JPS62270400A - 石質材料の美術品の複製方法 - Google Patents
石質材料の美術品の複製方法Info
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- JPS62270400A JPS62270400A JP62056952A JP5695287A JPS62270400A JP S62270400 A JPS62270400 A JP S62270400A JP 62056952 A JP62056952 A JP 62056952A JP 5695287 A JP5695287 A JP 5695287A JP S62270400 A JPS62270400 A JP S62270400A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B7/00—Moulds; Cores; Mandrels
- B28B7/38—Treating surfaces of moulds, cores, or mandrels to prevent sticking
- B28B7/388—Treating surfaces of moulds, cores, or mandrels to prevent sticking with liquid material, e.g. lubricating
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- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
この発明は、石質材料、テラコッタ又はスタッコの彫刻
の複製に関する。
の複製に関する。
[発明の背景コ
人造大理石石膏をバッチに型取り、これを継ぎ足して美
術品の雌型な得ることによって彫刻を複製することは知
られている。石膏バッチの離型が容易になるように、型
を取る前に美術品の型取られた又は彫刻された表面に高
濃度の石鹸を含有する水又はオイル及び(若しくは)グ
リースが塗布される。
術品の雌型な得ることによって彫刻を複製することは知
られている。石膏バッチの離型が容易になるように、型
を取る前に美術品の型取られた又は彫刻された表面に高
濃度の石鹸を含有する水又はオイル及び(若しくは)グ
リースが塗布される。
この複製方法は、長時間を要する方法であるばかりでな
く、特に、使用されるオイル、グリース及び石鹸が美術
品を構成する材料に吸収され、これら物質が石質材料に
吸収されるので後に洗浄してもこれら物質を完全に除去
することができず、そのために美術品の表面に変化が生
じるという欠点を有する。
く、特に、使用されるオイル、グリース及び石鹸が美術
品を構成する材料に吸収され、これら物質が石質材料に
吸収されるので後に洗浄してもこれら物質を完全に除去
することができず、そのために美術品の表面に変化が生
じるという欠点を有する。
雌型な型取るための材料として石膏の代わりにシリコー
ンゴムを使用することによって、上記の方法と比較して
著しい改善が達成できた。
ンゴムを使用することによって、上記の方法と比較して
著しい改善が達成できた。
この方法によって、美術品の非常に小さな細部でさえも
非常に正確な複製が達成され且つ容易な離型が達成され
、そしてこの方法に要する時間は石膏型取りに要する時
間よりはるかに短い。
非常に正確な複製が達成され且つ容易な離型が達成され
、そしてこの方法に要する時間は石膏型取りに要する時
間よりはるかに短い。
しかしながら、この型取り方法は、美術品の美的要求に
不適合なオイル状残留物が残るという欠点を示す。
不適合なオイル状残留物が残るという欠点を示す。
実際、この残留物は、シリコーンを除去するのに用いら
れる溶媒によってもはや除去できなくなり、同時にこの
溶媒は美術品と融和性である。
れる溶媒によってもはや除去できなくなり、同時にこの
溶媒は美術品と融和性である。
このオイル状残留物は美術品の上に残留し、色又は何ら
かの外観に変化をもたらす。
かの外観に変化をもたらす。
さらにその上、この残留物は時間と共に美術品に吸収さ
れるので、後の修復が複雑になる。
れるので、後の修復が複雑になる。
[発明の説明コ
従って、本発明の目的は、シリコーンゴムを使用して美
術品の雌型な製造することから成る石質材料の美術品の
複製方法であって、ポリテトラフルオルエチレンを基と
する弗素化グリースと中性末端基を持つ液状ペルフルオ
ルポリエーテルとの薄膜を美術品に塗布することを特徴
とする前記複製方法にある。
術品の雌型な製造することから成る石質材料の美術品の
複製方法であって、ポリテトラフルオルエチレンを基と
する弗素化グリースと中性末端基を持つ液状ペルフルオ
ルポリエーテルとの薄膜を美術品に塗布することを特徴
とする前記複製方法にある。
グリースの製造には、当技術分野において既知の方法に
従って得られる任意の液状ペルフルオルポリエーテルを
使用することができる。
従って得られる任意の液状ペルフルオルポリエーテルを
使用することができる。
一般に、グリースの製造に適したペルフルオルポリエー
テル類は20℃において20〜6,000CStの範囲
の動粘度を持つ。また、40〜30.000cStの粘
度を有する特定のベルフルオルエーテル類を使用するこ
ともできる。好ましくは、500〜2,000cSt(
7)粘度を有するペルフルオルポリエーテル類を使用す
ることができる。
テル類は20℃において20〜6,000CStの範囲
の動粘度を持つ。また、40〜30.000cStの粘
度を有する特定のベルフルオルエーテル類を使用するこ
ともできる。好ましくは、500〜2,000cSt(
7)粘度を有するペルフルオルポリエーテル類を使用す
ることができる。
使用することのできるペルフルオルポリエーテル類は、
r Fomblin YJ、rFomblin ZJ、
’Krytox」として知られている又はヨーロッパ特
許出願公開筒148,482号(ダイキン(Daiki
n) )及び米国特許第4,523.039号(ラゴウ
(Lagow) )に開示された市販製品である。
r Fomblin YJ、rFomblin ZJ、
’Krytox」として知られている又はヨーロッパ特
許出願公開筒148,482号(ダイキン(Daiki
n) )及び米国特許第4,523.039号(ラゴウ
(Lagow) )に開示された市販製品である。
Fomblin Yとして知られている製品は、ポリオ
キシフルオルオキシアルキレン単位: CF2−CF−0及び CF 20 F 3 を、Fomblin lとして知られている製品はCF
z CF、O及びCF 20単位を、にrytoxとし
て知られている製品は CF2−CF−0 ■ CF。
キシフルオルオキシアルキレン単位: CF2−CF−0及び CF 20 F 3 を、Fomblin lとして知られている製品はCF
z CF、O及びCF 20単位を、にrytoxとし
て知られている製品は CF2−CF−0 ■ CF。
単位を、ダイキンの製品はCF2 CF2 CF20を
、そしてラゴウの製品はCF2CF2O単位を含有する
。さらに、上記の単位の組合せ、特にCF2−CF−0
、CF2CF2O及びCF2OF 3 によって構成される混合ペルフルオルポリエーテルを使
用することができる。
、そしてラゴウの製品はCF2CF2O単位を含有する
。さらに、上記の単位の組合せ、特にCF2−CF−0
、CF2CF2O及びCF2OF 3 によって構成される混合ペルフルオルポリエーテルを使
用することができる。
使用することのできるポリテトラフルオルエチレンを基
とする弗素化グリースは、J、メシナ(Messina
)による「ジャーナル・才ブ・アメリカン・ソサエティ
・オブ・ルブリケイション・エンジニアリング(Jou
rnal of American 5ociety
ofの方法に従って製造されたものである。
とする弗素化グリースは、J、メシナ(Messina
)による「ジャーナル・才ブ・アメリカン・ソサエティ
・オブ・ルブリケイション・エンジニアリング(Jou
rnal of American 5ociety
ofの方法に従って製造されたものである。
好ましくは、イタリア国特許出願公開第21.590A
/82号に開示された方法に従って製造される、ポリテ
トラフルオルエチレンを基とする弗素化グリースを使用
する。
/82号に開示された方法に従って製造される、ポリテ
トラフルオルエチレンを基とする弗素化グリースを使用
する。
使用することのできる市販のグリースの例としては、F
omblin RT、 UT 182OT 20が
挙げられる。塗布されるグリースの膜は、一般に薄膜の
形状を取る。
omblin RT、 UT 182OT 20が
挙げられる。塗布されるグリースの膜は、一般に薄膜の
形状を取る。
いずれのしても、洗浄はグリース中に含有される増粘剤
を除去する目的のみを有する。一方、公知のような保護
作用を有するペルフルオルポリエーテルを完全に除去す
ることは必要ではない。
を除去する目的のみを有する。一方、公知のような保護
作用を有するペルフルオルポリエーテルを完全に除去す
ることは必要ではない。
さらに、残留ペルフルオルポリエーテルは色及び美的外
観に何ら欠陥をもたらさないということがわかった。
観に何ら欠陥をもたらさないということがわかった。
グリースを除去するための溶媒としては、−aにベル弗
素化又はベル塩素化グリースを使用する。好ましくは、
20〜80°Cの範囲の沸点を有する、登録商標名r
Algofrene」の下で知られている市販製品を使
用する。
素化又はベル塩素化グリースを使用する。好ましくは、
20〜80°Cの範囲の沸点を有する、登録商標名r
Algofrene」の下で知られている市販製品を使
用する。
型取りされた材料を分離した後に、例えば1.1゜2−
トリクロル−1,2,2−トリフルオルエタンのような
りロルフルオルカーボン溶媒(これは、目に見える程の
残留物の痕跡を残すことなくグリースを完全に除去する
)を使用して弗素化グリースの膜が除去される。弗素化
グリースの総除去量は、IRスペクトルにおいて炭素−
弗素結合の典型的な吸収が存在しないということによっ
て確認される。
トリクロル−1,2,2−トリフルオルエタンのような
りロルフルオルカーボン溶媒(これは、目に見える程の
残留物の痕跡を残すことなくグリースを完全に除去する
)を使用して弗素化グリースの膜が除去される。弗素化
グリースの総除去量は、IRスペクトルにおいて炭素−
弗素結合の典型的な吸収が存在しないということによっ
て確認される。
[実施例]
以下の実施例は、本発明を単に例示するためのものであ
り、これを何ら限定しない。
り、これを何ら限定しない。
汎ユ
1010X10X1の「ビニトラ・セレナ(Pietr
a 5erena) J (砂岩)の2つの試験片を
使用した。何の処理もされていない試験片Aに、約60
分後に架橋して固体素材になる厚さ約0.5cmの液状
シリコーンゴムの膜を塗布した。
a 5erena) J (砂岩)の2つの試験片を
使用した。何の処理もされていない試験片Aに、約60
分後に架橋して固体素材になる厚さ約0.5cmの液状
シリコーンゴムの膜を塗布した。
試験片Bには、登録商標名Fomblin RT15
のグリースの膜を100g/ゴの量で均質に塗布した。
のグリースの膜を100g/ゴの量で均質に塗布した。
次いで、試験片Aにおけるのと同様にシリコーンゴムの
膜を塗布した。
膜を塗布した。
24時間後に、これら2つの試験片からシリコーンゴム
の膜を引き裂くことによって除去した。
の膜を引き裂くことによって除去した。
得られた結果は以下の通りである:
筬狂ユ五:表面は、シリコーン製品の通常の溶媒(ケト
ン−アルコール配合物)によって除去できない架橋重合
物質の痕跡を示した。この材料を掻き取り、IR分析し
た結果、典型的なシリコーンゴムの吸収を示した。
ン−アルコール配合物)によって除去できない架橋重合
物質の痕跡を示した。この材料を掻き取り、IR分析し
た結果、典型的なシリコーンゴムの吸収を示した。
区笠豆旦:表面は弗素化グリースの存在のためにオイル
状の外観を有していた。トリクロルトリフルオルエチレ
ンを滲み込ませた脱脂綿で拭き、次いで同じ溶媒でブラ
ッシングすることによって洗浄して、弗素化グリースの
成分を除去した。洗浄操作の前に用いた溶媒を蒸発させ
て、ワックス状残渣を得た。これは、IRにかけると、
典型的な炭素−弗素結合の吸収を示した。試験片の表面
を掻き取って粉末を得て、これをIRにかけると、炭素
−弗素結合を含有しないことが示された。
状の外観を有していた。トリクロルトリフルオルエチレ
ンを滲み込ませた脱脂綿で拭き、次いで同じ溶媒でブラ
ッシングすることによって洗浄して、弗素化グリースの
成分を除去した。洗浄操作の前に用いた溶媒を蒸発させ
て、ワックス状残渣を得た。これは、IRにかけると、
典型的な炭素−弗素結合の吸収を示した。試験片の表面
を掻き取って粉末を得て、これをIRにかけると、炭素
−弗素結合を含有しないことが示された。
匠l
カラーラ(Carrara)産標準大理石(白色の微小
結晶状大理石)の試験片を用いて、例1の試験を繰り返
した。例1と同様の結果が得られた。
結晶状大理石)の試験片を用いて、例1の試験を繰り返
した。例1と同様の結果が得られた。
[
ベロナ(Verona)産赤色大理石の試験片を用いて
、例1の試験を繰り返した。例1と同様の結果が得られ
た。
、例1の試験を繰り返した。例1と同様の結果が得られ
た。
Claims (7)
- (1)シリコーンゴムを使用して美術品の雌型を製造す
ることから成る石質材料の美術品の複製方法であって、
ポリテトラフルオルエチレンを基とする弗素化グリース
と中性末端基を持つ液状ペルフルオルポリエーテルとの
薄膜を予め美術品に塗布することを特徴とする前記複製
方法。 - (2)ペルフルオルポリエーテルが20℃において20
〜6,000cStの範囲の動粘度を持つ特許請求の範
囲第1項記載の方法。 - (3)ペルフルオルポリエーテルが次式: ▲数式、化学式、表等があります▼及びCF_2O の繰り返しペルフルオルオキシアルキレン単位を含有す
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (4)ペルフルオルポリエーテルがCF_2CF_2O
及びCF_2Oタイプの繰り返し単位を含有する特許請
求の範囲第1項記載の方法。 - (5)ペルフルオルポリエーテルが CF_2CF_2CF_2O繰り返し単位を含有する特
許請求の範囲第1項記載の方法。 - (6)ペルフルオルポリエーテルがCF_2CF_2O
繰り返し単位を含有する特許請求の範囲第1項記載の方
法。 - (7)ペルフルオルポリエーテルが次式: ▲数式、化学式、表等があります▼及びCF_2O の繰り返し単位を含有する特許請求の範囲第1項記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT19761A/86 | 1986-03-14 | ||
IT19761/86A IT1188439B (it) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Processo di riproduzione delle opere d'arte in materiale litoideo |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62270400A true JPS62270400A (ja) | 1987-11-24 |
Family
ID=11161010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62056952A Pending JPS62270400A (ja) | 1986-03-14 | 1987-03-13 | 石質材料の美術品の複製方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4824626A (ja) |
EP (1) | EP0237982B1 (ja) |
JP (1) | JPS62270400A (ja) |
DE (1) | DE3781291T2 (ja) |
IT (1) | IT1188439B (ja) |
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---|---|---|---|---|
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ES2136039B1 (es) * | 1998-02-13 | 2000-05-16 | Campos Orrico S A | Procedimiento de fabricacion de piezas con imitacion de piedra natural. |
US20050271794A1 (en) * | 2003-12-24 | 2005-12-08 | Synecor, Llc | Liquid perfluoropolymers and medical and cosmetic applications incorporating same |
US20050142315A1 (en) * | 2003-12-24 | 2005-06-30 | Desimone Joseph M. | Liquid perfluoropolymers and medical applications incorporating same |
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US3565978A (en) * | 1967-09-11 | 1971-02-23 | Xerox Corp | Replication of surface deformation images |
US3839120A (en) * | 1971-02-22 | 1974-10-01 | Konel Molded Prod Corp | Mold for reproducing surface texture and method for making the same |
US3856592A (en) * | 1972-11-30 | 1974-12-24 | L Giorgi | Method of making an embossed tridemensional photograph by a dry process |
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IT1135597B (it) * | 1981-02-24 | 1986-08-27 | Montedison Spa | Impiego di perfluoropolieteri per la protezione di materiali da inquinamento |
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-
1986
- 1986-03-14 IT IT19761/86A patent/IT1188439B/it active
-
1987
- 1987-03-13 US US07/025,673 patent/US4824626A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-13 EP EP87103682A patent/EP0237982B1/en not_active Expired
- 1987-03-13 DE DE8787103682T patent/DE3781291T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-13 JP JP62056952A patent/JPS62270400A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4824626A (en) | 1989-04-25 |
EP0237982B1 (en) | 1992-08-26 |
IT1188439B (it) | 1988-01-14 |
EP0237982A3 (en) | 1989-07-05 |
EP0237982A2 (en) | 1987-09-23 |
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