JPS62280316A - 溶融還元における装入物制御法 - Google Patents

溶融還元における装入物制御法

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JPS62280316A
JPS62280316A JP12377986A JP12377986A JPS62280316A JP S62280316 A JPS62280316 A JP S62280316A JP 12377986 A JP12377986 A JP 12377986A JP 12377986 A JP12377986 A JP 12377986A JP S62280316 A JPS62280316 A JP S62280316A
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JP
Japan
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furnace
gas
blown
exhaust gas
inert gas
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Pending
Application number
JP12377986A
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English (en)
Inventor
Masachika Fukuda
福田 正親
Masaki Takenaka
竹中 正樹
Hirokichi Hashimoto
橋本 紘吉
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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  • Manufacture Of Iron (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 [a梁上の利用分野] この発明は鉱石を炭材て直接的に還元する溶融還元にお
ける炉内への装入物制御法に関するものである。
[従来の技術] 従来、溶融還元炉において装入物の装入量、不活性ガス
の吹き込み等についてはマニュアルにより経験的にコン
トロールされていた。
例えば、OD値がある一定値を超えると、マニュアルに
より鉱石を没入し、OD値がある一定値を超えると、マ
ニュアルにより炭材を没入し、これによってoD値を一
定に保つようにしていた。
[発明か解決しようとする問題点コ 上記のような従来の熔融還元では、人かOD値を測定し
、このOD値に基いて鉱石の装入、ガスの吹き込み等を
行っているために、運転が面倒であり、またコントロー
ルも正確にでキ難いという問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、人かOD値を計測し、このOD値に基いて鉱どの
没入、炭材の没入等をせず、自動的にOD値を一定に保
つことができる装入物制御法を得ることを目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明に係る溶融還元における装入物制御法は、不活
性ガスの炉内への吹き込み装置を備えた溶融還元炉の還
元中に、炉内へ吹き込まれる不活性ガスのガス種、ガス
流量と、炉口から排出される徘ガスの成分分析値とから
、炉内の二次燃焼率を周期的に算出し、OD値に応じて
装入物の種類、量の決定と装入とを自動的に制御するよ
うにしたものである。
〔作用] この発明においては、演算装置が、与えられたガスの成
分の情報を演算処理して鉱石没入、又は炭材役人を行な
うから、OD値が目的とする範囲に保たれる。
[実施例コ 第1図はこの発明の一実施例を示す説明図であり、(1
)は溶融還元炉、(2)はこの溶融還元炉内の炉底に形
成されたメタル、(3)はこのメタル上に形成されたス
ラグ、(4)は炉口から炉内に挿入された上吹きランス
、(5)は鉱石・炭材を貯蔵する貯蔵ホッパ、(6)は
鉱石・炭材を炉内に投入する没入ホッパ、(7)は底吹
き羽口、(8)排ガス処理設備、(9)は排ガス処理設
備へ排ガスを導く排ガスダクト、(10)は排ガスダク
ト中の排ガスを分析する分析計、(11)は演算処理装
置、(12)は入出力器である。
上記のように構成された装置においては、不活性ガスの
流量、炉内ガスの流量、排ガスの流量等が検出され、検
出された各成分の流量よってOD値が演算されることに
なる。
すなわち、排ガス、巻込み大気、炉内ガスがCo、CO
2,02、N2 、Arからそれぞれ構成されていると
すると、排ガス流N Y l、巻込み大気流ffi Y
 2、炉内ガス流量Y3の各バランス式は次のようにな
る。
Vco  VCO2VO2VS2  VAr・・・体積
(Nm/H)Y I =   X++   +  X1
2   ←  X13   ”   X14   ” 
  Xta   −+IF  ガ スY2= X21 
・X22 +X23 +L、+ +Xzs −大気Y3
・X31 ” Xz2” X33 ” L<十X35・
・・炉内ガス完全燃焼という仮定をすると、各バランス
式の各流量は次のように考えることができる。
排ガス中にCOは無いし、大気中にCO。
CO2は無いし、炉内ガス中に02は無いので、×目、
X2 +、X22. X33は次式のようになる。
Xz=X2+・X22・X33−0 大気の組成は一定と考えられるから、X23〜X25は
、次式のように、コンスタントな比になる。
X23 :L4:X2s−Cx* :C24:C25(
−21ニア8 : 1)炉内に吹き込む不活性ガスのガ
ス種と流量は分っているのて、X 34.  X 35
も次式のようにコンスタントになる。
X34・C34 X3S−C3S 排ガスの組成については、分析計によって分析しである
ので、X12〜XI5は、次式のように、それぞれ一定
の定数の比になり、各種計算タイミングごとに分かる。
X+2:L3:Xz+:xls”C+2:C+z:C+
+:G+sCO+  0.502 = CO2だから、
排ガス中のCO2It X’12は炉内ガスのCO+C
O2の量であり、次式のように、X31+  X 32
の和となる。
X12・X31 + X32 排ガス中の02 f Xl+は、次式のように、大気中
02量から、燃焼に使われた02分たけを差し引いたも
のである。
XB=L30.5 X31 排ガス中のN2ff1Xzは、次式のように、炉内ガス
中のN2量と大気中のN2量とを足したものである。
Xz=L4 + X34 排ガス中のAr1X+sは、次式のように、炉内ガス中
のArff1と大気中のAriとを足したものである。
XIS”X25 + X35 これら4式は、炉内から出てくるガスか大気によって燃
焼するときのバランスと、不活性ガスの流量が変化しな
いということを意味している。
これらの式から解を求めると次のようになる。
(解) X11・CzX (i・2.〜,5) (X>0)X2
J・CxjY (j・3.〜,5) (Y>0)Y+−
C+2X ” Cl:+X + C14X+ C:l5
XY2・       C2s Y + C2a Y 
+ C25YY3□Xコ+ +  X32      
   +  (:34   +  C35X3+ + 
)hz・c12X C23Y  O,5X31−C+3X C+J”C2aY + C3a C+5X−C2sY + C35 X31・2 (C2sY−(:13X)X32 ”Cl
2X  X31 −C,□X −2C2,Y +2G、3X・(C12+
 2CI3)X  2(:23YこのようにOD値を演
算装置によって算出し、OD値が所定範囲を超えた場合
には、鉱石を投入し、OD値が所定範囲に達しなかった
場合には、炭材を自動的に没入するようにさせる。
なお上記実施例では炉定から不活性ガスを吹き込み、炉
口から没入ホッパにより鉱石等を没入させているが、粉
体吹き込みによるインジクションで鉱石等を投入しても
よい。また、不活性ガスを専用のガス吹き込み装置から
ではなく、粉体吹き込み装置のキャリヤーガスで代替し
ても)よい。
ところで、上記説明ではこの発明を溶融還元に利用する
場合について述へたが、その他の精錬炉にも利用できこ
とは言うまでもない。
[発明の効果] この発明は以上説明した通り、oD値を演算装置により
自動的に求め、この値に基いてQD値を制御するように
したので、還元全期間を通じて安定した二次燃焼率を保
ち、通光効率の良い操業をすることかできるという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す説明図である。 図ニオいて、(1)は溶融還元炉、(2)はメタル、(
3)はスラグ、(4)は上吹きランス、(5)は貯蔵ホ
ッパ、(6)は投入ホッパ、(7)は底吹き羽口、(8
)徘ガス処理設備、(9)は排ガスダクト、(lO)は
分析計、(11)は演算処理装置、(12)は入出力器
である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)不活性ガスの炉内への吹き込み装置を備えた溶融
    還元炉の還元中に、炉内へ吹き込まれる不活性ガスのガ
    ス種、ガス流量と、炉口から排出される排ガスの成分分
    析値とから、炉内の二次燃焼率(OD値)を周期的に算
    出し、このOD値に応じて装入物の種類、量の決定と装
    入とを自動的に制御するようにした溶融還元における装
    入物制御法。
  2. (2)粉体吹込みによるインジェクションで装置物を装
    入することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    装入物制御法。
  3. (3)不活性ガスを専用の吹込み装置からではなく、粉
    体吹込装置のキャリアガスで代替することを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載の装入物制御法。
JP12377986A 1986-05-30 1986-05-30 溶融還元における装入物制御法 Pending JPS62280316A (ja)

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