JPH0688098A - 洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 オゾン層の破壊がなく、洗浄物を侵すことな
く、乾燥速度の優れた手拭き洗浄剤、置換洗浄剤を提供
する。 【構成】 ヘキサメチルジシロキサンとエタノールとの
共沸組成物または共沸様組成物を手拭き洗浄剤、置換洗
浄剤とする。ヘキサメチルジシロキサンは粘度０．６５
ＣＳｔ（２５℃）のものを使用する。このヘキサメチル
ジシロキサンは、エタノールと同様に、オゾン層を破壊
することなく、洗浄物を侵すことがない。ヘキサジメチ
ルジシロキサンとエタノールの共沸組成物または共沸様
組成物は沸点が低くなり、蒸発残渣も生じることがな
い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フロンの代替剤として
使用できると共に、光学部品や電子部品などの被洗浄物
表面の汚れを拭き取り操作により除去する手拭きの仕上
げ洗浄や被洗浄物の精密洗浄における洗浄液の置換洗浄
に用いることが可能な洗浄剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】硝子やプラスチックからなる光学部品や
モールド部品、金属部品、セラミック部品などは、手拭
きによって表面汚れ除去することが行われる一方、光学
部品や電子部品は精密洗浄が行われ、この精密洗浄で
は、前工程で使用した洗浄液を置換して除去する置換洗
浄が行われている。このような洗浄剤としては、従来よ
り１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロ
エタン（フロン１１３）が使用されている。これはフロ
ン１１３が不燃性である；生体に対する毒性が低い；プ
ラスチック，ゴムなどの高分子材料を侵食しないが、油
脂等を溶解するという選択的溶解性を有する；乾燥速度
が早い；等優れた特性を有しているためである。

【０００３】一方、フロン１１３の使用量削減および不
燃化、脱脂力の向上のため、種々の混合物や共沸組成物
が開発されている。例えば、特開平１−３１８０９４号
公報には洗浄溶剤としてフロン１１３とイソプロピルア
ルコール，メチルエチルケトンとの混合物が記載されて
いる。また、特開平２−２８９６９３号公報にはジクロ
ロテトラフルオロプロパン（フロン２３４）とエタノー
ル等の脂肪族低級アルコールとの共沸組成物が開示され
ている。さらには、ＩＰＡ，エタノール等脂肪族低級ア
ルコール，アセトン等のケトン単体，エーテル系も検討
されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、フロン１１
３等のパーハロエタンは化学的に特に安定であるため対
流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで
太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾン
と連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、こ
れらの使用の削減が求められている。このため既述のよ
うに、フロン１１３とパーハロエタン以外の有機溶剤と
の共沸組成物を開発することにより、その使用量の削減
を図っているが、フロン１１３を必須とするため、その
使用量をある程度以上減らすことができない問題があ
る。また、フロン１１３に比べ、オゾン層の破壊性が比
較的小さいフロン２３４との共沸組成物も開発されてい
るがオゾン層の破壊を完全に無くすことはできない。一
方、ＩＰＡ等の脂肪族低級アルコールを用いた場合は乾
燥剤としての乾燥性に問題があると共に、ケトン系，エ
ーテル系ではプラスチック等の素材を劣化させるため実
用的でない。

【０００５】本発明は、これらの問題点を考慮してなさ
れたものであり、オゾン層を破壊することがないと共
に、プラスチック等の素材を侵すことなく、良好な洗浄
力を有し、しかも乾燥速度の優れた手拭き用あるいは置
換洗浄用の洗浄剤を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段および作用】本発明の洗浄
剤は、ヘキサメチルジシロキサンとエタノールからなる
共沸組成物または共沸様組成物を有効成分とし、手拭き
の仕上げ洗浄または置換洗浄に使用するものである。手
拭きの仕上げ洗浄とは、洗浄剤を綿布やクリーニングペ
ーパー等に浸み込ませて被洗浄物の表面を拭くことによ
り、表面の汚れを除去するものであり、置換洗浄とは精
密洗浄の洗浄ラインで用いる各種洗浄液の置換除去を行
うものであり、特に水や親水性洗浄液が対象となる。

【０００７】このような手拭き洗浄や置換洗浄に用いる
洗浄剤は、使用時の液管理が容易で、しかも容易に回収
し再生して循環使用できることが重要であり、さらに
は、蒸気洗浄も可能であることが望ましい。このような
要件を充足するには、単に２成分以上を混合しただけで
得ることができず、共沸点を有する状態、すなわち共沸
状態の組成となっていることが必要である。このような
共沸状態の組成物は個々の成分の沸点より低い一定の沸
点を示し、揮発速度が向上する；蒸発の結果として組成
物または留出物の割合がほとんど変化しない；等の優れ
た特性を有している。かかる共沸状態を有する組成は常
圧下で、ヘキサメチルジシロキサン６４．３〜６３．３
ｗｔ％、エタノール３５．７〜３６．７ｗｔ％であり、
この範囲以外の組成では上記特性は得られない。

【０００８】共沸組成物または共沸組成物の一方の構成
要素であるヘキサメチルジシロキサンは化学式（Ｃ
Ｈ₃ ）₃ ＳｉＯＳｉ（ＣＨ₃ ）₃ で構成されており、こ
の内、２５℃における粘度が、０．６５ＣＳｔのものを
使用することができる。このヘキサメチルジシロキサン
は、生体への毒性が少なく、化学的に安定であり、プラ
スチックやゴム，金属，ガラスなどにほとんど影響を与
えることがない。しかも、塩素等のハロゲンを含んでい
ないためオゾン層への影響もない。他方の構成要素のエ
タノールについても周知の通り生体への毒性が少なく、
安全性が高い。従って、このような構成要素からなる共
沸組成物または共沸様組成物は部品の手拭き仕上げや置
換洗浄に好適に適用することができると共に、使用時の
液管理が容易で、かつ容易に回収、再使用でき、更に蒸
気洗浄も可能となる。

【０００９】なお、本発明では安定剤の添加が可能であ
るが、本発明の洗浄剤を安定化させる効果が大きく、し
かも蒸留操作により同伴留出されるか共沸を形成する性
質のものが望ましい。また、本発明では溶解力を増大さ
せるための溶剤を添加することができるが、この溶剤に
ついても安定剤と同様に、蒸留操作により同伴留出され
るか共沸を形成する性質のものが望ましい。

【００１０】

【実施例１】市販されているヘキサメチルジシロキサン
を蒸留、精留、吸着剤により精製し、不純物として混入
しているヘキサメチルジシロキサンより揮発しにくい炭
化水素系化合物、粘度１ＣＳｔ（２５℃）以上のシロキ
サン等を除去した。これらの不純物は、被洗浄物上に残
渣となる可能性があるためである。この精製により得ら
れたヘキサメチルジシロキサンの純度をガスクロマトグ
ラフィで分析したところ、９９．０％以上であった。ま
た、このヘキサメチルジシロキサンの粘度は０．６５Ｃ
Ｓｔ（２５℃）であった。

【００１１】このようにして精製したヘキサメチルジシ
ロキサンおよび純度９９．５％以上のエタノールの１０
０ｇをそれぞれ蒸留フラスコに入れて２００ｇとし、理
論段数３０段の精留塔を用いて常圧下で精留した。この
精留により７１．４℃において共沸留分が得られた。そ
して、この留分をガスクロマトグラフィーにより分析し
たところ、ヘキサメチルジシロキサンが６４．３〜６
３．３％で、エタノールが３５．７〜３６．７％の組成
であった。

【００１２】なお、本実施例の洗浄剤においては、上記
方法で作成した共沸組成物に対し、安定剤および／また
は溶剤を添加することができる。安定剤としては、例え
ばニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの
脂肪族ニトロ化合物、３−メチル−１−ブチン−３−オ
ール、３−メチル−１−ペンチン−３−オールなどのア
セチレンアルコール類、グリシドール、メチルグリシジ
ルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリ
シジルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘ
キセンオキシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド
類、ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、
１，４−ジオキセン、１，３，５−トリオキセンなどの
エーテル類、ヘキセン、ヘプタン、オクテン、２，４，
４−トリメチル−１−ペンテン、ペンタジエン、オクタ
ジエン、シクロヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和
炭化水素類、アリルアルコール、１−ブテン−３−オー
ル、３−メチル−１−ブテン−３−オールなどのオレフ
ィン系アルコール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類を
単独であるいは２種以上併用することができる。また、
これら化合物とフェノール、トリメチルフェノール、シ
クロヘキシルフェノール、チモール、２，６−ジ−ｔ−
ブチル−４−メチルフェノール、ブチルヒドロキシアニ
ソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や、ヘキ
シルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、ｎ−メチルモルホ
リン、シクロエキシルアミン、２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ′−ジアリル−ｐ−フェニレ
ンジアミンなどのアミン類、ベンゾトリアゾール、２−
（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、クロロベンゾトリアゾールなどのトリアゾ
ール類などと併用しても良い。このような安定剤を例え
ば、０．１〜１０ｗｔ％添加することにより、性能等の
劣化が認められず、より安定化した特性を付与すること
ができる。

【００１３】一方、溶剤としては、例えばペンタン、イ
ソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン等の炭
化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパ
ン等のニトロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチ
ルアミン等のアミン類、メタノール、ｎ−プロピルアル
コール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｉ
−ブタノール等の低級アルコール類、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレング
リコールモノブチルエーテルアセテート等の多価アルコ
ールおよびその誘導体、メチルセロソルブ、テトラヒド
ロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル類等から選ばれる１種又は２種以上を使用できる。こ
の溶剤の混合比は特に限定されないが、例えば、１〜２
０ｗｔ％添加することにより、溶解力を増大させること
ができる。

【００１４】

【実施例２】実施例１で精製したヘキサメチルジシロキ
サンが９９．０〜１０．０％の範囲およびエタノールが
１．０〜９０．０ｗｔ％の範囲で、その配合比を１ｗｔ
％ごとに変化させた混合物２００ｇを作成し、これらの
混合物の沸点を測定した。結果を後述する表１の「蒸留
前」の欄および「観測沸点」の欄に示す。表１におい
て、ヘキサメチルジシロキサンの配合比３５．０ｗｔ％
以上の混合物は、実施例１の共沸組成物の共沸点（７
１．４℃）に対し、その沸点の増加が１．０℃未満であ
り、実施例１の共沸組成物と同様に洗浄剤として適用で
きる共沸様組成物となっており、以下、実施例２の製造
物と記する。

【００１５】なお、本実施例の共沸様組成物からなる洗
浄剤においても、実施例１に示した安定剤および／また
は溶剤を添加することができる。

【００１６】

【実施例３】実施例１で精製したヘキサメチルジシロキ
サンが９９．０〜１０．０ｗｔ％の範囲およびエタノー
ルが１．０〜９０．０ｗｔ％の範囲で、その配合比を１
ｗｔ％ごとに変化させた混合物２００ｇを作成した。そ
して、これらの混合物をそれぞれ蒸留フラスコに入れて
単一蒸留した。また、この蒸留の際の蒸留前、留出物、
蒸留残液をガスクロマトグラフイで分析した。結果を表
１に示す。

【００１７】

【表１】

【００１８】なお、表１にはｗｔ％ごとに配合比を変化
させたものの内、一部のみを抽出して掲載してある。

【００１９】蒸留前の組成と、留出液の組成とを比較す
ると、ヘキサメチルジシロキサンが７０．０〜５５．０
ｗｔ％、エタノールが３０．０〜４５．０ｗｔ％の範囲
において、５ｗｔ％以下の組成変化となっており、この
５ｗｔ％の組成変化の範囲内の留出物が共沸様組成物と
して実施例１と同様に洗浄剤として適用することがで
き、以下実施例３の製造物と記する。

【００２０】なお、この実施例３においても、実施例１
と同様に安定剤および／または溶剤を添加することがで
きる。

【００２１】

【実施例４】この実施例４では実施例１、実施例２およ
び３の製造物の手拭き洗浄および検査について説明す
る。まず、実施例１の留分、実施例２の製造物および実
施例３の製造物を、手押しポンプ付きのハンドラップ容
器に入れ、手拭き洗浄剤として使用した。すなわち、こ
れらの組成物をハンドラップ容器からクリーンワイプ紙
に適量浸み込ませ、光学芯取り加工後の芯取り油が付着
した光学レンズを手拭き洗浄した。その結果、芯取り油
を完全に除去することができ、しかも光学レンズにヤケ
の発生もない良好な仕上がりとなった。次に、同様に、
ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ガラスフィラ
ー入りＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＰ（ポリプロピレ
ン）およびＡＢＳ（アクリルニトリル−ブタジエン−ス
チレン）からなるそれぞれのプラスチック板を使用し、
これらのプラスチック板の表面を手拭きにより仕上げ洗
浄した。その結果、いずれもプラスチック板に対するア
タック性等の問題がなかった。

【００２２】一方、上記プラスチックからなる５×５０
×２ｍｍの大きさの試験片をガラスビン内に入れ、表１
に示す組成液１００ｇを充填し、常温常湿下に４８時間
放置して取り出し、各試験片の重量変化および外観変化
を調べた。また、比較例としてエーテルとエタノールの
混合液（エーテル：エタノール＝３：１）およびダイフ
ロン（商品名）を同様に用いた。結果を表２に示す。同
表において、「○」は重量変化が１％未満でかつクラッ
ク発生、溶解性がなく、「△」は重量変化が１％以上で
かつクラック発生、溶解発生がなく、「×」は重量変化
が１％以上でかつクラック発生、溶解発生があった結果
を、それぞれ示す。なお、表２においてヘキサメチルジ
シロキサンとエタノールとの１ｗｔ％ごとの配合比の
内、一部のみを抽出掲載してある。

【００２３】

【表２】

【００２４】

【実施例５】硝子レンズ、ＰＭＭＣおよびＰＣからなる
プラスチックレンズおよびアルミニウムを洗浄物として
下記手順で洗浄した。すなわち、まずアルカリ鹸化剤で
超音波を加えながら洗浄物を脱脂した後、界面活性剤で
超音波を加えながら再度脱脂した。その後、上水で超音
波を加えながら水洗浄をして界面活性剤を除去し、更に
純水で超音波を加えながら洗浄し、上水のイオンや汚れ
を除去し洗浄度を高めた。そして、純粋の水切りとして
ＩＰＡで洗浄した。

【００２５】最後に、実施例１で得た留分、実施例２の
製造物および実施例３の製造物を置換洗浄剤として用
い、この置換洗浄剤に洗浄物を浸漬し、引き上げて乾燥
した。以上の工程の後、洗浄物の仕上がり検査を行っ
た。この場合、仕上げ乾燥にＩＰＡ蒸気を使用したもの
を比較例とした。実施例１の留分、実施例２の製造物お
よび実施例３の製造物のいずれにおいても、洗浄物の劣
化および洗浄物への残渣がなく、良好な結果となってい
た。

【００２６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の洗浄剤は、
オゾン層の破壊がないと共に、プラスチック等の材料を
侵すことなく、蒸発による組成変化がなく、さらには乾
燥速度も優れるため、手拭き洗浄用の洗浄剤や置換洗浄
剤として優れた効果を発揮することができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ヘキサメチルジシロキサンとエタノール
   からなる共沸組成物または共沸様組成物を有効成分とす
   ることを特徴とする洗浄剤。
2. 【請求項２】 手拭きの仕上げ洗浄に用いる洗浄剤であ
   り、ヘキサメチルジシロキサンとエタノールからなる共
   沸組成物または共沸様組成物を有効成分とすることを特
   徴とする洗浄剤。
3. 【請求項３】 精密洗浄における洗浄液の置換洗浄に用
   いる洗浄剤であり、ヘキサメチルジシロキサンとエタノ
   ールからなる共沸組成物または共沸様組成物を有効成分
   とすることを特徴とする洗浄剤。