JP3280451B2 - 洗浄剤および洗浄方法 - Google Patents
洗浄剤および洗浄方法Info
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- JP3280451B2 JP3280451B2 JP4728693A JP4728693A JP3280451B2 JP 3280451 B2 JP3280451 B2 JP 3280451B2 JP 4728693 A JP4728693 A JP 4728693A JP 4728693 A JP4728693 A JP 4728693A JP 3280451 B2 JP3280451 B2 JP 3280451B2
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- JP
- Japan
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- composition
- cleaning
- hexamethyldisiloxane
- weight
- ethanol
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フロンの代替剤と
して使用できるとともに、光学部品や電子部品などの被
洗浄物表面の汚れを拭き取り操作により除去する手拭き
の仕上げ洗浄に用いることが可能な洗浄剤および洗浄方
法に関する。
して使用できるとともに、光学部品や電子部品などの被
洗浄物表面の汚れを拭き取り操作により除去する手拭き
の仕上げ洗浄に用いることが可能な洗浄剤および洗浄方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】硝子やプラスチックからなる光学部品や
モールド部品、金属部品、セラミック部品などは、手拭
きによって表面汚れを除去することが行われる一方、光
学部品や電子部品は浸漬によって精密洗浄が行われ、こ
の精密洗浄では、浸漬および引き上げによって前工程で
使用した洗浄液を置換して除去する置換洗浄が行われて
いる。このような洗浄剤としては、従来より１，１，２
−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（フロ
ン１１３）が使用されている。これはフロン１１３が使
用されている。これはフロン１１３が不燃性である；生
体に対する毒性が低い；プラスチック、ゴムなどの高分
子材料を侵食しないが、油脂などを溶解するという選択
的溶解性を有する；乾燥速度が早い；などの優れた特性
を有しているためである。
モールド部品、金属部品、セラミック部品などは、手拭
きによって表面汚れを除去することが行われる一方、光
学部品や電子部品は浸漬によって精密洗浄が行われ、こ
の精密洗浄では、浸漬および引き上げによって前工程で
使用した洗浄液を置換して除去する置換洗浄が行われて
いる。このような洗浄剤としては、従来より１，１，２
−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（フロ
ン１１３）が使用されている。これはフロン１１３が使
用されている。これはフロン１１３が不燃性である；生
体に対する毒性が低い；プラスチック、ゴムなどの高分
子材料を侵食しないが、油脂などを溶解するという選択
的溶解性を有する；乾燥速度が早い；などの優れた特性
を有しているためである。
【０００３】一方、フロン１１３の使用量削減および不
燃化、脱脂力の向上のため、種々の混合物や共沸組成物
が開発されている。例えば、特開平１−３１８０９４号
公報には、洗浄溶剤としてフロン１１３とイソプロピル
アルコール、メチルエチルケトンとの混合物が記載され
ている。また、特開平２−２８９６９３号公報にはジク
ロロテトラフルオロプロパン（フロン２３４）とエタノ
ールなどの脂肪族低級アルコールとの共沸組成物が開示
されている。さらには、ＩＰＡ、エタノールなどの脂肪
族低級アルコール、アセトンなどのケトン単体、エーテ
ル系も検討されている。
燃化、脱脂力の向上のため、種々の混合物や共沸組成物
が開発されている。例えば、特開平１−３１８０９４号
公報には、洗浄溶剤としてフロン１１３とイソプロピル
アルコール、メチルエチルケトンとの混合物が記載され
ている。また、特開平２−２８９６９３号公報にはジク
ロロテトラフルオロプロパン（フロン２３４）とエタノ
ールなどの脂肪族低級アルコールとの共沸組成物が開示
されている。さらには、ＩＰＡ、エタノールなどの脂肪
族低級アルコール、アセトンなどのケトン単体、エーテ
ル系も検討されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、フロン１１
３などのパーハロエタンは化学的に特に安定であるため
対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここ
で太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾ
ンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、
これらの使用の削減が求められている。このため既述の
ように、フロン１１３とパーハロエタン以外の有機溶剤
との共沸組成物を開発することにより、その使用量の削
減を図っているが、フロン１１３を必須とするため、そ
の使用量をある程度以上減らすことができない問題があ
る。また、フロン１１３に比べ、オゾン層の破壊性が比
較的小さいフロン２３４との共沸組成物も開発されてい
るが、オゾン層の破壊を完全になくすことはできない。
３などのパーハロエタンは化学的に特に安定であるため
対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここ
で太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾ
ンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、
これらの使用の削減が求められている。このため既述の
ように、フロン１１３とパーハロエタン以外の有機溶剤
との共沸組成物を開発することにより、その使用量の削
減を図っているが、フロン１１３を必須とするため、そ
の使用量をある程度以上減らすことができない問題があ
る。また、フロン１１３に比べ、オゾン層の破壊性が比
較的小さいフロン２３４との共沸組成物も開発されてい
るが、オゾン層の破壊を完全になくすことはできない。
【０００５】一方、ＩＰＡなどの脂肪族低級アルコール
を用いた場合は、乾燥剤としての乾燥性に問題があると
ともに、ケトン系、エーテル系ではプラスチックなどの
素材を劣化させるため実用的でない。
を用いた場合は、乾燥剤としての乾燥性に問題があると
ともに、ケトン系、エーテル系ではプラスチックなどの
素材を劣化させるため実用的でない。
【０００６】本発明はこれらの問題点を考慮してなされ
たものであり、オゾン層を破壊することがないととも
に、プラスチック等の素材を侵すことなく、良好な洗浄
力を有し、しかも乾燥速度の優れた手拭き用の洗浄剤お
よび洗浄方法を提供することを目的とする。
たものであり、オゾン層を破壊することがないととも
に、プラスチック等の素材を侵すことなく、良好な洗浄
力を有し、しかも乾燥速度の優れた手拭き用の洗浄剤お
よび洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄剤および洗
浄方法は、ヘキサメチルジシロキサンとエタノールとの
共沸組成物の共沸点に対して沸点の増加が１．０℃未満
でかつ組成変化が５重量％未満となる、ヘキサメチルジ
シロキサン５５．０〜７０．０重量％と、エタノール３
０．０〜４５．０重量％とからなる組成物を有効成分と
し、手拭きの仕上げ洗浄に使用するものである。手拭き
の仕上げ洗浄とは、洗浄剤を綿布やクリーニングペーパ
ーなどの浸し込ませ物に浸み込ませて被洗浄物の表面を
拭くことにより、表面の汚れを除去するものでる。
浄方法は、ヘキサメチルジシロキサンとエタノールとの
共沸組成物の共沸点に対して沸点の増加が１．０℃未満
でかつ組成変化が５重量％未満となる、ヘキサメチルジ
シロキサン５５．０〜７０．０重量％と、エタノール３
０．０〜４５．０重量％とからなる組成物を有効成分と
し、手拭きの仕上げ洗浄に使用するものである。手拭き
の仕上げ洗浄とは、洗浄剤を綿布やクリーニングペーパ
ーなどの浸し込ませ物に浸み込ませて被洗浄物の表面を
拭くことにより、表面の汚れを除去するものでる。
【０００８】このような手拭きの仕上げ洗浄に用いる洗
浄剤は、使用時の液管理が容易で、しかも容易に回収し
再生して循環使用できることが重要であり、さらには、
蒸気洗浄も可能であることが望ましい。このような要件
を充足するには、単に２成分以上を混合しただけで得る
ことができず、共沸点を有する状態、すなわち共沸状態
の組成となっていることが必要である。このような共沸
状態の組成は個々の成分の沸点と異なる一定の沸点を示
し、この沸点が低い場合には、揮発速度が向上する；蒸
発の結果として組成物または留出物の割合がほとんど変
化しない；等の優れた特性を有している。具体的には、
共沸点に対し、組成物の沸点の増加が１．０℃未満であ
り、かつ組成物の組成変化が５ｗｔ％以下である特性を
有している。
浄剤は、使用時の液管理が容易で、しかも容易に回収し
再生して循環使用できることが重要であり、さらには、
蒸気洗浄も可能であることが望ましい。このような要件
を充足するには、単に２成分以上を混合しただけで得る
ことができず、共沸点を有する状態、すなわち共沸状態
の組成となっていることが必要である。このような共沸
状態の組成は個々の成分の沸点と異なる一定の沸点を示
し、この沸点が低い場合には、揮発速度が向上する；蒸
発の結果として組成物または留出物の割合がほとんど変
化しない；等の優れた特性を有している。具体的には、
共沸点に対し、組成物の沸点の増加が１．０℃未満であ
り、かつ組成物の組成変化が５ｗｔ％以下である特性を
有している。
【０００９】かかる共沸状態を有する組成は常圧下で、
ヘキサメチルジシロキサン６４．３〜６３．３ ｗｔ
％、エタノール３５．７〜３６．７ｗｔ％であり、また
共沸様状態を有する組成は、ヘキサメチルジシロキサン
が７０．０〜５５．０ｗｔ％、エタノールが３０．０〜
４５．０ｗｔ％の範囲における上記共沸状態を除く組成
であり、この範囲以外の組成では上記特性は得られな
い。
ヘキサメチルジシロキサン６４．３〜６３．３ ｗｔ
％、エタノール３５．７〜３６．７ｗｔ％であり、また
共沸様状態を有する組成は、ヘキサメチルジシロキサン
が７０．０〜５５．０ｗｔ％、エタノールが３０．０〜
４５．０ｗｔ％の範囲における上記共沸状態を除く組成
であり、この範囲以外の組成では上記特性は得られな
い。
【００１０】共沸組成物または共沸様組成物の一方の構
成要素であるヘキサメチルジシロキサンは化学式（ＣＨ
３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３で構成されており、この
うち、２５℃における粘度が、０．６５ＣＳｔのものを
使用することができる。このヘキサメチルジシロキサン
は、生体への毒性が少なく、化学的に安定であり、プラ
スチックやゴム、金属、ガラスなどにほとんど影響を与
えることがない。しかも、塩素等のハロゲンを含んでい
ないためオゾン層への影響もない。他方の構成要素のエ
タノールについても周知の通り生体への毒性が少なく、
安全性が高い。従って、このような構成要素からなる共
沸組成物または共沸様組成物は部品の手拭き仕上げ洗浄
に好適に適用することができると共に、使用時の液管理
が容易で、かつ容易に回収、再使用でき、さらに蒸気洗
浄も可能となる。
成要素であるヘキサメチルジシロキサンは化学式（ＣＨ
３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３で構成されており、この
うち、２５℃における粘度が、０．６５ＣＳｔのものを
使用することができる。このヘキサメチルジシロキサン
は、生体への毒性が少なく、化学的に安定であり、プラ
スチックやゴム、金属、ガラスなどにほとんど影響を与
えることがない。しかも、塩素等のハロゲンを含んでい
ないためオゾン層への影響もない。他方の構成要素のエ
タノールについても周知の通り生体への毒性が少なく、
安全性が高い。従って、このような構成要素からなる共
沸組成物または共沸様組成物は部品の手拭き仕上げ洗浄
に好適に適用することができると共に、使用時の液管理
が容易で、かつ容易に回収、再使用でき、さらに蒸気洗
浄も可能となる。
【００１１】なお、本発明では安定剤の添加が可能であ
るが、本発明の洗浄剤を安定させる効果が大きく、しか
も蒸留操作により同伴留出されるか共沸を形成する性質
のものが望ましい。また、本発明では溶解力を増大させ
るための溶剤を添加することができるが、この溶剤につ
いても安定剤と同様に、蒸留操作により同伴留出される
と共沸を形成する性質のものが望ましい。
るが、本発明の洗浄剤を安定させる効果が大きく、しか
も蒸留操作により同伴留出されるか共沸を形成する性質
のものが望ましい。また、本発明では溶解力を増大させ
るための溶剤を添加することができるが、この溶剤につ
いても安定剤と同様に、蒸留操作により同伴留出される
と共沸を形成する性質のものが望ましい。
【００１２】（実施例１） 市販されているヘキサメチルジシロキサンを蒸留、精
留、吸着剤により精製し、不純物として混入しているヘ
キサメチルジシロキサンより揮発しにくい炭化水素系化
合物、粘度１ＣＳｔ（２５℃）以上のシロキサンなどを
除去した。これらの不純物は、被洗浄物上に残渣となる
可能性があるためである。この精製により得られたヘキ
サメチルジシロキサンの純度をガスクロマトグラフィで
分析したところ、９９．０％以上であった。またこのヘ
キサメチルジシロキサンの粘度は０．６５ＣＳｔ（２５
℃）であった。
留、吸着剤により精製し、不純物として混入しているヘ
キサメチルジシロキサンより揮発しにくい炭化水素系化
合物、粘度１ＣＳｔ（２５℃）以上のシロキサンなどを
除去した。これらの不純物は、被洗浄物上に残渣となる
可能性があるためである。この精製により得られたヘキ
サメチルジシロキサンの純度をガスクロマトグラフィで
分析したところ、９９．０％以上であった。またこのヘ
キサメチルジシロキサンの粘度は０．６５ＣＳｔ（２５
℃）であった。
【００１３】このようにして精製したヘキサメチルジシ
ロキサンおよび純度９９．５％以上のエタノールの１０
０ｇをそれぞれ蒸留フラスコに入れて２００ｇとし、理
論段数３０段の精留塔を用いて常圧下で精留した。この
精留により７１．４℃において共沸留分が得られた。そ
して、この留分をガスクロマトグラフィーにより分析し
たところ、ヘキサメチルジシロキサンが６４．３〜６
３．３％で、エタノールが３５．７〜３６．７％の組成
であった。
ロキサンおよび純度９９．５％以上のエタノールの１０
０ｇをそれぞれ蒸留フラスコに入れて２００ｇとし、理
論段数３０段の精留塔を用いて常圧下で精留した。この
精留により７１．４℃において共沸留分が得られた。そ
して、この留分をガスクロマトグラフィーにより分析し
たところ、ヘキサメチルジシロキサンが６４．３〜６
３．３％で、エタノールが３５．７〜３６．７％の組成
であった。
【００１４】なお、本実施例の洗浄剤においては、上記
方法で作成した共沸組成物に対し、安定剤および／また
は溶剤を添加することができる。安定剤としては、例え
ばジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタンなどの
エーテル類、ヘキセン、ペンタジエン、シクロヘキセ
ン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類を単独ある
いは２種以上併用することができる。このような安定剤
を例えば、０．１〜１０ｗｔ％添加することにより、性
能等の劣化が認められず、より安定化した特性を付与す
ることができる。
方法で作成した共沸組成物に対し、安定剤および／また
は溶剤を添加することができる。安定剤としては、例え
ばジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタンなどの
エーテル類、ヘキセン、ペンタジエン、シクロヘキセ
ン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類を単独ある
いは２種以上併用することができる。このような安定剤
を例えば、０．１〜１０ｗｔ％添加することにより、性
能等の劣化が認められず、より安定化した特性を付与す
ることができる。
【００１５】一方、溶剤としては、例えばペンタン、イ
ソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン等の炭化水素類、
メタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルア
ルコール等の低級アルコール類、アセトン等のケトン類
等から選ばれる１種または２種以上を使用できる。この
溶剤の混合比は特に限定されないが、例えば、１〜２０
ｗｔ％添加することにより、溶解力を増大させることが
できる。
ソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン等の炭化水素類、
メタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルア
ルコール等の低級アルコール類、アセトン等のケトン類
等から選ばれる１種または２種以上を使用できる。この
溶剤の混合比は特に限定されないが、例えば、１〜２０
ｗｔ％添加することにより、溶解力を増大させることが
できる。
【００１６】（実施例２） 実施例１で精製したヘキサメチルジシロキサンが９９．
０〜１０．０％の範囲およびエタノールが１．０〜９
０．０ｗｔ％の範囲で、その配合比を１ｗｔ％こどに変
化させた混合物２００ｇを作成し、これらの混合物の沸
点を測定した。結果を後述する表１の「蒸留前」の欄お
よび「観測沸点」の欄に示す。表１において、ヘキサメ
チルジシロキサンの配合比３５．０ｗｔ％以上の混合物
は、実施例１の共沸組成物と同様に洗浄剤として適用で
きる共沸様組成物となっており、以下、実施例２の製造
物と記する。
０〜１０．０％の範囲およびエタノールが１．０〜９
０．０ｗｔ％の範囲で、その配合比を１ｗｔ％こどに変
化させた混合物２００ｇを作成し、これらの混合物の沸
点を測定した。結果を後述する表１の「蒸留前」の欄お
よび「観測沸点」の欄に示す。表１において、ヘキサメ
チルジシロキサンの配合比３５．０ｗｔ％以上の混合物
は、実施例１の共沸組成物と同様に洗浄剤として適用で
きる共沸様組成物となっており、以下、実施例２の製造
物と記する。
【００１７】なお、本実施例の共沸様組成物からなる洗
浄剤においても、実施例１に示した安定剤および／また
は溶剤を添加することができる。
浄剤においても、実施例１に示した安定剤および／また
は溶剤を添加することができる。
【００１８】（実施例３） 実施例１で精製したヘキサメチルジシロキサンが９９．
０〜１０．０ｗｔ％の範囲およびエタノールが１．０〜
９０．０ｗｔ％の範囲で、その配合比を１ｗｔ％ごとに
変化させた混合物２００ｇを作成した。そして、これら
の混合物をそれぞれ蒸留フラスコに入れて単一蒸留し
た。また、この蒸留の際の蒸留前、留出物、蒸留残液を
ガスクロマトグラフィで分析した。結果を表１に示す。
０〜１０．０ｗｔ％の範囲およびエタノールが１．０〜
９０．０ｗｔ％の範囲で、その配合比を１ｗｔ％ごとに
変化させた混合物２００ｇを作成した。そして、これら
の混合物をそれぞれ蒸留フラスコに入れて単一蒸留し
た。また、この蒸留の際の蒸留前、留出物、蒸留残液を
ガスクロマトグラフィで分析した。結果を表１に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】なお、表１にはｗｔ％ごとに配合比を変化
させたものの内、一部のみを抽出して掲載してある。
させたものの内、一部のみを抽出して掲載してある。
【００２１】蒸留前の組成と、留出液の組成とを比較す
ると、ヘキサメチルジシロキサンが７０．０〜５５．０
ｗｔ％、エタノール３０．０〜４５．０ｗｔ％の範囲に
おいて、５ｗｔ％以下の組成変化となっており、この５
ｗｔ％の組成変化の範囲内の留出物が共沸様組成物とし
て実施例１と同様に洗浄剤として適用することができ、
以下実施例３の製造物と記する。
ると、ヘキサメチルジシロキサンが７０．０〜５５．０
ｗｔ％、エタノール３０．０〜４５．０ｗｔ％の範囲に
おいて、５ｗｔ％以下の組成変化となっており、この５
ｗｔ％の組成変化の範囲内の留出物が共沸様組成物とし
て実施例１と同様に洗浄剤として適用することができ、
以下実施例３の製造物と記する。
【００２２】なお、この実施例３においても、実施例１
と同様に安定剤および／または溶剤を添加することがで
きる。
と同様に安定剤および／または溶剤を添加することがで
きる。
【００２３】（実施例４） この実施例４では実施例１、実施例２および３の製造物
の手拭き洗浄および検査について説明する。
の手拭き洗浄および検査について説明する。
【００２４】まず、実施例１の留分、実施例２の製造物
および実施例３の製造物を、手押しポンプ付きのハンド
ラップ容器に入れ、手拭き洗浄剤として使用した。すな
わち、これらの組成物をハンドラップ容器からクリーン
ワイプ紙に適量浸み込ませ、光学芯取り加工後の芯取り
油が付着した光学レンズを手拭き洗浄した。その結果、
芯取り油を完全に除去することができ、しかも光学レン
ズにヤケの発生もない良好な仕上がりとなった。次に、
同様に、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ガラ
スフィラー入りＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＰ（ポリ
プロピレン）およびＡＢＳ（アクリルニトリル−ブタジ
エン−スチレン）からなるそれぞれのプラスチック板を
使用し、これらのプラスチック板の表面を手拭きにより
仕上げ洗浄した。その結果、いずれもプラスチック板に
対するアタック性等の問題がなかった。
および実施例３の製造物を、手押しポンプ付きのハンド
ラップ容器に入れ、手拭き洗浄剤として使用した。すな
わち、これらの組成物をハンドラップ容器からクリーン
ワイプ紙に適量浸み込ませ、光学芯取り加工後の芯取り
油が付着した光学レンズを手拭き洗浄した。その結果、
芯取り油を完全に除去することができ、しかも光学レン
ズにヤケの発生もない良好な仕上がりとなった。次に、
同様に、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ガラ
スフィラー入りＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＰ（ポリ
プロピレン）およびＡＢＳ（アクリルニトリル−ブタジ
エン−スチレン）からなるそれぞれのプラスチック板を
使用し、これらのプラスチック板の表面を手拭きにより
仕上げ洗浄した。その結果、いずれもプラスチック板に
対するアタック性等の問題がなかった。
【００２５】一方、上記プラスチックからなる５×５０
×２ｍｍの大きさの試験片をガラスビン内に入れ、表１
に示す組成液１００ｇを充填し、常温常湿下に４８時間
放置して取り出し、各試験片の重量変化および外観変化
を調べた。また、比較例としてエーテルとエタノール混
合液（エーテル：エタノール＝３：１）およびダイフロ
ン（商品名）を同様に用いた。結果を表２に示す。同表
において、「○」は適量変化が１％未満でかつクラック
発生、溶解発生がなく、「△」は重量変化が１％未満で
かつクラック発生、溶解発生がなく、「×」は重量変化
が１％以上でかつクラック発生、溶解発生があった結果
を、それぞれ示す。なお、表２においてヘキサメチルジ
シロキサンとエタノールとの１ｗｔ％ごとの配合比の
内、一部のみを抽出掲載してある。
×２ｍｍの大きさの試験片をガラスビン内に入れ、表１
に示す組成液１００ｇを充填し、常温常湿下に４８時間
放置して取り出し、各試験片の重量変化および外観変化
を調べた。また、比較例としてエーテルとエタノール混
合液（エーテル：エタノール＝３：１）およびダイフロ
ン（商品名）を同様に用いた。結果を表２に示す。同表
において、「○」は適量変化が１％未満でかつクラック
発生、溶解発生がなく、「△」は重量変化が１％未満で
かつクラック発生、溶解発生がなく、「×」は重量変化
が１％以上でかつクラック発生、溶解発生があった結果
を、それぞれ示す。なお、表２においてヘキサメチルジ
シロキサンとエタノールとの１ｗｔ％ごとの配合比の
内、一部のみを抽出掲載してある。
【００２６】
【表２】
【００２７】表２から明らかなように、ヘキサメチルジ
シロキサンとエタノールの組成物では、いずれも「○」
で良好な結果となっていた。
シロキサンとエタノールの組成物では、いずれも「○」
で良好な結果となっていた。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の手拭きの
仕上げ洗浄用の洗浄剤および洗浄方法は、オゾン層等の
環境破壊がないとともに、使用時の液管理が容易であっ
て、プラスチック等の材料を侵すことがなく、洗浄物の
劣化および洗浄物への残渣が全くなく、また蒸発による
組成変化がなく、人体への毒性が少なくて安全性が高
く、さらには乾燥速度も優れるため、手拭きの仕上げ洗
浄用の洗浄剤および洗浄方法として優れた効果を発揮す
ることができる。
仕上げ洗浄用の洗浄剤および洗浄方法は、オゾン層等の
環境破壊がないとともに、使用時の液管理が容易であっ
て、プラスチック等の材料を侵すことがなく、洗浄物の
劣化および洗浄物への残渣が全くなく、また蒸発による
組成変化がなく、人体への毒性が少なくて安全性が高
く、さらには乾燥速度も優れるため、手拭きの仕上げ洗
浄用の洗浄剤および洗浄方法として優れた効果を発揮す
ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−56203（ＪＰ，Ａ) 国際公開91／13697（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C11D 7/50 B01D 12/00 C23G 5/032 C11D 7/26
Claims (2)
- 【請求項１】 手拭きの仕上げ洗浄に用いる洗浄剤であ
り、ヘキサメチルジシロキサンとエタノールとの共沸組
成物の共沸点に対して沸点の増加が１．０℃未満でかつ
組成変化が５重量％未満となる、前記ヘキサメチルジシ
ロキサン５５．０〜７０．０重量％と、エタノール３
０．０〜４５．０重量％からなる組成物を有効成分とす
ることを特徴とする洗浄剤。 - 【請求項２】 ヘキサメチルジシロキサンとエタノール
との共沸組成物の共沸点に対して沸点の増加が１．０℃
未満でかつ組成変化が５重量％未満となる、前記ヘキサ
メチルジシロキサン５５．０〜７０．０重量％と、エタ
ノール３０．０〜４５．０重量％からなる組成物を有効
成分とした洗浄剤を容器に入れ、この洗浄剤を綿布やペ
ーパー等の浸み込ませ物に浸し込ませて被洗浄物表面を
拭くことにより該表面の汚れを除去して洗浄することを
特徴とする手拭きの仕上げ洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4728693A JP3280451B2 (ja) | 1992-04-09 | 1993-02-12 | 洗浄剤および洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-117009 | 1992-04-09 | ||
| JP11700992 | 1992-04-09 | ||
| JP4728693A JP3280451B2 (ja) | 1992-04-09 | 1993-02-12 | 洗浄剤および洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0688098A JPH0688098A (ja) | 1994-03-29 |
| JP3280451B2 true JP3280451B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=26387455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4728693A Expired - Lifetime JP3280451B2 (ja) | 1992-04-09 | 1993-02-12 | 洗浄剤および洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3280451B2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-12 JP JP4728693A patent/JP3280451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0688098A (ja) | 1994-03-29 |
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