JPS6228359A

JPS6228359A - 真空コンテナ

Info

Publication number: JPS6228359A
Application number: JP15601385A
Authority: JP
Inventors: 昌樹楠原
Original assignee: Wakomu KK
Current assignee: Wakomu KK
Priority date: 1985-07-17
Filing date: 1985-07-17
Publication date: 1987-02-06
Also published as: JPH057270B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、真空コンテナに関するものであり、特に、半
導体ウェーハ、および該ウェーハを保持しているキャリ
アを、真空の状態で収納して、前記ウェーハを汚染しな
いように保持することができる真空コンテナに関するも
のである。

（従来の技術）従来から、例えばシリコン等の半導体ウＬ−ハ（以下、
単にウェーハという）の製造工程では、該ウェーハを化
学処理した後の洗浄工程が必要であった。そして、この
洗浄工程を一つの装置と１２で具体化したのが、よく知
られているように、蒸気洗浄装置である。

この蒸気洗浄装置では、まずウェーハは、キャリアに保
持された状態で該装置内に装填される。

その後、ウェーハは、キャリアを移動する可動ハンガに
より、キャリアと共に、イオンを除去し・た水（以下、
ＤＩウォータという）の中に浸漬され、洗浄される。

このようにして洗浄されたウェーハは、その俊、蒸気洗
浄槽の中へ前記可動ハンガによってキャリアと共に運ば
れる。

この蒸気洗浄槽では、石英容器の中へ適量入れられた、
例えばイソプロピルアルコール（以下、ＪＰＡという）
が下からのヒータの熱によって温めＩしれて、該容器中
で気化している。

このＩＰＡの蒸気中に、前記ウェーハが運ばれてくると
、水分（ＤＩウォータ）の付着したつ工−ハにより、Ｉ
ＰＡ蒸気が冷却液化され、ウェーハ表面を流下する。そ
の間に、ウェーハに付着していた水分は、ＩＰＡと置換
され、水分がウェーハから除去される。

また、ウェーハはＩＰＡの蒸気により次第に加熱され、
ウェーハの温度がＩＰＡ蒸気と同等になると、ＩＰＡの
液化は起らなくなる。

この為に、前記ＤＩつＡ−一夕の洗浄によってイ」看し
た微小な異物等はきれいに洗い流されると共に、ウェー
ハ表面は、乾燥状態となる。

なお、前記石英容器の上部には、前記ウェーハを保持し
たキャリアが人出可能な空間を残して蛇管が配設されて
いる。これは、気化したＩＰＡが蛇管内を流れる冷却水
によって冷され、液化して、再び石英容器の中へ還元さ
れるようにする為でおる。

以上のようにして、蒸気洗浄乾燥されたウェーハは、可
動ハンガによってキャリアと共に、蒸気洗浄装置のウェ
ーハ取出し部まで運ばれ、その後、取り出されることに
なる１□ ところで、よく知られているように、蒸気洗浄装置から
取り出されるウェーハは、常に、清浄（クリーン）な状
態に保たれている必要がおる。

これは、前記洗浄乾燥１（、ウェーハ表面には、微細イ
【プリン１〜回路等のパターンが形成されるからである
。また、洗浄前のウェーハ、すなわち蒸気洗浄装置に装
填される前のウェーハも、当該装置の内部をできるだけ
清浄な状態に保つ為に、微小塵埃（以下、バーディクル
という）が付着しないようにする必要がある。

そこで、従来にあい（は、つＬ−ハを保持したキャリア
を、蒸気洗浄装置の内部へ装填する時、または、前記キ
ャリアを該装置の内部から取り出１時、および該キレリ
ノ・′を予定の場所へ移動する時【５二は、作業者は防
塵用の服を着て、ざらに防１層用の手袋をはめるなどし
て、それらの作業を行なっていた。

また、蒸気洗浄乾燥された後のつ丁−凸表面は、前記し
たように、乾燥状態となる。しかし、これをミクロ的に
見ると、薄膜状態または分子単位で、ＩＰＡがウェーハ
表面に微量残存しているのが通常である。

なあ、このようなＩＰＡは、時間の経過につれて自然拡
散する為に消失し、完全な乾燥状態となる。

（発明が解決しようとする問題点）上記した従来の技術は、次のような問題点を有していた
。

（１）ウェーハを保持したキャリアを、蒸気洗浄装置の
内部へ装填する時、または、前記キャリアを該装置の内
部から取り出す時、ざらに該キャリアを予定の場所へ移
動する時には、作業者は防塵服等を看ることによって、
ウェーハにパーティクルが付着しないように配慮してい
るが、従来は、ウェーハを保持したキャリアを、直接人
の手によって持ち運びする為に、どうしてもウェーハ表
面に無機質および／または有機質のパーティクルが付着
するという欠点がめった。

（２）ウェーハを保持したキャリアを、蒸気洗浄装置か
ら取り出して、次の処理作業に入るまでに時間がある場
合には、該時間、前記キャリアを保存しておかなければ
ならないが、この間に、ウェーハ表面にパーティクルが
付着するという欠点かあつ　Ｉご。

（３）前記したように、蒸気洗浄乾燥後のウェーハ表面
には、自然拡散する前のＩＰＡが薄膜状態または分子単
位で付着している。この為に、ウェーハを・蒸気洗浄乾
燥した後、直ちに、次の工程での処理を行なうことがで
きないという欠点があった。

プなわら、従来においては、ウェーハを蒸気洗浄乾燥し
てから、次の工程の処理を行なうまでには、ＩＰＡが完
全に自然拡散するまで、予定時間待たなければならない
という欠点がめった。

本発明は、前述の問題点を解決するためになされたもの
である。

（問題点を解決するための手段および作用）前記の問題
点を解決するために、本発明は、つ工−ハを保持するキ
ャリアを載置する基台と、前記基台上にあるキャリアを
覆う蓋と、前記基台および蓋により形成される内部空間
と外部とを選択的に連通・遮断する手段とを有する真空
コンテナを設けて、前記キャリアを、必要に応じて、真
空状態で前記真空コンテナに収納するようにした点に特
徴がおる。

（実施例）以下に図面を参照して、本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の一実施例の一部断面図である。

また、第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿う一部断面図で
おる。

これらの図において、例えばテフロン製の基台１には、
第１のコック２を矢印六方向へ倒することにより開状態
となる吸気口３と、第２のコック４を矢印Ｂ方向へ倒す
ることにより開状態となる排気口５とが設けられている
。

なお、前記第１のコック２あにび第２のコック４のそれ
ぞれは、矢印Ａまたは矢印Ｂ方向への力が加わっていな
い時には、自動復帰して常に閉状態となっている。

前記吸気口３および排気口５は、それぞれ、基台１に埋
め込まれている給気管６および排気管７の一端と接続さ
れている。そして、前記給気管６ｊ−３よび排気管７の
他端は基台１の上面まで達し、そこで開口している。

また、前記給気管６の中間にはミクロフィルタＢが配設
されている。基台１の上面周辺部には輪環状の凹陥部９
が形成され、該凹陥部９にはＱリング１０が嵌め込まれ
ている。

蓋１１は、その開口端部のフランジ部１１ａが基台１の
上面周辺部と接触するようにして、基台１、Ｊ：に載置
されている。この蓋１１の材質としては６例えばＡＢＳ
樹脂、ポリカーボネート、石英または金属などが好適で
ある。

第２図から明らかなように、フランジ部１１ａの上部付
近には、２つの係止部材１２および１３が対向するよう
にして配設されている。この係止部材１２．１３は、基
台１と蓋１１とが圧接状態で相互に固定されるようにす
る為のものである。

そして、係止部材１２．１３は、その上端部に、それぞ
れ矢印Ｃ方向または矢印り方向の力が加えられると、支
軸１２ａ、１ａａを中心に、反時計方向または時計方向
に回転づる。この為に、基台１と益１１との圧接固定状
態は、解除が可能となる。

ここで、第１図および第２図に示した本実施例の動作に
ついて説明する。

まず、基台１の上に、ウェーハ１４を保持したキャリア
１５を、第１図に破線で示すように載せる。その後、蓋
１１を基台１上に載置する。

なあ、この載置の際には、係止部材１２，１３の上端部
に矢印Ｃまたは矢印り方向の力を加えて、係止部材１２
．１３の下端部が外側に開く状態とする。その後、矢印
Ｃまたは矢印り方向の力を除去して、基台１を係止部材
１２．１３で挟み込むよ“うにする。

次に、排気口５に、真空ポンプから引き出されている管
（図示せず）を連結して、第２のコック４を矢印Ｂ方向
へ倒す。この結果、基台１および諮１１からなる真空コ
ンテナ５０の内部ガスは、排気管７を介して吸引される
。すなわち、ウェーハ１４を保持したキャリア１５が収
納された真空コンテナ５０の内部は、真空状態となる。

これにより、基台１と若１１とが相互に強く吸着される
ばかりでなく、真空コンテナ５０の内部にはパーティク
ルが侵入できなくなる。

なお、前記した係止部材１２，１３は、前記真空コンテ
ナ５０内部の真空度が低下してぎて、基台１と蓋１１と
の吸着状態が弱まった場合も、相互の圧接状態が解消さ
れないようにする為のものである。

すなわち、前記真空度が低下した為に、基台１と蓋１１
との吸着状態が解除されるようになっても、係止部材１
２．１３があれば、基台１と益１１との接触部にすき間
が生じてパーティクルが侵入したり、または、蓋１１を
持って真空コンテナ５０を移動する場合に、基台１およ
びウェーハ１４を保持したキャリア１５が落下したりす
るという事態は防止されることになる。

したがって、真空コンテナ５０内部の真空度が、必要な
時間、十分に保たれるのであれば、係１１部材１２．１
３は必要でなくなる。また、上記した機能を有する係止
部材１２が、基台１側に取付けられていても差し支えな
いことは勿論でおる。

前記したように（）て、真空コンテナ５０に収納された
つ丁−ハ１４を保持したキャリア１５を取り出す為には
、まず、例えば、Ｎ２ガスボンベに接続されている管（
図示せず）を、吸気口３に連結（）て、第１の］ツク２
を矢印へ方向へ倒す。

このようにすると真空コンテナ５０内部には、ミクロフ
ィルタ８によ・〕で濾過された清浄なＮ２ガスが吸入さ
れる１、この結果、前記真空状態は解除される。そこで
、こんどは、係止部材１２゜１３の上端部に矢印Ｃまた
は矢印り方向の力を加える。

その後、この状態で、Ｗｌｌを持ち上げる。なｄ３、当
然のことながら、蓋１１の位置はそのままとし−Ｃ，基
台１のｈを王降させるようにしても、前記キャリア１５
を取り出すことができる。

なｄ３、以上の説明では、排気管７および給気管６をそ
れぞれ設けて真空コンテナの内部空間を真空状態にした
り、または、該真空状態を解除したりする場合であった
。しかし、本発明では、例えば、前記給気管６のみを配
設するようにして、真空状態または該状態の解除を実現
するようにし・でもよい。

ただし、ウェーハ１４を保持したキャリ）フ］５を収納
して、内部空間を真空にする為に、吸引する内部ガスに
パーティクルが含まれている’ＦＡ’Ｄには、一旦、ミ
クロフィルタ８に付着した該パー゛ｊ−イクルが、その
後、真空状態を解除する際に、再び前記内部空間へ戻さ
れ、ウェーハ１４の表面を汚染するおそれがある。

したがって、本実施例のように、排気管７および給気管
６のそれぞれを設ける構造とじた方が望ましい。

また、以上では、給気管６の中間にミクＬ］ノ、イルタ
８を設けるようにしたが、例えば清浄なＮ２ガスが吸気
口３から注入される状態でおれば、該ミクロフィルタ８
が不要となることは勿論である。

ここで、本実施例の真空コンテナ５０を用いてつ１−ハ
１４を保持したキ℃・リア１５を蒸気乾燥洗浄装置の内
部へ装填したり、または、前記主ヤリ”ノアを該装置内
部から取り出したりする場合について説明する。

第３図は、ウェーハ挿入・取出部２０がパススルールー
・ムとなっている蒸気乾燥洗浄装置の一部断面図である
。図において、第１図および第２図と同一の符号は、同
一または同等部分を必られしている。

第３図において、ウェーハ挿入・取出部２０には、本実
施例の真空コンテナ５０が載置できるし〜ル台２１が、
その下部に配置されている。前記レール台２１の手前側
には、手動で開閉する外扉（図示せず）が形成されてい
る。

前記レー・ル台２１の上方には、蒸気乾燥洗浄装置の内
部雰囲気からつ丁−ハ挿入・取出部２０を仕切る為の天
井部２２が設けられ、ざらに、該大月部２２には、既知
の手段により自動的に開閉する内扉２３が設Ｃプられて
いる。１すなわち、ウェーハ挿入・取出部２０は、内扉２３を閉
塞することによって、蒸気乾燥洗浄装置の内部雰囲気か
ら遮断されるように構成されている。

このウェーハ挿入・取出部２０の上部には、ＮＺガスを
、該ウェーハ挿入・取出部２０の内部に供給する為の給
気ダクト２４ａおよび２４ｂが配設されている。

また、ウェーハ挿入・取出部２０の底板部には、前記給
気ダクト２４ａおよび２４ｂから供給されるＮ２ガスを
排気する為の排気ダクト２５ａおよび２５ｂが配設され
ている１゜ざらに、前記レール台２１の下部に当るウェーハ挿入・
取出部２０の底板部ｋＴは、本実施例の真空コンテナ５
０を挿入または引き出す際に、該真空コンテナ５０とレ
ール台２１との摩耗によって生じるパーティクルを、貫
通孔２７を介して吸引し、排出する為の吸入ダクト２６
が設けられている。

また、「りＪ−ハ挿入・取出部２０内に設けられている
ロボットアーム２８は、レール台２１に載置された真空
コンテナ５０の蓋１１を、載置台２９に載せたり、また
は前記載置台２９に必る蓋１１を、真空コンテナ５０の
基台１上に戻したりする為のものである。

なお、このロボットアーム２８の先端部２８ａは、既知
の適宜の方法により、前記蓋１１を握持てきるようにな
っているものであればよい。

したがって、このロボットアーム２８によって、益１１
が支持される時には、係止部ｖＪ１２．１３（第２図参
照）の上端部には、矢印Ｃまたは矢印Ｄプｊ向の力が加
えられる為に、前記係止部材１２゜１３の下端部は外側
に開かれる状態となる。

この結果、ロボットアーム２Ｂに蓋１１が握持される時
には、該ｉ１１のみが持ち運ばれることになる。

ウェーハ挿入・取出部２０の内部には、真空コンテナ５
０をレール台２１に載置した状態で、必要に応じて、第
１のコック２または第２のコック４を矢印Ａまたは矢印
Ｂ方向（第１図参照）に倒す為の操作杆が配設されてい
る。なお、この操作杆は、図面を簡略化する為に図示を
省略している。

また、ウェーハ挿入・取出部２０の内部には、真空ポン
プ（図示せず）とその一端が接続されている管４０が、
排気口５と十分に連結可能な長さを有して挿入されでい
る。

次に、ＤＩつ４−夕洗浄槽３０を構成する容器３１の中
には、ＤＩつ４−夕３２が常に適量貯留されている。、
なお、このＤＩつを一部３２は、図示しない既知の手段
により、常時予定量が放水され、かつまた、前記放水量
だけ供給されている。

この為に、常に、清浄な状態に保たれている。

蒸気洗浄槽３３は、以下のような構成からなっている。

すなわち、ヒータが密閉状態で内蔵されているアルミブ
ロック３４の上には、ＩＰＡ３５を入れた石英容器３６
が置かれている。

なあ、この石英容器３６の上方には、図面を簡略化する
為に図示しないが、ＩＰＡ３５の蒸気を冷却して凝縮還
元する為の蛇管が配設されている。

以上のような構成からなる蒸気乾燥洗浄装置では、まず
、オペレータが、ウェーハ挿入・取出部２０の外扉を聞
いて、真空コンテナ５０をレール台２１の上に載せる。

なお、この真空コンテナ５０には、ウェーハ１４を保持
したキャリア１５が、真空状態で収納されている。

その後、オペレータは、排気口５と管４０の先端部とを
連結して、真空コンテナ５０をウェーハ挿入・取出部２
０の所定場所まで、レール台２１に沿って移動させる。

このようにして、レール台２１の所定場所に載置された
真空コンテナ５０を、第１図に示す。

前記真空コンテナ５０を所定場所まで移動させたオペレ
ータは、ウェーハ挿入・取出部２０の外扉を閉じる。

なあ、真空コンテナ５０＠装填する際に、外扉を開ける
ので、ウェーハ挿入・取出部２０の内部雰囲気と外気と
は連通状態となるが、この状態ぐは、内扉２３は閉じら
れているので、蒸気乾燥洗浄装置の内部雰囲気と外気と
が連通状態となることはない。したがって、前記装置の
内部雰囲気は汚染されない。

また、第３図では、ウェーハ挿入・取出部２０の内部に
、濾過された清浄なＮ２ガスを、常時、給気ダクト２４
ａおよび２４ｂから供給していβ。

この結果、ウェーハ挿入・取出部２０の内部は外気圧に
対して陽圧状態であるので、真空＝１ンテーＪ−５０を
装填する為に、外扉が開けられても、該つ工−ハ挿入・
取出部２０の内部に外気中の微小な異物等が侵入する心
配はほとんどない。

なあ、第３図では、貫通孔２７を介して吸入ダクト２６
から前記Ｎ２ガスを吸引している。この為に、前記真空
コンテナ５０をレール台２１に沿って移動させる際に、
該真空コンテナ５０とレール台２１との摩耗によって生
ずるパーティクルは、前記Ｎ２ガスと共に吸引されて排
出される。

また、真空コンテナ５０を装填した後、外扉を閉じてか
ら、予定の時間、該真空コンテナ５０はウェーハ挿入・
取出部２０の中にそのままの状態Ｃ置かれる。これは、
真空」ンテナ５０を、オペレータがウェーハ挿入・取出
部２０内に装填する際に、該「ウェーハ挿入・取出部２
０の内部にはパーティクルが侵入するので、これを前記
Ｎ２ガスの流れによって排出する為である。

すなわち、給気ダく７ト２４ａｉＪ３よび２４ｂから供
給されたＮ２ガスは、ウェーハ挿入・取出部２０の内部
を通過して、前記吸入ダク１へ２６に吸引されて排出さ
れると共に、排気ダクト２５　ａ　ｉ１３よび２５ｂか
らも排気されるが、この時、前記パーティクルも同時に
排出して、ウェーハ挿入・取出部２０の内部雰囲気を清
浄な状態とする。

前記予定時間が経過すると、図示しない操作杆によって
、第１のコック２は矢印Ａ方向（第１図参照）へ倒され
る。この結果、つＴ−ハ挿入・取出部２０内部のＮ２ガ
スは、吸気口３→給気管６−中ミクロフィルタ８→給気
管６を通って、真空」ンテナ５０の内部に注入される。

すなわら、真空コンテナ５０の内部は、清浄なＮ２ガス
によンて満たされるので、真空状態が解除される。

その後、ロボットアーム２８か既知の過負゛の１段によ
り移動してきて、その先端部２８ａで、前記したにうに
、真空コンテナ５０の益１１を握持して、該蓋１１を載
置台２９まで運ぶ４．この結果、Ｍｌｌは載置台２９の
上に置かれた状態となる。

その後、内扉２３が、既知の手段により自動的に開状態
となり、つづいて可動ハンガ３７が、つ工−ハ挿入・取
出部２０内へ侵入して、キャリア１５の孔１５ａと係合
する。

そして、前記キャリア１５は、可動ハンガ３７によって
蒸気乾燥洗浄装置の内部空間へ運び出される。その後、
内扉２３は、自動的に閉塞状態となる。

前記蒸気乾燥洗浄装置の内部空間へ運び出されたウェー
ハ１４は、まず、可動ハンガ３７によって、キャリア１
５と共に、ＤＩウォータ３２に浸漬され、清浄される。

その俊、ウェーハ１４は、キャリア１５と共に可動ハン
ガ３７によって蒸気洗浄槽３３の中へ運ばれる。

そして、ここで蒸気洗浄乾燥されたウェーハ１４は、キ
ャリア１５と共に可動ハンガ３７によって、一旦、蒸気
洗浄槽３３の上方へ持ち上げられ、その後、再び、ウェ
ーハ挿入・取出部２．０の上方まで運ばれる。なお、こ
の時、ウェーハ挿入・取出部２０の内扉２３は自動的に
開かれる。

前記ウェーハ挿入・取出部２ｏの上方まで運ばれてきた
ウェーハ１４は、キャリア１５と共に可動ハンガ３７に
よって降下され、ウェーハ挿入・取出部２０の内部に挿
入され、その後、再び基台１上に載置される。

このようにして、ウェーハ１４を保持したキャリア１５
が、基台１上に載置されると、可動ハンガ３７のみが上
昇してウェーハ挿入・取出部２０の外部に出る。そして
、これとほぼ同時に内扉２３が閉塞状態となる。

その後、載置台２９上に置かれていた蓋１１が、ロボッ
トアーム２８の先端部２８ａに握持されて、前記キャリ
ア１５を収納するような状態で、基台１上に載置される
。前記蓋１１の載置が完了すると、ロボットアーム２８
はウェーハ挿入・取出部２０の内部の予定場所へ戻る。

なあ、この時には、係止部材１２．’１３によって、前
記蓋１’ｌと基台１とは圧接状態となっている。

その後、図示しない操作杆によって第２のコック４が矢
印Ｂ方向（第１図参照）へ倒され、さらにこの状態で真
空ポンプが作動する。この為に真空コンテナ５０の内部
カス、すなわちＮ２ガスは、排気管７→排気ロ５→管４
０を通って外部へ吸い出されることになる。

この結果、基台１と蓋１１とは相互に強く吸着されるの
で、両者の接触部にはすき間が生ずることがなくなる。

したがって、仮に、真空コンテナ５０の周辺雰囲気中に
パーティクルが存在するようになっても、該パーティク
ルは、真空コンテナ５０の内部に侵入することはない。

ところで、蒸気洗浄乾燥されて、基台１に載置されたウ
ェーハ１４の表面には、前記したように、自然拡散する
前のＩＰＡが薄膜状態または分子単位で付着している。

そこで、第３図では、このようなＩＰＡをつ工−ハ１４
の表面から早期に完全に除去する為に、ウェーハ挿入・
取出部２０の内部に赤外線ランプ３８ａ、３８ｂを設け
てウェーハ１４に赤外線を照射し、該ウェーハ１４を加
熱するようにしている。

ただし、このように、ウェーハ１４に赤外線を照射する
場合には、蓋１１の材質は、赤外線を透過するものであ
ることが望ましい。

そしてざらに、本実施例の真空コンテナ５０では、前記
したように、内部Ｎ２ガスを吸引して、その内部が真空
状態となるようにしている。この為に、ウェーハ１４の
表面に薄膜状態または分子単位で付着しているＩＰＡは
、より一層早期に完全に拡散されることになる。

なお、赤外線ランプ３８ａ、３８ｂを特に設けず、真空
コンテナ５０内部を真空状態とするのみでも、ＩＰＡの
拡散は促進される。

前記したようにして、真空コンテナ５０の内部が真空状
態になった後、第２のコック４を閉状態に復帰すると共
に、真空ポンプを停止する。

その後、オペレータは、外扉を開けて、真空コンテナ５
０をレール台２１上を滑らせながら手前に引きよせる。

そして、オペレータは、管４０を排気口５から取り外し
て、真空コンテナ５０を外部へ取り出す。その後、外扉
を閉める。

（発明の効果）以上の説明から明らかなように、本発明によれば、つぎ
のような効果が達成される。

（１）ウェーハを保持したキャリアを、必要に応じて、
真空状態で収納できる真空コンテナを設けるようにした
ので、人の手が直接前記キャリアに触れることがなくな
り、従来中じていた、人の手の接近によりウェーハ表面
にパーティクルが付着するという状態は、回避すること
ができる。

（２）清浄な表面とされたウェーハを保存する場合にも
、この保存期間中に、ウェーハ表面にパーティクルが付
着するという状態は生じない。

（３）真空状態でウェーハが収納され保存されるので、
ウェーハ表面に薄膜状態または分子単位で付着している
ＩＰＡは、比較的早期に拡散されることになる。

（４）前記（３）に加えて、真空コンテナの外部より赤
外線を照射して、ウェーハを加熱するようにずれば、ウ
ェーハ表面に薄膜状態または分子単位で付着しているＩ
ＰＡは、より一層早期に拡散されることになる。この結
果、半導体ウェーハの製造作業時間は短縮される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の一部断面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ線に沿う一部断面図、第３図は、第１図およ
び第２図の真空コンテナが適用される蒸気乾燥洗浄装置
の一例を示す一部断面図でおる。１・・・基台、２・・・第１のコック、３・・・吸気口
、４・・・第２のコック、５・・・排気口、６・・・給
気管、７・・・排気管、８・・・ミクロフィルタ、１１
・・・蓋、１２、’１３・・・係止部材、１４・・・ウ
ェーハ、１５・・・キャリア

Claims

【特許請求の範囲】

（１）半導体ウェーハを保持するキャリアを載置する基
台と、前記基台上にあるキャリアを覆う蓋と、前記基台および蓋により形成される内部空間と外部とを
選択的に連通・遮断する手段とを具備したことを特徴とする真空コンテナ。
（２）前記基台と前記蓋とを圧接状態で相互に固定する
手段が設けられていることを特徴とする前記特許請求の
範囲第１項記載の真空コンテナ。
（３）前記連通・遮断手段が、前記基台を貫通して、そ
の一端が前記内部空間に開口し、他端が外部に開口して
いる管体と、前記管体に設けらけたコックとであること
を特徴とする前記特許請求の範囲第１項または第２項記
載の真空コンテナ。
（４）前記管体が、排気用管体と給気用管体とからなり
、前記給気用管体の中間にフィルタが設けられているこ
とを特徴とする前記特許請求の範囲第３項記載の真空コ
ンテナ。
（５）前記蓋が、赤外線を透過するものであることを特
徴とする前記特許請求の範囲第１項、第２項、第３項ま
たは第４項記載の真空コンテナ。