JPS62270786A - 工業用冷却水の腐蝕を抑制する組成物および腐蝕抑制剤の性能を改良する方法 - Google Patents
工業用冷却水の腐蝕を抑制する組成物および腐蝕抑制剤の性能を改良する方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は硬度を含み且つpHが少なくとも8である工業
用冷却水の腐蝕を抑制する組成物および方法に関し、上
記組成物は水性アルカリ環境中において腐蝕を抑制する
ことができる水溶性の有機ホスホネートおよびアクリル
酸とt−ブチルアクリルアミドのようなある種の置換ア
クリルアミドとのコポリマーおよびターポリマーから成
っている。
用冷却水の腐蝕を抑制する組成物および方法に関し、上
記組成物は水性アルカリ環境中において腐蝕を抑制する
ことができる水溶性の有機ホスホネートおよびアクリル
酸とt−ブチルアクリルアミドのようなある種の置換ア
クリルアミドとのコポリマーおよびターポリマーから成
っている。
「ホスホネート」という用語は、1個以上の−PO3H
2を含む有機物質およびその塩を指す。
2を含む有機物質およびその塩を指す。
本発明に特に有用なホスホネートには、1−ヒドロキシ
−1,1−エタン−ジホスホン酸(HEDP)、2−ホ
スホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸(PBTC
) 、アミノ−トリス−メチレンホスホン酸(AMP)
およびそれらの塩がある。
−1,1−エタン−ジホスホン酸(HEDP)、2−ホ
スホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸(PBTC
) 、アミノ−トリス−メチレンホスホン酸(AMP)
およびそれらの塩がある。
ポリマー、ホスホネートおよび組成物の濃度および投与
水準および/または範囲が、活性物質として上げられる
。
水準および/または範囲が、活性物質として上げられる
。
[従来技術およびその開運点]
金属がそれぞれのイオンおよび/または不溶性塩に酸化
されると、腐蝕が起こる。例えば、金属鉄の腐蝕は酸化
状態が+2または+3の可溶外鉄、または不溶性鉄酸化
物および水酸化物への転換を含むことができる。また、
腐蝕は金属表面の一部が除去され、一方、不溶性塩の形
成が析出物の形成に寄与するという二面性を有する。金
属が損失することによって、系の構造的一体性の劣化が
起こる。最終的には、水系およびプロセル流との間に漏
れが起こることがある。
されると、腐蝕が起こる。例えば、金属鉄の腐蝕は酸化
状態が+2または+3の可溶外鉄、または不溶性鉄酸化
物および水酸化物への転換を含むことができる。また、
腐蝕は金属表面の一部が除去され、一方、不溶性塩の形
成が析出物の形成に寄与するという二面性を有する。金
属が損失することによって、系の構造的一体性の劣化が
起こる。最終的には、水系およびプロセル流との間に漏
れが起こることがある。
酸素添加された水中での鉄の腐蝕は、以下の対に成った
電気化学的工程によって起こることが知られている。
電気化学的工程によって起こることが知られている。
(1) Fe −Fe+2+2e−(陽極反応)(
2) 02+2e−−20H−(陰極反応)酸素添加
された水による金属の腐蝕の抑制は、典型的には金属表
面上に保護用遮断層を形成させることから成っている。
2) 02+2e−−20H−(陰極反応)酸素添加
された水による金属の腐蝕の抑制は、典型的には金属表
面上に保護用遮断層を形成させることから成っている。
これらの遮断層は、酸素が金属表面に到達して、金属の
酸化を起こすのを防止する。腐蝕抑制材として機能させ
るためには、化学添加剤がこの工程を促進して酸素不透
過性遮断層を形成して維持するようにしなければならな
い。これは陰極性または陽極性の半電池反応のいずれか
との相互作用によって行うことができる。
酸化を起こすのを防止する。腐蝕抑制材として機能させ
るためには、化学添加剤がこの工程を促進して酸素不透
過性遮断層を形成して維持するようにしなければならな
い。これは陰極性または陽極性の半電池反応のいずれか
との相互作用によって行うことができる。
抑制剤は、陽極反応と相互作用して、生成するFe+2
に不透過性遮断層を形成させて、腐蝕がそれ以上進行し
ないようにすることができる。これは、抑制剤化合物に
、Fe+2と直接反応して沈澱を起こさせ、通常は溶解
性の低い化合物をFe −からFe+3への酸化を促
進し、または+つ 不溶性のFe+3化合物の形成を促進する成分を含ませ
ることによって行うことができる。
に不透過性遮断層を形成させて、腐蝕がそれ以上進行し
ないようにすることができる。これは、抑制剤化合物に
、Fe+2と直接反応して沈澱を起こさせ、通常は溶解
性の低い化合物をFe −からFe+3への酸化を促
進し、または+つ 不溶性のFe+3化合物の形成を促進する成分を含ませ
ることによって行うことができる。
腐蝕陰極での酸素の還元によって、抑制剤が作用するこ
とができるもう一つの手段を提供する。
とができるもう一つの手段を提供する。
反応(2)は、腐蝕工程中に酸素が還元される半電池を
表わしている。この反応の生成物はヒドロキシル(OH
−)イオンである。ヒドロキシルが産生されるので、酸
素の媒介による腐蝕を行う金属の表面のpHは一般的に
は周囲の媒質のpHよりも遥かに高い。多くの化合物は
高pHでは溶解度が低い。これらの化合物は腐蝕陰極で
沈澱することができ、それらの沈澱形態が酸素に対して
不透過性であり且つ電気的に非誘導性である場合には、
腐蝕の効果的な抑制剤として作用することができる。
表わしている。この反応の生成物はヒドロキシル(OH
−)イオンである。ヒドロキシルが産生されるので、酸
素の媒介による腐蝕を行う金属の表面のpHは一般的に
は周囲の媒質のpHよりも遥かに高い。多くの化合物は
高pHでは溶解度が低い。これらの化合物は腐蝕陰極で
沈澱することができ、それらの沈澱形態が酸素に対して
不透過性であり且つ電気的に非誘導性である場合には、
腐蝕の効果的な抑制剤として作用することができる。
腐蝕抑制剤は、腐蝕工程が金属表面上に抑制反応を誘発
する環境を作ることによって機能する。
する環境を作ることによって機能する。
抑制剤組成物を効果的に機能させるためには、組成物の
成分がバルク媒質における条件下で沈澱してはならない
。速度論的抑制によってこの沈澱を効果的に抑制する抑
制剤は、文献に広範囲に記載されている。当業界の一例
は米国特許第3.880,765号明細書であり、ポリ
マーを用いて炭酸カルシウムの沈澱を防止することを開
示している。
成分がバルク媒質における条件下で沈澱してはならない
。速度論的抑制によってこの沈澱を効果的に抑制する抑
制剤は、文献に広範囲に記載されている。当業界の一例
は米国特許第3.880,765号明細書であり、ポリ
マーを用いて炭酸カルシウムの沈澱を防止することを開
示している。
酸素添加された水による腐蝕を抑制するための、限界抑
制剤と共に無機リン酸塩およびホスホネートを使用する
ことについては、米国特許第4.303,568号明細
書に記載されている。
制剤と共に無機リン酸塩およびホスホネートを使用する
ことについては、米国特許第4.303,568号明細
書に記載されている。
この方法は米国特許第4,443.340号明細書によ
って更に改良され、無機リン酸塩とポリマー性抑制剤と
のみから成る組成物が溶解した鉄の存在で良好に行うこ
とを記載している。
って更に改良され、無機リン酸塩とポリマー性抑制剤と
のみから成る組成物が溶解した鉄の存在で良好に行うこ
とを記載している。
腐蝕の抑制は、抑制剤の使用と媒質の化学性の改質とを
組み合わせることによって行うことができる。米国特許
第4,547,540号明細書は、高pHおよびアルカ
リ性の条件下で操作することによる腐蝕抑制法を記載し
ている。この方法は、無機リン酸塩の使用に依存してお
らず、環境上の影響の観点からより好ましい生成物を生
成する。
組み合わせることによって行うことができる。米国特許
第4,547,540号明細書は、高pHおよびアルカ
リ性の条件下で操作することによる腐蝕抑制法を記載し
ている。この方法は、無機リン酸塩の使用に依存してお
らず、環境上の影響の観点からより好ましい生成物を生
成する。
本発明は、特異的な独特な系のポリマーとホスホネート
を含み且つ芳香族アゾールを任意に使用するホスホネー
ト腐蝕抑制化合物を記載する。これらのポリマーを使用
することによって、腐蝕抑制性能が著しく改良される。
を含み且つ芳香族アゾールを任意に使用するホスホネー
ト腐蝕抑制化合物を記載する。これらのポリマーを使用
することによって、腐蝕抑制性能が著しく改良される。
スケール抑制剤としての本発明のコポリマーの使用は、
米国特許第4.566.973号明細書に記載されてい
る。一般的には、これらの化合物は、他のコモノマーと
共にt−ブチル■アクリルアミド単位を含むコポリマー
である。本発明者らは、これらの化合物が効果的なカル
シウムホスホネート抑制剤であり、それらは腐蝕抑制化
合物を含むホスホネートにおける成分として効果的に機
能することを見出だした。
米国特許第4.566.973号明細書に記載されてい
る。一般的には、これらの化合物は、他のコモノマーと
共にt−ブチル■アクリルアミド単位を含むコポリマー
である。本発明者らは、これらの化合物が効果的なカル
シウムホスホネート抑制剤であり、それらは腐蝕抑制化
合物を含むホスホネートにおける成分として効果的に機
能することを見出だした。
硬度を含み且つpHが少なくとも8である工業用冷却水
における腐蝕抑制組成物は、 I、 水性のアルカリ性環境中で腐蝕を抑制することが
できる水溶性の有機ホスホネート(但し、このホスホネ
ートは、ホスホネートの混合物を含むものとする)と、 II、 重合されたモノマー100重量部の総量に対
して、50〜90重量部のアクリル酸と10〜50重量
部の置換アクリルアミドとから成る水溶性の非架橋ラン
ダムポリマーであって、上記ポリマーの重量平均分子量
が約1,000〜50.000の範囲にあり、アクリル
酸と置換アクリルアミドとの重合単位が以下の式 (式中、分子量の限界に従って、mは約10〜700の
範囲にあり、nは約0.1〜350の範囲にあり、 RおよびR1はそれぞれ水素およびメチルから選択され
、 Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アンモ
ニウムおよびマグネシウム残基から選択され、 R2およびR3はそれぞれ水素および総数で1〜8個の
炭素原子を有する置換基および無置換基から選択され、
R−およびR3についての置換基はR−および/または
R3のいずれかが水素以外つ である条件でアルキル、アリールおよびケト基から選択
される)で表わされ、n/Iの重量比が0.2/1〜2
/1の範囲内にあり、好ましくは0.75/1であるこ
とを特徴とするものである。
における腐蝕抑制組成物は、 I、 水性のアルカリ性環境中で腐蝕を抑制することが
できる水溶性の有機ホスホネート(但し、このホスホネ
ートは、ホスホネートの混合物を含むものとする)と、 II、 重合されたモノマー100重量部の総量に対
して、50〜90重量部のアクリル酸と10〜50重量
部の置換アクリルアミドとから成る水溶性の非架橋ラン
ダムポリマーであって、上記ポリマーの重量平均分子量
が約1,000〜50.000の範囲にあり、アクリル
酸と置換アクリルアミドとの重合単位が以下の式 (式中、分子量の限界に従って、mは約10〜700の
範囲にあり、nは約0.1〜350の範囲にあり、 RおよびR1はそれぞれ水素およびメチルから選択され
、 Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アンモ
ニウムおよびマグネシウム残基から選択され、 R2およびR3はそれぞれ水素および総数で1〜8個の
炭素原子を有する置換基および無置換基から選択され、
R−およびR3についての置換基はR−および/または
R3のいずれかが水素以外つ である条件でアルキル、アリールおよびケト基から選択
される)で表わされ、n/Iの重量比が0.2/1〜2
/1の範囲内にあり、好ましくは0.75/1であるこ
とを特徴とするものである。
ホスホネート
一般的には、アルカリ性の系において腐蝕を抑制するこ
とができる水溶性ホスホネートを用いることができる。
とができる水溶性ホスホネートを用いることができる。
多数の代表的なホスホネートを記載している米国特許第
4,303.568号明細書を参照する。この記載は、
本明細書において参考のために引用する。
4,303.568号明細書を参照する。この記載は、
本明細書において参考のために引用する。
有機ホスホン酸誘導体
有機ホスホン酸化合物は、炭素とリン結合を有し、以下
の式によって示される。
の式によって示される。
−C−P−OM
0M
1−記紀栽の範囲内の化合物としては、一般的には、以
下の一般式によってそれぞれ表わされる3種類の節部の
一つに包含される。
下の一般式によってそれぞれ表わされる3種類の節部の
一つに包含される。
I
R−P −OM
0M
(式中、Rは1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル
、例えばメチル、エチル、ブチル、プロピル、イソブチ
ル、ペンチル、インペンチルおよびヘキシル、1〜6個
の炭素原子を有する置換低級アルキル、例えばヒドロキ
シルおよびアミノ置換アルキル、単核性芳香族(アリー
ル)基、例えばフェニル、ベンゼンなどであり、置換単
核芳香族化合物としては例えばヒドロキシル、アミノ、
低級アルキル置換芳香族性の例えばベンジルホスホン酸
であり、Mは水溶性カチオン例えばナトリウム、カリウ
ム、アンモニウム、リチウムなどまたは水素である) 上記式によって包含される化合物の具体例には、次のも
のがある。
、例えばメチル、エチル、ブチル、プロピル、イソブチ
ル、ペンチル、インペンチルおよびヘキシル、1〜6個
の炭素原子を有する置換低級アルキル、例えばヒドロキ
シルおよびアミノ置換アルキル、単核性芳香族(アリー
ル)基、例えばフェニル、ベンゼンなどであり、置換単
核芳香族化合物としては例えばヒドロキシル、アミノ、
低級アルキル置換芳香族性の例えばベンジルホスホン酸
であり、Mは水溶性カチオン例えばナトリウム、カリウ
ム、アンモニウム、リチウムなどまたは水素である) 上記式によって包含される化合物の具体例には、次のも
のがある。
メチルホスホン酸
CH3P O3H2
エチルホスホン酸
CH3CH2PO3H2
2−ヒドロキシエチルホスホン酸
CH−CH2−PO3H2
つ
1 ″″
OH
2−アミノ−エチルホスホン酸
OH2
イソプロピルホスホン酸
CH−CH−CH2−PO3H2
ベンゼンホスホン酸
C6H3−PO3H2
ベンジルホスホン酸
C6H5CH2PO3H2
0M OM
(式中、R□は約1〜約12個の炭素原子を有するアル
キレンまたは約1〜約12個の炭素原子を有する置換ア
ルキレンであり、例えばヒドロキシル、アミノ等で置換
したアルキレンであり、Mは上記定義の通りである)。
キレンまたは約1〜約12個の炭素原子を有する置換ア
ルキレンであり、例えばヒドロキシル、アミノ等で置換
したアルキレンであり、Mは上記定義の通りである)。
上記式に包含される特定の例としての化合物およびそれ
ぞれの式は次の通りである。
ぞれの式は次の通りである。
メチレンジホスホン酸
HOP−CH2−PO3H2
エチリデンジホスホン酸
H2O5P−CH(CH3)Po3H2イソプロピリデ
ンジホスホン酸 (CH3)2C(PO3H2)2 1−ヒドロキシェチリデンジホスホン酸H H2O5P−C(CH3)−PO3H2ヘキサメチレン
ジホスホン酸 H2O5P−CH2(CH2)4cH2PO3H2トリ メチレンジホスホン酸 H2O5P−(CH2)3−PO3H2デカメチレンジ
ホスホン酸 HOP−(CH) −POR 1−ヒドロキシプロピリデンジホスホン酸H2O5P?
(OH)CH2(CH3)03H2 1,6−シヒドロキシー1.6−ジメチルへキサメチレ
ンジホスホン酸 H2O5PC(CH3)(OH)(CH2)4−C(C
H3)(OH)PO3H2 ジヒドロキシジエチルエチレンジホスホン酸OHOH R30 N−R2−P−OM / I R40M (式中、R2は約1〜約4個の炭素原子を有する低級ア
ルキレンまたはアミンあるいはヒドロキシ置換低級アル
キレンであり、R3は[R2−P03M2] H,OH
,7ミへ置換アミへ1〜6個の炭素原子を有するアルキ
ル、1〜6個の炭素原子を有する置換アルキル(例えば
、OH。
ンジホスホン酸 (CH3)2C(PO3H2)2 1−ヒドロキシェチリデンジホスホン酸H H2O5P−C(CH3)−PO3H2ヘキサメチレン
ジホスホン酸 H2O5P−CH2(CH2)4cH2PO3H2トリ メチレンジホスホン酸 H2O5P−(CH2)3−PO3H2デカメチレンジ
ホスホン酸 HOP−(CH) −POR 1−ヒドロキシプロピリデンジホスホン酸H2O5P?
(OH)CH2(CH3)03H2 1,6−シヒドロキシー1.6−ジメチルへキサメチレ
ンジホスホン酸 H2O5PC(CH3)(OH)(CH2)4−C(C
H3)(OH)PO3H2 ジヒドロキシジエチルエチレンジホスホン酸OHOH R30 N−R2−P−OM / I R40M (式中、R2は約1〜約4個の炭素原子を有する低級ア
ルキレンまたはアミンあるいはヒドロキシ置換低級アル
キレンであり、R3は[R2−P03M2] H,OH
,7ミへ置換アミへ1〜6個の炭素原子を有するアルキ
ル、1〜6個の炭素原子を有する置換アルキル(例えば
、OH。
NH2置換)、単核芳香族基および置換単核芳香族基(
例えば、OH,、NH2置換)であり、R4はR3また
は式 〔R5およびR6は、それぞれ水素、約1〜6個の炭素
原子ををする低級アルキル、置換低級アルキル(例えば
、OH,NH2置換)、水素、ヒドロキシル、アミノ基
、置換アミノ基、単核芳香族基、および置換単核芳香族
基(例えば、OH。
例えば、OH,、NH2置換)であり、R4はR3また
は式 〔R5およびR6は、それぞれ水素、約1〜6個の炭素
原子ををする低級アルキル、置換低級アルキル(例えば
、OH,NH2置換)、水素、ヒドロキシル、アミノ基
、置換アミノ基、単核芳香族基、および置換単核芳香族
基(例えば、OH。
NH2置換)であり、RはR5、R6または基Rつ−P
03M2(R2は上記定義の通りである)であり、nは
1〜約15の数であり、yは約1〜約14の数であり、
Mは上記定義の通りであるコ。
03M2(R2は上記定義の通りである)であり、nは
1〜約15の数であり、yは約1〜約14の数であり、
Mは上記定義の通りであるコ。
上記の式について考えられる例としての化合物または式
は、以下の通りである。
は、以下の通りである。
ニトリロ−トリ(メチレンホスホン酸)N(CH2PO
3H2)3 イミノージ(メチレンホスホン酸) NH(CH2PO3H2)2 n−ブチルーアミノージ(メチルホスホン酸)CHN(
CH2PO3H2)2 デシルーアミノージ(メチルホスホン酸)CHN(CH
2PO3H2)2 トリナトリウム−ペンタデシル−アミノ−ジ−メチルホ
スフェート CHN (CH2PO3HNa)− (CH2PO3Na2) n−ブチルーアミノージ(エチルホスホン酸)CHN(
CH2CH2PO3H2)2 テトラナトリウム−〇−プチルーアミノージ(メチルホ
スフェート) C4H9(CH2PO3Na2)2 トリアンモニウムーテトラデシルーアミノージ(メチル
ホスフェート) CHN (CH2PO3(NH4) 2) −CH2P
o3HNH4 フェニルーアミノージ(メチルホスホン酸)CHN(C
H2PO3H2)2 4−ヒドロキシーフェニルーアミノージ(メチルホスホ
ン酸) HOCHN(CH2Po3H2)2 フェニルブロピルアミノージ(メチルホスホン酸)C6
H5(CH2)3N(CH2PO3H2)2テトラナト
リウムーフエニルエチルアミノージ(メチル・ホスホン
酸) C6H5(CH2)2N(CH2− PO3Na2)2 エチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸)(H20
3PCH2)2N(CH2)2N−(CH2P O3H
2) 2 トリメチレンジアミンテトラ(メチル・ホスホン酸) (H203PCH2)2N(CH2)3N−(CH2P
O3H2)2 ヘプタメチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸) H203PCH2)2N(CH2)、7N−(CH2P
O3H2) 2 デカメチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸)(H
OPCH) N(CH) N−(CH2P 03
H2) 2 テトラデカメチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸
) (HOPCH) N(CH) N−(CH2PO
3H2)2 エチレンジアミントリ(メチルホスホン酸)(H203
PCH2)2N(CH2)2NH−CH2Po3H2 エチレンジアミンジ(アミノホスホン酸)H2o3PC
H2NH(CH2)2NH−CH2P O3H2 n−ヘキシルアミンジ(メチルホスホン酸)C6H13
N(CH2PO3H2)2 ジエチルアミントリアミンペンタ(メチルホスホン酸) (HOPCH) N (CH2) 2N−(CH2P
O3H2)(CH2)2N−(CH2PO3H2)2 エタノールアミンージ(メチルホスホン酸)Ho(CH
2)2N(CH2PO3H2)2n−ヘキシル−アミノ
(イソプロピリデンホスホン酸)メチルホスホン酸 CHN(C(CH3)2PO3H2)−(CH2Po3
H2) トリヒドロキシメチルメチルアミン諧ジ(メチルホスホ
ン酸) (HOCH2)3ON− (CH2CH2PO3H2)2 トリエチレンテトラアミン−ヘキサ(メチルホスホン酸
) (H203PCH2)2N(CH2)2N−(CHPO
H)(CH2)2N− (CH2PO3H2)(CH2)2N−(CH2PO3
H2)2 モノエタノール−ジエチレントリアミン−トリ(メチル
ホスホン酸) HOCHCHN (CH2PO3H2)−(CH2)2
NH(CH2)2N− (CH2PO3H2)2 クロロエチレンアミンージ(メチルホスホン酸)CIC
HCHN (CH2PO(OH) 2) 2上記の化合
物は、例示のためのものであり、本発明の限界内で操作
可能な化合物の完全な一覧とすることを意図するもので
はない。
3H2)3 イミノージ(メチレンホスホン酸) NH(CH2PO3H2)2 n−ブチルーアミノージ(メチルホスホン酸)CHN(
CH2PO3H2)2 デシルーアミノージ(メチルホスホン酸)CHN(CH
2PO3H2)2 トリナトリウム−ペンタデシル−アミノ−ジ−メチルホ
スフェート CHN (CH2PO3HNa)− (CH2PO3Na2) n−ブチルーアミノージ(エチルホスホン酸)CHN(
CH2CH2PO3H2)2 テトラナトリウム−〇−プチルーアミノージ(メチルホ
スフェート) C4H9(CH2PO3Na2)2 トリアンモニウムーテトラデシルーアミノージ(メチル
ホスフェート) CHN (CH2PO3(NH4) 2) −CH2P
o3HNH4 フェニルーアミノージ(メチルホスホン酸)CHN(C
H2PO3H2)2 4−ヒドロキシーフェニルーアミノージ(メチルホスホ
ン酸) HOCHN(CH2Po3H2)2 フェニルブロピルアミノージ(メチルホスホン酸)C6
H5(CH2)3N(CH2PO3H2)2テトラナト
リウムーフエニルエチルアミノージ(メチル・ホスホン
酸) C6H5(CH2)2N(CH2− PO3Na2)2 エチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸)(H20
3PCH2)2N(CH2)2N−(CH2P O3H
2) 2 トリメチレンジアミンテトラ(メチル・ホスホン酸) (H203PCH2)2N(CH2)3N−(CH2P
O3H2)2 ヘプタメチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸) H203PCH2)2N(CH2)、7N−(CH2P
O3H2) 2 デカメチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸)(H
OPCH) N(CH) N−(CH2P 03
H2) 2 テトラデカメチレンジアミンテトラ(メチルホスホン酸
) (HOPCH) N(CH) N−(CH2PO
3H2)2 エチレンジアミントリ(メチルホスホン酸)(H203
PCH2)2N(CH2)2NH−CH2Po3H2 エチレンジアミンジ(アミノホスホン酸)H2o3PC
H2NH(CH2)2NH−CH2P O3H2 n−ヘキシルアミンジ(メチルホスホン酸)C6H13
N(CH2PO3H2)2 ジエチルアミントリアミンペンタ(メチルホスホン酸) (HOPCH) N (CH2) 2N−(CH2P
O3H2)(CH2)2N−(CH2PO3H2)2 エタノールアミンージ(メチルホスホン酸)Ho(CH
2)2N(CH2PO3H2)2n−ヘキシル−アミノ
(イソプロピリデンホスホン酸)メチルホスホン酸 CHN(C(CH3)2PO3H2)−(CH2Po3
H2) トリヒドロキシメチルメチルアミン諧ジ(メチルホスホ
ン酸) (HOCH2)3ON− (CH2CH2PO3H2)2 トリエチレンテトラアミン−ヘキサ(メチルホスホン酸
) (H203PCH2)2N(CH2)2N−(CHPO
H)(CH2)2N− (CH2PO3H2)(CH2)2N−(CH2PO3
H2)2 モノエタノール−ジエチレントリアミン−トリ(メチル
ホスホン酸) HOCHCHN (CH2PO3H2)−(CH2)2
NH(CH2)2N− (CH2PO3H2)2 クロロエチレンアミンージ(メチルホスホン酸)CIC
HCHN (CH2PO(OH) 2) 2上記の化合
物は、例示のためのものであり、本発明の限界内で操作
可能な化合物の完全な一覧とすることを意図するもので
はない。
好ましいホスホネートは2個の化合物
A、 2−ホスホノブタン−1,,2,4−トリカル
ボン酸および 8、 1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸
である。
ボン酸および 8、 1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸
である。
個々のホスホネートはポリマーと組み合わせて用いても
よいが、AおよびBのようなホスホネートの配合物を用
いることによって遥かに良好な結果が得られた。それら
を組み合わせる場合には、A:Bの重量比は0.5/1
〜4/1であり、好ましくは0.5/1〜2/1であり
、最も好ましくは約0.67/1である。
よいが、AおよびBのようなホスホネートの配合物を用
いることによって遥かに良好な結果が得られた。それら
を組み合わせる場合には、A:Bの重量比は0.5/1
〜4/1であり、好ましくは0.5/1〜2/1であり
、最も好ましくは約0.67/1である。
ホスホネートの外にトリトリアゾールのような添加物を
用いることもできる。トリトリアゾールは、銅基材の腐
蝕の低減に有効である。
用いることもできる。トリトリアゾールは、銅基材の腐
蝕の低減に有効である。
水溶性非架橋性ランダムコポリマー
これらのポリマーは米国特許第 −4,5
66,973号明細書に詳細に記、載されており、具体
的には次のように記載されている。
66,973号明細書に詳細に記、載されており、具体
的には次のように記載されている。
本明細書に好適なコポリマーはアクリル酸および置換ア
クリルアミドの重合単位を含み且つ下記の構造式 %式%) (式中、mおよびnは約0.1〜700の範囲の数であ
り、分子量の限界によって、mは約10〜700の範囲
にあり、nは約0,1〜350の範囲にあり、Rおよび
R1はそれぞれ水素およびメチルから選択され、Xは水
素、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウ
ムであり、詳細には水素、ナトリウム、カリウム、カル
シウム、アンモニウムおよびマグネシウムであり、R2
およびR3はいずれかが水素であることができるがつ R−およびR3の両方とも水素でないという条件で、そ
れぞれ水素、全部で1〜8個の炭素原子を有するアルキ
ルおよび置換アルキル基から選択される)によ、って表
わされるランダムポリマーである。RおよびR3上の置
換基にはアルキル、アリールおよびケト基があるが、好
ましい態様ではR−およびR3はそれぞれ1〜8個の炭
素原子を有するアルキル基および1〜8個の炭素原子を
有しケト置換基を有する置換アルキル基から選択される
。R2およびR3の特定の例にはt−ブチル、イソプロ
ピル、イソブチル、メチル、2− (2゜4、.4−ト
リメチルペンチル)および2 (2−メチル−4−オ
キソペンチル)がある。
クリルアミドの重合単位を含み且つ下記の構造式 %式%) (式中、mおよびnは約0.1〜700の範囲の数であ
り、分子量の限界によって、mは約10〜700の範囲
にあり、nは約0,1〜350の範囲にあり、Rおよび
R1はそれぞれ水素およびメチルから選択され、Xは水
素、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウ
ムであり、詳細には水素、ナトリウム、カリウム、カル
シウム、アンモニウムおよびマグネシウムであり、R2
およびR3はいずれかが水素であることができるがつ R−およびR3の両方とも水素でないという条件で、そ
れぞれ水素、全部で1〜8個の炭素原子を有するアルキ
ルおよび置換アルキル基から選択される)によ、って表
わされるランダムポリマーである。RおよびR3上の置
換基にはアルキル、アリールおよびケト基があるが、好
ましい態様ではR−およびR3はそれぞれ1〜8個の炭
素原子を有するアルキル基および1〜8個の炭素原子を
有しケト置換基を有する置換アルキル基から選択される
。R2およびR3の特定の例にはt−ブチル、イソプロ
ピル、イソブチル、メチル、2− (2゜4、.4−ト
リメチルペンチル)および2 (2−メチル−4−オ
キソペンチル)がある。
本発明の目的に好適なアクリル酸は、一般的には、3〜
4個の炭素原子を有するモノ不飽和のモノカルボン酸と
して定義される。かかる酸の特定の例としては、アクリ
ル酸およびメ゛タクリル酸があるが、アクリル酸が好ま
しい。本明細書において好ましい置換アクリルアミドは
、一般的にはそれぞれ1〜8個の炭素原子を有するアル
キル基で窒素原子上で置換されたアクリルアミドの群が
ある。
4個の炭素原子を有するモノ不飽和のモノカルボン酸と
して定義される。かかる酸の特定の例としては、アクリ
ル酸およびメ゛タクリル酸があるが、アクリル酸が好ま
しい。本明細書において好ましい置換アクリルアミドは
、一般的にはそれぞれ1〜8個の炭素原子を有するアル
キル基で窒素原子上で置換されたアクリルアミドの群が
ある。
他のコモノマーは、これらの付加的なコモノマーが所望
な特性に悪影響をもたらさないという条件でアクリル酸
および置換アクリルアミドと共に用いることができる。
な特性に悪影響をもたらさないという条件でアクリル酸
および置換アクリルアミドと共に用いることができる。
かかるコモノマーの例には、アクリレートおよびメタク
リレートエステル、アクリルアミドおよびメタクリルア
ミド、アクリロニトリル、ビニルエステルなどがある。
リレートエステル、アクリルアミドおよびメタクリルア
ミド、アクリロニトリル、ビニルエステルなどがある。
コポリマー中のアクリル酸単位は、酸の形態でもまたは
カルボキシル基の水素が中和媒質によってアルカリ金属
、アルカリ土類金属またはアンモニウムカチオンで置換
されている中和した形態であることもできる。一般的に
は、コポリマーは水酸化ナトリウムのような強アルカリ
で中和することができ、その場合には、アクリル酸単位
の水素またはカルボキシル基はナトリウムで置換される
。
カルボキシル基の水素が中和媒質によってアルカリ金属
、アルカリ土類金属またはアンモニウムカチオンで置換
されている中和した形態であることもできる。一般的に
は、コポリマーは水酸化ナトリウムのような強アルカリ
で中和することができ、その場合には、アクリル酸単位
の水素またはカルボキシル基はナトリウムで置換される
。
アミン中和剤を用いると、水素はアンモニウム基で置換
される。有用なコポリマーには、中和されていない、部
分的に中和されたおよび完全に中和されたコポリマーが
ある。
される。有用なコポリマーには、中和されていない、部
分的に中和されたおよび完全に中和されたコポリマーが
ある。
七ツマ−を重合すると実質的に架橋していないランダム
コポリマーを生成するが、その分子量は若干の試行錯誤
を行って調整することができる。
コポリマーを生成するが、その分子量は若干の試行錯誤
を行って調整することができる。
コポリマーは、コモノマーの約50重量%から約99重
量%の範囲の高収率で好ましく形成される。
量%の範囲の高収率で好ましく形成される。
上記の型のポリマーは、それらの構造中に好ましくはア
ミド、低級アルキルエステルおよびマレイン酸塩基から
成る群から選択される非イオン性または陰イオン性極性
基を含むターポリマーを30重量%以下配合することに
よって改質することができる。
ミド、低級アルキルエステルおよびマレイン酸塩基から
成る群から選択される非イオン性または陰イオン性極性
基を含むターポリマーを30重量%以下配合することに
よって改質することができる。
重合してターポリマーを形成することができる好ましい
モノマーの例は、アクリルアミド、メチルまたはエチル
アクリレート、無水マレイン酸である。用いることがで
きる他の極性モノマーは、例えば酢酸ビニル、アクリロ
ニトリル、各種ビニルケトン、ビニルエーテル等である
。これらの七ツマ−の例は、ビニルピロリドン、メチル
ビエルエーテル、メタクリレートリル、アリルアルコー
ル、メチルメタクリレート、β−ジエチルアミノエチル
メタクリレート、ビニルトリメチルアセテート、メチル
イソブチレート、シクロへキシルメタクリレート、ビニ
ルラウレート、ビニルステアレート、N−ビニルラクタ
ム、ジエチレングリコール調ジメタクリレート、ジアリ
ルマレエート、アリルメタクリレート、ジアリルフタレ
ート、ジアリルアジペートなどの化合物である。
モノマーの例は、アクリルアミド、メチルまたはエチル
アクリレート、無水マレイン酸である。用いることがで
きる他の極性モノマーは、例えば酢酸ビニル、アクリロ
ニトリル、各種ビニルケトン、ビニルエーテル等である
。これらの七ツマ−の例は、ビニルピロリドン、メチル
ビエルエーテル、メタクリレートリル、アリルアルコー
ル、メチルメタクリレート、β−ジエチルアミノエチル
メタクリレート、ビニルトリメチルアセテート、メチル
イソブチレート、シクロへキシルメタクリレート、ビニ
ルラウレート、ビニルステアレート、N−ビニルラクタ
ム、ジエチレングリコール調ジメタクリレート、ジアリ
ルマレエート、アリルメタクリレート、ジアリルフタレ
ート、ジアリルアジペートなどの化合物である。
形成したポリマーは、既知の分子量のポリスチレンを対
照物質として用いて水性ゲル透過クロマトグラフィーに
よって測定した重量平均分子量を約1,000〜約50
,000、好ましくは約2.000〜約30.000の
範囲にすることができる。
照物質として用いて水性ゲル透過クロマトグラフィーに
よって測定した重量平均分子量を約1,000〜約50
,000、好ましくは約2.000〜約30.000の
範囲にすることができる。
形成したコポリマーの酸価は、KOHを用いて通常の滴
定によって測定すると、C0OH基を有するモノマ一単
位の40重量%〜約95重量%のffi量分率に対応し
て310〜約740の範囲にすることができる。好まし
いポリマーは、50重量%を越える遊離のカルボキシル
基を有し、酸価は約390〜約700の範囲にある。
定によって測定すると、C0OH基を有するモノマ一単
位の40重量%〜約95重量%のffi量分率に対応し
て310〜約740の範囲にすることができる。好まし
いポリマーは、50重量%を越える遊離のカルボキシル
基を有し、酸価は約390〜約700の範囲にある。
好ましい種類のポリマーを、下記の表Aにポリマー組成
物番号1〜12として記載している。
物番号1〜12として記載している。
表A
ポリマー材料
ポリマー組 分子量
酸物番号 (M、W、) 組成(モル%)1
(9300) AA/l−BAm (88:
12)2 (1200G) ”3
(17700) 〃4 (25900
) 〃5 (8900) AA/
EA/l−BAm (88:8:[1)8 (
9400) AA/A+nバーBAa+ (84:
11:8)? (8200) /MAA/
l−BAm(88:19:13)8 (1330
0)*〃 9 (14300)” 〃1G (
15700)零 〜11 (15600)
〃12 (23000) 〃
” : TIIF溶離剤を用いるGPC値から算出した
水性My。
(9300) AA/l−BAm (88:
12)2 (1200G) ”3
(17700) 〃4 (25900
) 〃5 (8900) AA/
EA/l−BAm (88:8:[1)8 (
9400) AA/A+nバーBAa+ (84:
11:8)? (8200) /MAA/
l−BAm(88:19:13)8 (1330
0)*〃 9 (14300)” 〃1G (
15700)零 〜11 (15600)
〃12 (23000) 〃
” : TIIF溶離剤を用いるGPC値から算出した
水性My。
ポリマー組成物1〜4は、アクリル酸とt−ブチルアク
リルアミド(t−BAm)との中和されていないコポリ
マーである。ポリマー組成物5、ポリマー組成物6およ
びポリマー組成物7〜12はそれぞれエチルアクリレー
ト(EA)、アクリルアミド(Am)およびメタクリル
酸(MAA)の付加的マ一単位を含むターポリマーであ
る。
リルアミド(t−BAm)との中和されていないコポリ
マーである。ポリマー組成物5、ポリマー組成物6およ
びポリマー組成物7〜12はそれぞれエチルアクリレー
ト(EA)、アクリルアミド(Am)およびメタクリル
酸(MAA)の付加的マ一単位を含むターポリマーであ
る。
これら総てのポ゛リマーの顕著な特徴は、t−ブチルア
クリルアミドである。立体障害を有する疎水性アルキル
アミド基は、優れた耐加水分解性を示し、この単位が特
異的な性能をポリマーに付与するものと思われる。
クリルアミドである。立体障害を有する疎水性アルキル
アミド基は、優れた耐加水分解性を示し、この単位が特
異的な性能をポリマーに付与するものと思われる。
アクリル酸とt−ブチルアクリルアミドとから成るコポ
リマーは、50〜90重量%のアクリル酸と10〜50
重鑓%のt−ブチルアクリルアミドとを含む。アクリル
酸は70〜90重量%の量で存在し、t−ブチルアクリ
ルアミドは10〜30重量%の量で存在するのが好まし
い。最も好ましくは、アクリル酸は80〜90重;%の
量で存□在し、t−ブチルアクリルアミドが10〜20
重量%の量で存在する。
リマーは、50〜90重量%のアクリル酸と10〜50
重鑓%のt−ブチルアクリルアミドとを含む。アクリル
酸は70〜90重量%の量で存在し、t−ブチルアクリ
ルアミドは10〜30重量%の量で存在するのが好まし
い。最も好ましくは、アクリル酸は80〜90重;%の
量で存□在し、t−ブチルアクリルアミドが10〜20
重量%の量で存在する。
ターポリマーは、下記の重量%の組成範囲内にある。
(a) アクリル酸、40〜90、更に好ましくは4
0〜80、最も好ましくは60〜80゜ (b) メタクリル酸、5〜30、更に好ましくは1
0〜30、最も好ましくは10〜20゜ (c) t−ブチルアクリルアミド、5〜50、更
に好ましくは10〜30、最も好ましくは10〜20゜ 投与量 水性系に活性成分を投与して、上記組成物■およびl!
を重量で5〜50ppm、好ましくは8〜40ppm、
最も好ましくは15〜30ppmを供給する。
0〜80、最も好ましくは60〜80゜ (b) メタクリル酸、5〜30、更に好ましくは1
0〜30、最も好ましくは10〜20゜ (c) t−ブチルアクリルアミド、5〜50、更
に好ましくは10〜30、最も好ましくは10〜20゜ 投与量 水性系に活性成分を投与して、上記組成物■およびl!
を重量で5〜50ppm、好ましくは8〜40ppm、
最も好ましくは15〜30ppmを供給する。
組成物を最初に添加するときには、過剰に加えて腐蝕を
抑制し保護フィルムを形成させ始めることが有利である
。1週間程度経ったなら、最適な維持投与量になるまで
投与量を減少させることができる。
抑制し保護フィルムを形成させ始めることが有利である
。1週間程度経ったなら、最適な維持投与量になるまで
投与量を減少させることができる。
処理された系とpH
処理された系は工業的に再循環されるものであ ′
る、一旦循環してしまうと、冷却水は、自然な性状また
はpHの調整によってpHが少なくとも8となる。系の
p)Iは8〜9.5の範囲内にあるのが好ましく、大抵
の場合8.5〜9.2の範囲内にある。これらの系は少
なくとも10ppmのカルシウムイオンを含むことを特
徴とし、第−鉄金属並びにそれらと接触する非第−鉄金
属に対して腐蝕性であると考えられる。
る、一旦循環してしまうと、冷却水は、自然な性状また
はpHの調整によってpHが少なくとも8となる。系の
p)Iは8〜9.5の範囲内にあるのが好ましく、大抵
の場合8.5〜9.2の範囲内にある。これらの系は少
なくとも10ppmのカルシウムイオンを含むことを特
徴とし、第−鉄金属並びにそれらと接触する非第−鉄金
属に対して腐蝕性であると考えられる。
〔実施例]
以下の実施例はこのプログラムに用いられる代表的処方
である。 “ 実施例1 ガラスまたはステンレス製容器に14gの軟水を加える
。拡販を行いながら、以下の物質の水性溶液を順次加え
た。
である。 “ 実施例1 ガラスまたはステンレス製容器に14gの軟水を加える
。拡販を行いながら、以下の物質の水性溶液を順次加え
た。
7gの1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸(
60重量%)、 12 gの2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカル
ボン酸(50重量%)、 15.3gのアクリル酸/l−ブチルアクリルアミドコ
ポリマー(491!rffi%)。
60重量%)、 12 gの2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカル
ボン酸(50重量%)、 15.3gのアクリル酸/l−ブチルアクリルアミドコ
ポリマー(491!rffi%)。
混合物を水浴で冷却した後、約22gの水性水酸化ナト
リウム(50重量%)を激しく撹拌した溶液に徐々に添
加して、塩基性にした。塩基の添加中は、溶液の温度を
54℃(130°F)に維持した。pHを、50重量%
のナトリウム−トリアゾール溶液4.7gを用いて13
に調整した。最後に、100gの生成物を生成するのに
十分な量の軟水を加えた。冷却浴を取り外して、溶液の
温度が周囲温度になるまで溶液を撹拌した。
リウム(50重量%)を激しく撹拌した溶液に徐々に添
加して、塩基性にした。塩基の添加中は、溶液の温度を
54℃(130°F)に維持した。pHを、50重量%
のナトリウム−トリアゾール溶液4.7gを用いて13
に調整した。最後に、100gの生成物を生成するのに
十分な量の軟水を加えた。冷却浴を取り外して、溶液の
温度が周囲温度になるまで溶液を撹拌した。
処方の変更は、単に上記の処理を修正することによって
容易に調整される。例えば、ポリマーおよび水酸化ナト
リウムの量を減少させた後、最終的な添加水量を増加す
ることによって、低重合体活性物を含む処方が得られる
。また、ポリマーと腐蝕抑制材を別々に供給しても良い
。
容易に調整される。例えば、ポリマーおよび水酸化ナト
リウムの量を減少させた後、最終的な添加水量を増加す
ることによって、低重合体活性物を含む処方が得られる
。また、ポリマーと腐蝕抑制材を別々に供給しても良い
。
実験的処理法
実験室の試験では、硬度カチオンおよびMアルカリ度を
Ca CO3または濃度のサイクルとして表わす。Fe
”はFeとして表記し、抑制剤(モノマー性およびポリ
マー性)は活性物として表記している。熱交換体付着物
の分析では、総ての成分は化合物の化学的元素または酸
型の重量%とじて示す。
Ca CO3または濃度のサイクルとして表わす。Fe
”はFeとして表記し、抑制剤(モノマー性およびポリ
マー性)は活性物として表記している。熱交換体付着物
の分析では、総ての成分は化合物の化学的元素または酸
型の重量%とじて示す。
カルシウムホスホネートによる抑制
標準的な加熱した「ビーカー」試験を用いて、ホスホネ
ート抑制剤の性能を評価した(表B)。
ート抑制剤の性能を評価した(表B)。
リン酸カルシウム抑制試験からのカルシウムおよび抑制
剤母液を用いた。更に、Bayer PBS−AMおよ
びDcqucst 2100の母液(1000ppm活
性物)を調製した。Mon5anto社(セントルイス
、ミズーリー)製のDequcst−2100は、ヒド
ロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)
として記載されている(米国特許第3,959,168
号明細書を参照されたい)。PBS−AMはBayer
社の2−ホスホノブタ、シー。1,2.4−トリカルボ
ン酸の商標である。試験を開始するため、蒸溜水(40
0ml)を60±2℃に保持されたジャケット付きビー
カーに加えた。母液を加えて、最終的な、50.0 m
l (1)g験容積において、Ca を3.60
p、p m、、抑制剤を10 pl) 、m S、D
equestを5.6ppmおよ、びPES−AMを8
p、p m、とじた。次い(、,7に外水酸化ナト“
功4を用いて・pHを9.2に調整した。
剤母液を用いた。更に、Bayer PBS−AMおよ
びDcqucst 2100の母液(1000ppm活
性物)を調製した。Mon5anto社(セントルイス
、ミズーリー)製のDequcst−2100は、ヒド
ロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)
として記載されている(米国特許第3,959,168
号明細書を参照されたい)。PBS−AMはBayer
社の2−ホスホノブタ、シー。1,2.4−トリカルボ
ン酸の商標である。試験を開始するため、蒸溜水(40
0ml)を60±2℃に保持されたジャケット付きビー
カーに加えた。母液を加えて、最終的な、50.0 m
l (1)g験容積において、Ca を3.60
p、p m、、抑制剤を10 pl) 、m S、D
equestを5.6ppmおよ、びPES−AMを8
p、p m、とじた。次い(、,7に外水酸化ナト“
功4を用いて・pHを9.2に調整した。
試墾試料のpHを、最初の1時間は15分間隔で1.続
いては1時間間隔で、手動で調戸した。4時間の、試験
時間はこりらの沈澱畳応が安定するのに十分であった。
いては1時間間隔で、手動で調戸した。4時間の、試験
時間はこりらの沈澱畳応が安定するのに十分であった。
最後に、それぞれの試験溶液の一部分を、酢酸セルロー
ス/硝酸塩Mil11poreフィルター(HA型、0
.45μm)を通過させた。
ス/硝酸塩Mil11poreフィルター(HA型、0
.45μm)を通過させた。
濾過したアリコートおよび未濾過アリコートの両方を、
総リン酸顔料について分光光度法で分析した。粒子の大
きさや効果を検討するため、更にもう一つ試料を0.
10μmMilllporcフィルター(VC型)を通
過させた。下記の式によって、抑制%を決定した。
総リン酸顔料について分光光度法で分析した。粒子の大
きさや効果を検討するため、更にもう一つ試料を0.
10μmMilllporcフィルター(VC型)を通
過させた。下記の式によって、抑制%を決定した。
[濾過アリコート−プランクコ
抑制%−X100
[未濾過アリコート−ブランク]
表B
カルシウムホスホネートによる抑制
御00ppmのポリマー活性物、
5.6ppmのDaques、t 2010および8p
pmのBayer PBS−AM (活性物として)、
360ppmのCa (CaCO3として)。
pmのBayer PBS−AM (活性物として)、
360ppmのCa (CaCO3として)。
60℃(140°F)/pH9,2/4時間抑制%
ポリマー 分子量 フィルターサイズ1
(9300) 82% 26%B
(9400) 8 13II
C15800) 98 5
8Versa TL−4(19000) 95
28カルシウムホスホネート抑制試験では、沈
澱した粒子のサイズに対するポリマー性能を検°討して
、その結果を表Bに示している。
(9300) 82% 26%B
(9400) 8 13II
C15800) 98 5
8Versa TL−4(19000) 95
28カルシウムホスホネート抑制試験では、沈
澱した粒子のサイズに対するポリマー性能を検°討して
、その結果を表Bに示している。
カルシウムホスホネート「抑制」法は粒子の成長を最少
限にすることから成る。尺度粒子を極めて小さなサイズ
に維持すると、質量が最終的にはポリマー性能を決定す
る場合に重要な因子であることを明らかにすることがで
きる。平均孔径が0.10および0.45μmのフィル
ターを用いることによって、ポリマー性能の差異を容易
に観察した。ポリマー組成物11(分子量−15,60
0)は最も良好な総体的な性能を示し、0.10μmの
フィルターを用いたときに良好な抑制を示した唯一のポ
リマーであった。VersaTl、−4(スルホン化し
たスチレンとマレイン酸との低分子量コポリマー)およ
びポリマー組成物1および5は極めて良好な抑制を示し
たが(0,45μm)、フィルタ一孔径を0.10μm
に減少させたところ、性能は速やかに低下した。詳細に
は、ポリマー組成物11は、ベンチ−トップおよびPC
T試験のいずれにおいても最も良好な総体的性能を示し
た。
限にすることから成る。尺度粒子を極めて小さなサイズ
に維持すると、質量が最終的にはポリマー性能を決定す
る場合に重要な因子であることを明らかにすることがで
きる。平均孔径が0.10および0.45μmのフィル
ターを用いることによって、ポリマー性能の差異を容易
に観察した。ポリマー組成物11(分子量−15,60
0)は最も良好な総体的な性能を示し、0.10μmの
フィルターを用いたときに良好な抑制を示した唯一のポ
リマーであった。VersaTl、−4(スルホン化し
たスチレンとマレイン酸との低分子量コポリマー)およ
びポリマー組成物1および5は極めて良好な抑制を示し
たが(0,45μm)、フィルタ一孔径を0.10μm
に減少させたところ、性能は速やかに低下した。詳細に
は、ポリマー組成物11は、ベンチ−トップおよびPC
T試験のいずれにおいても最も良好な総体的性能を示し
た。
パイロット冷却塔試験は、工業用再循環冷却水装置に存
在する多くの特徴を模する動的試験である。
在する多くの特徴を模する動的試験である。
一般的試験法は、国際水会議、ピッツバーグ、ペンシル
バニア、1973年11月4〜6日の第36回年金議事
録のり、 T、 ReedとR,Na5sの「冷却水処
理の小規模で短時間の評価法−それらは価値ある力背」
という報告に記載されている。
バニア、1973年11月4〜6日の第36回年金議事
録のり、 T、 ReedとR,Na5sの「冷却水処
理の小規模で短時間の評価法−それらは価値ある力背」
という報告に記載されている。
一般的操作条件は、表Cに示している。
表C
パイロット冷却塔操作条件
管番号 金属 /熱負荷(Btu/f’t2時
)8 MS/15.000(最上部)
7 88715.0008
MS/12.4005
Adn15.0004
MS15.0003 S
’S/12.4002 ^da+
/12.4001 SS/12.40
0 (底部)メイ・キャップ水: 合成#3*1 所望なサイクル: 4 吐水部容積/温度**8・ 50リットル152℃(125丁) 保持時間指標= 24時間 流速: 2g/分 pH: 9.2 生成物−高木*: 200ppm 〃 −維t!j: 100 p p m試験期間:
14日間 ′4′MS−軟鋼、 Adm −アドミラルティーΦプラス(Admiral
tybrass)、 SS−306ステンレス番スチール。
)8 MS/15.000(最上部)
7 88715.0008
MS/12.4005
Adn15.0004
MS15.0003 S
’S/12.4002 ^da+
/12.4001 SS/12.40
0 (底部)メイ・キャップ水: 合成#3*1 所望なサイクル: 4 吐水部容積/温度**8・ 50リットル152℃(125丁) 保持時間指標= 24時間 流速: 2g/分 pH: 9.2 生成物−高木*: 200ppm 〃 −維t!j: 100 p p m試験期間:
14日間 ′4′MS−軟鋼、 Adm −アドミラルティーΦプラス(Admiral
tybrass)、 SS−306ステンレス番スチール。
*1合成#3は901)I)mのCa+2、+2
50ppmのMg 、90ppmのCCl−150
ppの硫酸塩、110ppmのナトリウムおよび110
〜120ppmのrMJアルカリ(Ca CO3として
)の総イオン含量を冑する。
ppの硫酸塩、110ppmのナトリウムおよび110
〜120ppmのrMJアルカリ(Ca CO3として
)の総イオン含量を冑する。
*″ゝ回帰水は5.6℃(10”F)高い。
表りば記載のポリマー組成物1.3.5.6.7および
11は実施例1の方法に準じて調製し、高pHの標準的
処方において直接にVTL−4を代えるのに用いた。ポ
リマー組成物1.6または11を含むことを除いて実施
例1の処理法に準じて行ったこれらの処方の長期安定性
試験(120丁/ p H13)では、3か月に亙って
ポリマーの加水分解は起こらなかった。PCT沈澱/腐
蝕率を下記の表りに纏めている。
11は実施例1の方法に準じて調製し、高pHの標準的
処方において直接にVTL−4を代えるのに用いた。ポ
リマー組成物1.6または11を含むことを除いて実施
例1の処理法に準じて行ったこれらの処方の長期安定性
試験(120丁/ p H13)では、3か月に亙って
ポリマーの加水分解は起こらなかった。PCT沈澱/腐
蝕率を下記の表りに纏めている。
表D
マーなし *148 8−8.8 0.8 −ポリ
マー組成物 1(7,5) 72 10 42 2.8
0.45 0.0ポリマ一組成物 3(7,5) 30 2 37 1.3 0
.0 −0.1ポリマ一組成物 5(7,5) 7B 15 49 2.9
0.35 0.0ポリマ一組成物 8(7,5) 101 2B ?2 3.
1 0.20 0.1ポリマ一組成物 7(7,5) 57 10 94 1.3
0.05 0.0ポリマ一組成物 If(7,5) 21 3 15 1.3
0.25 0.IVersaTL−4(7,5) 5
4 7 27 2.8 0.2 0.0*: ブランク
は回帰温度43°C(110°F)で行った。このブラ
ンクについての試験条件の苛酷さの低減は、高温での過
度のスケーリングによって必要となった。
マー組成物 1(7,5) 72 10 42 2.8
0.45 0.0ポリマ一組成物 3(7,5) 30 2 37 1.3 0
.0 −0.1ポリマ一組成物 5(7,5) 7B 15 49 2.9
0.35 0.0ポリマ一組成物 8(7,5) 101 2B ?2 3.
1 0.20 0.1ポリマ一組成物 7(7,5) 57 10 94 1.3
0.05 0.0ポリマ一組成物 If(7,5) 21 3 15 1.3
0.25 0.IVersaTL−4(7,5) 5
4 7 27 2.8 0.2 0.0*: ブランク
は回帰温度43°C(110°F)で行った。このブラ
ンクについての試験条件の苛酷さの低減は、高温での過
度のスケーリングによって必要となった。
零札 2回の試験の平均値。
幾つかの場合には、少量のトリトリアゾールを加えるの
が好ましいことを見出した。
が好ましいことを見出した。
トリトリアゾール
Diet ionary,第4版、91頁に記載されて
おり(ベンゾトリアゾールを参照されたい)、銅および
水と接触する銅合金表面の腐蝕抑制剤として用いられる
。それを使用するときには、重塁で1〜20ppmの投
与二で系に添加する。
おり(ベンゾトリアゾールを参照されたい)、銅および
水と接触する銅合金表面の腐蝕抑制剤として用いられる
。それを使用するときには、重塁で1〜20ppmの投
与二で系に添加する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、硬度を含み且つ少なくとも8のpHを有する工業用
冷却水の腐蝕を抑制する組成物であって、 I、水性のアルカリ性環境中で腐蝕を抑制することがで
きる水溶性の有機ホスホネートと、II、重合したモノ
マー100重量部の総量に対して、50〜90重量部の
アクリル酸と10〜50重量部の置換アクリルアミドと
から成る水溶性の非架橋性ランダムポリマーであって、
上記ポリマーの重量平均分子量が約1,000〜50,
000の範囲にあり、アクリル酸と置換アクリルアミド
との重合単位が下記の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、分子量の限界に従って、mは約10〜700の
範囲にあり、nは約0.1〜350の範囲にあり、 RおよびR^1はそれぞれ水素およびメチルから選択さ
れ、 Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アンモ
ニウムおよびマグネシウム残基から選択され、 R^2およびR^3はそれぞれ水素および総数で1〜8
個の炭素原子を有する置換基および無置換基から選択さ
れ、R^2および/またはR^3についての置換基は、
R^2および/またはR^3のいずれかが水素以外であ
る条件でアルキル、アリールおよびケト基から選択され
る)で表わされ、ポリマー:ホスホネートの重量比が0
.2/1〜2/1の範囲内にあることを特徴とする組成
物。 2、上記ホスホネートが2−ホスホノブタン−1,2,
4−トリカルボン酸と1−ヒドロキシエタン−1,1−
ジホスホン酸との配合物である、特許請求の範囲第1項
記載の組成物。 3、上記ランダムポリマーが更に、陰イオン性または非
陰イオン性基のいずれかを含むターポリマーを30重量
%以下含むことを特徴とする、特許請求の範囲第1項記
載の組成物。 4、上記ポリマーがアクリル酸、メタクリル酸およびt
−ブチルアクリルアミドのターポリマーであり、上記ホ
スホネートが1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホ
ン酸および2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカル
ボン酸から成る群から選択される、特許請求の範囲第3
項記載の組成物。 5、腐蝕抑制量のトリトリアゾールを有する、特許請求
の範囲第4項記載の組成物。 6、ターポリマーの重量平均分子量が 9,000〜30,000である、特許請求の範囲第2
項記載の組成物。 7、硬度および少なくとも8のpHを有する水性系にお
いてホスホネート腐蝕抑制剤の性能の改良法であって、 I、水性のアルカリ性環境中で腐蝕を抑制することがで
きる水溶性の有機ホスホネートと、II、重合したモノ
マー100重量部の総量に対して、50〜90重量部の
アクリル酸と10〜50重量部の置換アクリルアミドと
から成る水溶性の非架橋性ランダムポリマーであって、
上記ポリマーの重量平均分子量が約1,000〜50,
000の範囲にあり、アクリル酸と置換アクリルアミド
との重合単位が下記の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、分子量の限界に従って、mは約10〜700の
範囲にあり、nは約0.1〜350の範囲にあり、 RおよびR^1はそれぞれ水素およびメチルから選択さ
れ、 Xは水素、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アンモ
ニウムおよびマグネシウム残基から選択され、 R^2およびR^3はそれぞれ水素および総数で1〜8
個の炭素原子を有する置換基および無置換基から選択さ
れ、R^2および/またはR^3についての置換基はR
^2および/またはR^3のいずれかが水素以外である
条件でアルキル、アリールおよびケト基から選択される
)で表わされ、 ポリマー:ホスホネートの重量比が0.2/1〜2/1
の範囲内にあることを特徴とする組成物の5〜50pp
mの量を上記系に投与することを特徴とする方法。 8、ホスホネートの投与量が2−ホスホノブタン−1,
2,4−トリカルボン酸と1−ヒドロキシエタン−1,
1−ジホスホン酸との比率を0.5/1〜4/1の範囲
内とする、特許請求の範囲第7項記載の方法。 9、上記水性系に上記組成物を8〜30ppmの範囲内
で投与する、特許請求の範囲第7項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84441586A | 1986-03-26 | 1986-03-26 | |
US844415 | 1986-03-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62270786A true JPS62270786A (ja) | 1987-11-25 |
JPH0146593B2 JPH0146593B2 (ja) | 1989-10-09 |
Family
ID=25292665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62067764A Granted JPS62270786A (ja) | 1986-03-26 | 1987-03-20 | 工業用冷却水の腐蝕を抑制する組成物および腐蝕抑制剤の性能を改良する方法 |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0238728B1 (ja) |
JP (1) | JPS62270786A (ja) |
CN (1) | CN1019989C (ja) |
AT (1) | ATE56051T1 (ja) |
AU (1) | AU593082B2 (ja) |
BR (1) | BR8701331A (ja) |
CA (1) | CA1329474C (ja) |
DE (1) | DE3673809D1 (ja) |
DK (1) | DK169709B1 (ja) |
ES (1) | ES2016796B3 (ja) |
FI (1) | FI871242A (ja) |
GR (1) | GR3001105T3 (ja) |
MX (1) | MX173411B (ja) |
PT (1) | PT84551B (ja) |
TR (1) | TR24741A (ja) |
ZA (1) | ZA872236B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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