JPS62283595A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 加熱室内で被加熱物を均一に加熱する為に高周波電磁波
を攪拌する為にスタラーを設けた高周波加熱装置におい
て、このスタラーの形状に関するものである。

？θ、ゴ乙６）十禽り千 従来から加熱室内の高周波電磁界の分布を均一にする方
法としてスタラ一方式がよく採用されてきた。

しかし最近米国でも高周波加熱装置の応用製品である電
子レンジはコンパクト化が進みより加熱室が小さいもの
が要求されてきた。その時従来の種々のスタラーの技術
で解決できない問題が生じてきた。

発明が解決しようとする問題点 加熱室が小さくなってくると、食品などの大きさは変わ
らないので、加熱室に対する食品の容積比率が増加して
くる。容積の大きい被加熱物の場合は加熱室に高周波電
磁波を供給する為の開口部と、被加熱物の距離が非常に
近くなり、被加熱物の開口部に近い所は異常に加熱され
、それ以外の部分はほとんど加熱しなくなってしまって
いた。

又スタラーは送風により回転される場合が多い。

その為に回転軸のクリアランスは比較的大きい必要があ
る６したがうてスタラー先端に設けられた±噂＾仲碧ｌ
、−←闇ヒー々輌７αツ：ＬτＩｆ−１１ｈ１．ノー一
−１’：’＋４＝−Ｊ−叩Δ−で、従来から攪拌翼と加
熱室壁や、スタラーを覆う為のカバーとの隙間は比較的
大きくな−でいたので加熱室の有効容積も大きくするこ
とは困難であった。

問題点を解決するための手段 スタラーに反射板を設けて開口からの高周波電磁波が直
接被加熱物に照射しない構成とし、反射板と翼支板との
高さを異ならせるものである。

作　　用 この構成により従来の欠点であ−た加熱分布の悪さを改
善し、かつ容積の少ないスタラー羽根が可能となるもの
である。

実施例 以下本発明を家庭用電子レンジに応用した一実施例に基
すき、作用も含めて説明する。

第１図は本発明の一実施例の断面図である。

第１図において高周波発振器であるマグネトロン（図示
せず）からの高周波電磁波は、導波管１を通り開口２よ
り加熱室３内に入る。開口２からの高周波電磁波が直接
負荷４に照射しないように金属製スタラー５に反射板６
が設けられている。反射板６と開口２との距離へ寸法が
重要でこのへ寸法が少ないと開口２からの高周波電磁波
が、反射板６で反射してしまい負荷４への出力が低下し
てしまう。

へ寸法があまり大きいと、負荷４への出力は多いが、負
荷４の入る加熱室３の有効スペースが少なくな−てしま
う。開口２からの高周波電磁波は矢　゛印Ｂの方向に伝
搬してスタラー５の攪拌Ｒ７で攪拌されて負荷４に照射
されるので、大きな負荷４でも一部が極端に強く加熱さ
れることはない。

又スタラー５は送風により駆動されるのでスタラー５の
下方に、スタラー６を覆う為低損失誘電体で作られたカ
バー８が設けられ、カバー８の略中央にはスタラー５を
回転軸支する為の突起９が設けられ、スタラー６の中央
にリベット１０により取付けられた、ボス１１により回
転摩擦が少なくなるように突起９の頂点で接触して回転
軸支している。突起９とボス１１の間は、小さい隙間が
ある為、風力でスタラー５が回転した時攪拌翼７の先端
は上下にガタソイてしまう。その為、カバー８と、攪拌
７を支えている翼支板１２との隙間Ｃはある一定以上必
要となる。そこでスタラー５を構成する反射板９と翼支
板１２の高さを異ならせることにより、加熱室３の有効
スペースを大きくすることができる。

第２図は第１図のスタラー５を上から見た図であり反射
板６の周囲に６枚の攪拌翼下を支える、翼支板１２が配
置されている。

スタラー羽根５の中央部には、スタラー５を回転軸支す
る為のボス１１がリベット１０により取り付けられてい
る。１３は負荷４を置ぐ載置台、１４は本体１５を支え
る却である。

発明の効果 （１）加熱室内の負荷と開口との間に、反射板６が設け
られているので、開口からの高周波電磁波が直接負荷に
照射しなく、スタラーの攪拌翼を通過して負荷に照射す
るので、加熱室に比べて比較的大きい負荷を加熱しても
、極部的な異常加熱はなく、均一に加熱される。

（２）反射板と開口との距離を大きくとっているので、
高周波電磁波が反射板に反射されて、負荷に電磁波が吸
収されにくいということはない。

（３）開口と負荷の間にスタラーの攪拌翼があるのでス
タラーの攪拌効率が良い。

（４）反射板と、翼支板に段差を設け、カバーと翼支板
の隙間を充分設けているので、スタラーが回転して、ス
タラーがガタソイでも翼支板の先端がカバーに接触する
ことはない。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例における高周波加熱装置の断
面図、第２図は同要部平面図である。 ６・・・・・・スタラー、６・・・・・・反射板、７・
・・・・・攪拌翼、１２・・・・・・翼支板。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　はが１名Ｓ−
一一スグラ− 第２図 １？

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 加熱室と、前記加熱室に高周波電磁波を供給する開口と
   、前記加熱室内の高周波電磁波を攪拌するスタラーを有
   し、前記開口は前記加熱室の中央上部に配置され、前記
   スタラーは、反射板と攪拌翼と翼支板とを有し、前記反
   射板は前記スタラーの回転中心に配置され、翼支板は前
   記反射板の周縁に取り付けられ、前記反射板は前記開口
   の下方に配置し、前記反射板と前記翼支板の高さを異な
   らせたことを特徴とする高周波加熱装置。