しても良く、製法に特
に限定はないが、以下説明する方法により連続的にこれ
を製造するのが純度的に経済的にも好ましい。
に限定はないが、以下説明する方法により連続的にこれ
を製造するのが純度的に経済的にも好ましい。
まず、金属粗チタンを過剰の沃素と反応させ生成した沃
化チタンおよび不純物沃化物は捕集器の温度制御により
分離する。反応温度は300℃以上であれば良いが50
0〜600℃が反応速度からは好ましい温度である。こ
の時、特に重要な事は捕集器の温度および沃化チタンの
分圧が沃化チタンの逆昇華(気体→固体)条件を満足す
ることである。この条件が満たされると他の不純物沃化
物のほとんどの分圧は極めて低いため、捕集器の温度は
不純物沃化物の逆昇華点以上になり、凝縮されず気体と
して捕集器外に排出されてしまう。
化チタンおよび不純物沃化物は捕集器の温度制御により
分離する。反応温度は300℃以上であれば良いが50
0〜600℃が反応速度からは好ましい温度である。こ
の時、特に重要な事は捕集器の温度および沃化チタンの
分圧が沃化チタンの逆昇華(気体→固体)条件を満足す
ることである。この条件が満たされると他の不純物沃化
物のほとんどの分圧は極めて低いため、捕集器の温度は
不純物沃化物の逆昇華点以上になり、凝縮されず気体と
して捕集器外に排出されてしまう。
これでほとんどの不純物は沃化チタンと分離されるが、
pe、 Sn、 Atが若干混入してしまう。そこで得
られた沃化物中の78. Sn、 Atを除去するため
には蒸溜を行わなければならない。しかし、単純に蒸溜
したのでは蒸気圧が極めて類似しているため高度な精密
蒸溜が必要となる。また、沃化チタンは蒸溜時に低級化
し蒸気圧が変動することがあるため、この蒸溜は非常に
難しい。ところが、本発明者らが鋭意検討した結果、沃
化チタシと不純物沃化物の蒸発速度が著しく異なり不純
物沃化物の方がかなり速い速度で蒸発することが確認さ
れた。
pe、 Sn、 Atが若干混入してしまう。そこで得
られた沃化物中の78. Sn、 Atを除去するため
には蒸溜を行わなければならない。しかし、単純に蒸溜
したのでは蒸気圧が極めて類似しているため高度な精密
蒸溜が必要となる。また、沃化チタンは蒸溜時に低級化
し蒸気圧が変動することがあるため、この蒸溜は非常に
難しい。ところが、本発明者らが鋭意検討した結果、沃
化チタシと不純物沃化物の蒸発速度が著しく異なり不純
物沃化物の方がかなり速い速度で蒸発することが確認さ
れた。
そこで第1図に示す様な温度制御の下に蒸溜を行い、同
時に捕集器の温度も第2図に示す様な温度制御を行うこ
とにより、容易に分離できることを見出した。すなわち
、不純物沃化物は温度T11時間ちの初期蒸溜時にほと
んど気化され捕集器も温度)に加熱されているため通過
し系外に排気され、温度11時間ちの本蒸溜に移行した
時点で捕集器の温度を1 に下げ捕集を開始することで
沃化チタン以外の不純物沃化物を1 ppm以下にまで
低減された超高純度沃化チタンが得られた。
時に捕集器の温度も第2図に示す様な温度制御を行うこ
とにより、容易に分離できることを見出した。すなわち
、不純物沃化物は温度T11時間ちの初期蒸溜時にほと
んど気化され捕集器も温度)に加熱されているため通過
し系外に排気され、温度11時間ちの本蒸溜に移行した
時点で捕集器の温度を1 に下げ捕集を開始することで
沃化チタン以外の不純物沃化物を1 ppm以下にまで
低減された超高純度沃化チタンが得られた。
この方法によれば精密蒸溜の様な装置も必要とせず、ま
た、沃化チタンが低級化する温度(2200℃)以下で
初期蒸溜すれば不純物を効率よく除去できる。
た、沃化チタンが低級化する温度(2200℃)以下で
初期蒸溜すれば不純物を効率よく除去できる。
次に本発明を図面に基づき説明する。第3図は本発明の
沃素化反応において用いられる連続沃素化装置の一例を
示すものであり、第4図は蒸溜装置の一例を示すもので
ある。
沃素化反応において用いられる連続沃素化装置の一例を
示すものであり、第4図は蒸溜装置の一例を示すもので
ある。
第3図において1は補充用の沃素ポットであり、沃化物
として消費された沃素を供給するものである。2は沃素
溜ポット、3は密閉された沃素フィーダー(例えば電磁
フィーダー)であり、粉体状の沃素を定量的に4の沃素
気化器内に供給する。
として消費された沃素を供給するものである。2は沃素
溜ポット、3は密閉された沃素フィーダー(例えば電磁
フィーダー)であり、粉体状の沃素を定量的に4の沃素
気化器内に供給する。
ここでガス状となった沃素は反応器6に送られ、粗金属
チタン用ボット7から定量的に供給され、5のメザラに
落下する粗金属チタンと反応し沃素チタンを生成する。
チタン用ボット7から定量的に供給され、5のメザラに
落下する粗金属チタンと反応し沃素チタンを生成する。
生成した沃化チタンは9の沃化チタン精製塔内で析出し
、精製沃化チタンのみが8の沃化チタン用捕集ボット内
に捕集され、未反応の沃素および不純物沃化物は11の
沃素蒸溜塔に入り、不純物沃化物は10のボットに、そ
して精製沃素ガスは冷媒により冷却されている沃素急冷
トラ、プ12内に入る。ここで沃素ガスは冷却器13で
冷却された不活性ガスにより急冷され、粉末となり再び
この沃素溜ポ、トにフィードバックされ、連続的に高純
度沃化チタンを製造するとともに、沃素も完全にクロー
ズド化される。
、精製沃化チタンのみが8の沃化チタン用捕集ボット内
に捕集され、未反応の沃素および不純物沃化物は11の
沃素蒸溜塔に入り、不純物沃化物は10のボットに、そ
して精製沃素ガスは冷媒により冷却されている沃素急冷
トラ、プ12内に入る。ここで沃素ガスは冷却器13で
冷却された不活性ガスにより急冷され、粉末となり再び
この沃素溜ポ、トにフィードバックされ、連続的に高純
度沃化チタンを製造するとともに、沃素も完全にクロー
ズド化される。
更に、具体的な操作方法としては、全系内を10−2t
orr以下に排気し、約300℃以上に加熱し、長時間
保持することにより、脱気・脱水を行う。次に沃素を沸
点以上に加熱された沃素気化器に適量供給し、全系内を
沃素雰囲気にする。さらに各部が所定の温度に達した後
、粗金属チタンを供給し沃素化を開始する。
orr以下に排気し、約300℃以上に加熱し、長時間
保持することにより、脱気・脱水を行う。次に沃素を沸
点以上に加熱された沃素気化器に適量供給し、全系内を
沃素雰囲気にする。さらに各部が所定の温度に達した後
、粗金属チタンを供給し沃素化を開始する。
第4図においては、第3図の装置を用いて製造された高
純度沃化チタンを21の沃化チタン気化器に送入し、所
定の温度制御により気化させる。
純度沃化チタンを21の沃化チタン気化器に送入し、所
定の温度制御により気化させる。
22の蒸溜塔の温度により精製度が変動するので特に塔
頂温度の制御は注意を要する。気化した沃化物は蒸溜塔
を通過し、23の精製沃化チタン用トラ、プに入るが、
初期点間時には、ここは29のヒーターにより加熱され
ているため、沃化物は気体として通過し、25の揮発性
不純沃化物トラれる。これらはすべて28の流量計によ
り流量を制御した不活性ガスのキャリアーのもとでおこ
なわれる。排ガスは26のクッションタンク、27の沃
化カリウム溶液(吸収液)を通過後、大気に放出される
。得られた精製沃化チタンは不活性ガス雰囲気(例えば
、グローブボックス)内で取り出される。
頂温度の制御は注意を要する。気化した沃化物は蒸溜塔
を通過し、23の精製沃化チタン用トラ、プに入るが、
初期点間時には、ここは29のヒーターにより加熱され
ているため、沃化物は気体として通過し、25の揮発性
不純沃化物トラれる。これらはすべて28の流量計によ
り流量を制御した不活性ガスのキャリアーのもとでおこ
なわれる。排ガスは26のクッションタンク、27の沃
化カリウム溶液(吸収液)を通過後、大気に放出される
。得られた精製沃化チタンは不活性ガス雰囲気(例えば
、グローブボックス)内で取り出される。
以上の様に、本発明の超高純度沃化チタンの製造法によ
れば、連続的に高純度沃化チタンが製造でき、所定の温
度制御をした点滴を行えば、簡単な装置(例えば単蒸溜
)で収率良く、不純物を各々I Tlpm以下Kまで低
減した超高純度沃化チタンを得ろことができる。
れば、連続的に高純度沃化チタンが製造でき、所定の温
度制御をした点滴を行えば、簡単な装置(例えば単蒸溜
)で収率良く、不純物を各々I Tlpm以下Kまで低
減した超高純度沃化チタンを得ろことができる。
次に本発明を実施例により説明する。
原料の粗金属チタンは表1に示す不純物を含有するもの
を使用した。この原料粗金属チタンとあらかじめ精製し
た沃素を用〜・第5図の装置な用いて沃素化を行った。
を使用した。この原料粗金属チタンとあらかじめ精製し
た沃素を用〜・第5図の装置な用いて沃素化を行った。
沃素化の条件は反応温度600℃、Arガス流量500
d / min 、チタン送入[39/min、沃素
流i1509 / min 、捕集温度ハ100’C,
130’(:、 1500Cと変化させ捕集された沃
化チタンの不純物含有量の影響を調べた結果が表2であ
る。値は沃化チタン中に含有する金属不純物の重’jt
ppmである。粗金属チタンに含有されて(・た不純
物のほとんどが除去される。
d / min 、チタン送入[39/min、沃素
流i1509 / min 、捕集温度ハ100’C,
130’(:、 1500Cと変化させ捕集された沃
化チタンの不純物含有量の影響を調べた結果が表2であ
る。値は沃化チタン中に含有する金属不純物の重’jt
ppmである。粗金属チタンに含有されて(・た不純
物のほとんどが除去される。
しかし、スズ、鉄、アルミニウム、マグネシウムが微量
含有されている。そこで160°Cで捕集した高純度沃
化チタンをAr流量500 d / minのキャリア
ーガスを使用し、@4図の装置を使用し、初期蒸溜(単
蒸溜)のみを実施し、点滴温度を250’C,300°
(:、350°Cと変化させた時、得られた精製沃化チ
タン中に含有している不純物の値を表3に示した。鉄、
アルミニウム、マグネシウムは減少しているが、スズは
除去されず逆ンζ濃縮される場合もある。
含有されている。そこで160°Cで捕集した高純度沃
化チタンをAr流量500 d / minのキャリア
ーガスを使用し、@4図の装置を使用し、初期蒸溜(単
蒸溜)のみを実施し、点滴温度を250’C,300°
(:、350°Cと変化させた時、得られた精製沃化チ
タン中に含有している不純物の値を表3に示した。鉄、
アルミニウム、マグネシウムは減少しているが、スズは
除去されず逆ンζ濃縮される場合もある。
次に同じ装置を使用し、初期蒸溜を200℃で115時
間、1時間、2時間と変化させ、この時、精製沃化チタ
ントラップは350°Cに加熱しておき、気化してきた
不純沃化物を捕集せず、揮発性不純沃化物トラップに捕
集し、本点間(350°C×1時間)が開始されると同
時に精製沃化チタントラップを冷媒により冷却し、精製
沃化チタンのみを捕集した。その結果を表4に示した。
間、1時間、2時間と変化させ、この時、精製沃化チタ
ントラップは350°Cに加熱しておき、気化してきた
不純沃化物を捕集せず、揮発性不純沃化物トラップに捕
集し、本点間(350°C×1時間)が開始されると同
時に精製沃化チタントラップを冷媒により冷却し、精製
沃化チタンのみを捕集した。その結果を表4に示した。
初期点間時間により若干の相異はあるが、不純物は完全
に除去されている。収率も85%以上と高収率で得られ
る。
に除去されている。収率も85%以上と高収率で得られ
る。
以上の様に段階的に点滴温度と捕集温度を変える蒸溜を
おこなうことKより、金属不純物のすべてが1 ppm
以下である超高純度沃化チタンを製造することができる
。
おこなうことKより、金属不純物のすべてが1 ppm
以下である超高純度沃化チタンを製造することができる
。
表1
表2(1鞠制糧単位ppm )
表3−遊歓鮪l単位ppm )
表4(刊陽舗l屹ppm )
第1図は本発明の蒸溜における温度制御の方法の一例を
示すものであり、第2図は本発明の捕集器の温度制御の
一例を示すものである。第3図は本発明の沃素化反応で
用いられる沃素化装置の一例を示すものであり、第4図
は本発明で用いられる点間装置の一例を示すものである
。 図中、各記号は次の内容を示すものである。 1、 沃素ボット 5 メザラ 2 沃素溜ポ、ト& 反応器 五 沃素フィーダー 2 粗金属チタン用ボット4、
気化器 a 沃化チタン用捕集ポ、ト
9 沃化チタン精製塔 1α 不純物沃化物用ボット 11、沃素蒸溜塔 12、沃素急冷トラ、ブ 1五 冷却器 21、沃化チタン気化器 2& り、シ1ンタンク2
2− 蒸溜塔 27. 沃化カリウ
ム溶液2五 精製沃化チタントラ、プ2a 流量計2
4、 冷媒 29. ヒーター2
5、 揮発性不純沃化物トラ、プ 特許出願人 東洋曹達工業株式会社 時間
示すものであり、第2図は本発明の捕集器の温度制御の
一例を示すものである。第3図は本発明の沃素化反応で
用いられる沃素化装置の一例を示すものであり、第4図
は本発明で用いられる点間装置の一例を示すものである
。 図中、各記号は次の内容を示すものである。 1、 沃素ボット 5 メザラ 2 沃素溜ポ、ト& 反応器 五 沃素フィーダー 2 粗金属チタン用ボット4、
気化器 a 沃化チタン用捕集ポ、ト
9 沃化チタン精製塔 1α 不純物沃化物用ボット 11、沃素蒸溜塔 12、沃素急冷トラ、ブ 1五 冷却器 21、沃化チタン気化器 2& り、シ1ンタンク2
2− 蒸溜塔 27. 沃化カリウ
ム溶液2五 精製沃化チタントラ、プ2a 流量計2
4、 冷媒 29. ヒーター2
5、 揮発性不純沃化物トラ、プ 特許出願人 東洋曹達工業株式会社 時間
Claims (1)
- 沃化チタンを蒸溜精製する際、蒸溜温度と捕集温度を段
階的に変化制御することにより、初期揮発物をすみやか
に系外に排気し、超高純度沃化チタンのみを捕集するこ
とを特徴とする超高純度沃化チタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61026846A JPH062588B2 (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 超高純度沃化チタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61026846A JPH062588B2 (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 超高純度沃化チタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62292618A true JPS62292618A (ja) | 1987-12-19 |
JPH062588B2 JPH062588B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=12204637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61026846A Expired - Lifetime JPH062588B2 (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | 超高純度沃化チタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH062588B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996020892A1 (en) * | 1995-01-06 | 1996-07-11 | Materials Research Corporation | METHODS AND SYSTEMS FOR PRODUCING ULTRA HIGH PURITY TITANIUM TETRAIODIDE (TiI4) AND ULTRA HIGH PURITY TITANIUM METAL |
EP0915178A2 (en) * | 1990-02-15 | 1999-05-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sputtering target of highly purified titanium |
JPWO2016110965A1 (ja) * | 2015-01-07 | 2017-12-21 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | ニトロソ化合物の処理方法および処理装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52129676A (en) * | 1976-04-24 | 1977-10-31 | Kikuo Adachi | Fractionation method and apparatus |
-
1986
- 1986-02-12 JP JP61026846A patent/JPH062588B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52129676A (en) * | 1976-04-24 | 1977-10-31 | Kikuo Adachi | Fractionation method and apparatus |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0915178A2 (en) * | 1990-02-15 | 1999-05-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sputtering target of highly purified titanium |
EP0915177B1 (en) * | 1990-02-15 | 2003-05-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Highly purified hafnium and sputtering target using the same |
WO1996020892A1 (en) * | 1995-01-06 | 1996-07-11 | Materials Research Corporation | METHODS AND SYSTEMS FOR PRODUCING ULTRA HIGH PURITY TITANIUM TETRAIODIDE (TiI4) AND ULTRA HIGH PURITY TITANIUM METAL |
US5700519A (en) * | 1995-01-06 | 1997-12-23 | Sony Corporation | Method for producing ultra high purity titanium films |
JPWO2016110965A1 (ja) * | 2015-01-07 | 2017-12-21 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | ニトロソ化合物の処理方法および処理装置 |
US10434459B2 (en) | 2015-01-07 | 2019-10-08 | Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. | Method and device for treating nitroso compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH062588B2 (ja) | 1994-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2368568C2 (ru) | Способ получения кремния | |
US2369214A (en) | Method of purifying boron trichloride | |
US4176169A (en) | Method of extracting iodine from liquid mixtures of iodine, water and hydrogen iodide | |
CN103998375B (zh) | 高纯度氯代聚硅烷的制造方法 | |
KR20010049821A (ko) | 초고순도 텅스텐 헥사플루오라이드를 제조하는 방법 | |
US2807574A (en) | Treatment of unreacted ammonia in the manufacture of urea | |
JP2719211B2 (ja) | 高次シランの製造法 | |
JPS62292618A (ja) | 超高純度沃化チタンの製造方法 | |
US3688474A (en) | Collection of metal carbonyls | |
JPS6366770B2 (ja) | ||
US2470306A (en) | Process for the production and refining of metals | |
Kekesi et al. | Copper extraction from chloride solutions by evaporation and reduction with hydrogen | |
US2844441A (en) | Process of purifying liquid silicon halide | |
TWI257875B (en) | Process for purifying gaseous inorganic halides | |
JP3959259B2 (ja) | フッ化水素の回収方法 | |
JPH02196014A (ja) | 高純度ジクロロシランの製造方法 | |
US2822889A (en) | Chlorine purification | |
JP6486049B2 (ja) | ペンタクロロジシランの製造方法並びに該方法により製造されるペンタクロロジシラン | |
JPS61500661A (ja) | 塩化アルミニウムの精製方法 | |
JP2001172020A (ja) | 高純度六フッ化タングステンの精製方法 | |
US3145079A (en) | Process for the preparation of purified hydrogen bromide gas by the use of activated arbon as catalyst | |
JPH03215633A (ja) | 高純度チタンの精製方法 | |
US3043665A (en) | Purification of boron trichloride | |
JP2016064951A (ja) | オクタクロロトリシランの製造方法並びに該方法により製造されるオクタクロロトリシラン | |
WO2020196246A1 (ja) | 六フッ化タングステンの製造方法、その精製方法、および六フッ化タングステン |