JPS62265601A - マイクロフレネルレンズの製造方法 - Google Patents
マイクロフレネルレンズの製造方法Info
- Publication number
- JPS62265601A JPS62265601A JP10905486A JP10905486A JPS62265601A JP S62265601 A JPS62265601 A JP S62265601A JP 10905486 A JP10905486 A JP 10905486A JP 10905486 A JP10905486 A JP 10905486A JP S62265601 A JPS62265601 A JP S62265601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- micro
- lens
- fresnel lens
- exposure
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1876—Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光ディスクの再生に使用されるレーザーピッ
クアップ等の如き微小光学系を構成する際に用いられる
マイクロフレネルレンズの製造方法に関し、特にマイク
ロフレネルレンズとしての理想曲線に近似して鋸歯状の
断面が階段的に形成されたマイクロフレネルレンズの製
造方法に関するものである。
クアップ等の如き微小光学系を構成する際に用いられる
マイクロフレネルレンズの製造方法に関し、特にマイク
ロフレネルレンズとしての理想曲線に近似して鋸歯状の
断面が階段的に形成されたマイクロフレネルレンズの製
造方法に関するものである。
［従来の技術］
従来のこの種のマイクロフロネルレンズはその。
基板上にレジストを塗布し、マイクロフロネルレンズと
して３＋１！想曲線の位相シフト関数にしたがって露光
範囲を階段的に変化すると共に、同一のドーズ伍をもっ
て多重描画し、鋸歯状断面のフレネル輪帯を形成したも
のがあった。
して３＋１！想曲線の位相シフト関数にしたがって露光
範囲を階段的に変化すると共に、同一のドーズ伍をもっ
て多重描画し、鋸歯状断面のフレネル輪帯を形成したも
のがあった。
これを第２図についてより詳細に説明する。
同図は、フレネル輪帯１本についてその過程を示づもの
で、１はガラス基板、２は透明導電膜、３はレジスト層
３である。５〜９は、電子′！Ａ４によって描画された
レジスト層３の範囲を示し、同一のドーズ金をもって多
重に描画をするために、その形状は階段状となり理想断
面１０に近似したものとなる。
で、１はガラス基板、２は透明導電膜、３はレジスト層
３である。５〜９は、電子′！Ａ４によって描画された
レジスト層３の範囲を示し、同一のドーズ金をもって多
重に描画をするために、その形状は階段状となり理想断
面１０に近似したものとなる。
この実施例では、５回の多重描画を行うものであるが、
この多重描画回数を増すことにより、更に良好な近似を
行うことができる。また、電子線描画のかわりに多層フ
ォトマスクによる露光方法によっても同様のフレネル断
面を得ることができ、（Ｂ）に示したようなフレネル輪
帯を形成し、また輪帯は、第２図（Ｄ）の理想鋸ｆｉＩ
断面を持つように構成されおり、バターニングされたレ
ジスト残膜３の膜厚は、そこで使用したレジストの屈折
率と入射光１１の波長によって決められる。以上の形成
をもったレジスト層３に平行入射光１１がガラス基板１
側から入射すると、光は各輪帯部分で回折し、その回折
光１２が焦点１３に集束する。
この多重描画回数を増すことにより、更に良好な近似を
行うことができる。また、電子線描画のかわりに多層フ
ォトマスクによる露光方法によっても同様のフレネル断
面を得ることができ、（Ｂ）に示したようなフレネル輪
帯を形成し、また輪帯は、第２図（Ｄ）の理想鋸ｆｉＩ
断面を持つように構成されおり、バターニングされたレ
ジスト残膜３の膜厚は、そこで使用したレジストの屈折
率と入射光１１の波長によって決められる。以上の形成
をもったレジスト層３に平行入射光１１がガラス基板１
側から入射すると、光は各輪帯部分で回折し、その回折
光１２が焦点１３に集束する。
［発明が解決しようとする問題点］
マイクロフレネルレンズでは、レンズ外周にいくほど輪
帯の周期が短くなっているため、最外周近傍の微細パタ
ーン部分では、輪帯幅が１μｍあるいはそれ以下の領域
になる。従来のマイクロフレネルレンズの製作方法では
、輪帯を形成する層がレジスト層であるために前記の微
細パターン部分では、電子線あるいは遠紫外光、紫外光
によるレジスト中での散乱、近接効果あるいは解像度の
低下によって断面形状が予め設計した所望の形状から大
きくはずれるなどの欠点があった。
帯の周期が短くなっているため、最外周近傍の微細パタ
ーン部分では、輪帯幅が１μｍあるいはそれ以下の領域
になる。従来のマイクロフレネルレンズの製作方法では
、輪帯を形成する層がレジスト層であるために前記の微
細パターン部分では、電子線あるいは遠紫外光、紫外光
によるレジスト中での散乱、近接効果あるいは解像度の
低下によって断面形状が予め設計した所望の形状から大
きくはずれるなどの欠点があった。
［問題点を解決するための手段］
この発明は、上記のような従来のマイクロフレネルレン
ズの製造方法の欠点を除去するためのものであり、レジ
ストに対するドーズ量を変化させ暮ことにより、レンズ
外周での断面形状を理想形状に近づけ、レンズの集束１
次効率、ビームスポット径等のレンズ特性の向上を図る
ようにしたマイクロフレネルレンズの製造方法を提供す
ることを目的とする。
ズの製造方法の欠点を除去するためのものであり、レジ
ストに対するドーズ量を変化させ暮ことにより、レンズ
外周での断面形状を理想形状に近づけ、レンズの集束１
次効率、ビームスポット径等のレンズ特性の向上を図る
ようにしたマイクロフレネルレンズの製造方法を提供す
ることを目的とする。
［発明の実施例コ
以下、本発明の実施例を図面と共に説明する。
第１図（Ｂ）は本発明の実施例を示したもので、描画時
の各層のドーズ蓄Ｌｍ分布を示したものであり、縦軸に
蓄積ドーズ量、横軸に各層をとっである。この図は、蓄
積ドーズ量が多くなるほど、下層を示している。
の各層のドーズ蓄Ｌｍ分布を示したものであり、縦軸に
蓄積ドーズ量、横軸に各層をとっである。この図は、蓄
積ドーズ量が多くなるほど、下層を示している。
同図＜Ａ＞は、従来の描画ドーズ分布を示したものであ
る。これに比較して、この実施例では、中心層を従来の
蓄積ドーズ量と同様とし、上層になるほど蓄積ドーズ量
を減少させ、電子線のレジスト中での散乱あるいは近接
効果の影響を抑えてレジストの膜減りをなくし、また下
層になるほど、蓄積ドーズ量を増加させることにより、
下層パ・ターンでの解像度の低下を補う。
る。これに比較して、この実施例では、中心層を従来の
蓄積ドーズ量と同様とし、上層になるほど蓄積ドーズ量
を減少させ、電子線のレジスト中での散乱あるいは近接
効果の影響を抑えてレジストの膜減りをなくし、また下
層になるほど、蓄積ドーズ量を増加させることにより、
下層パ・ターンでの解像度の低下を補う。
上記のような方法で描画を行うことにより、レンズ外周
の断面形状を理想曲線に近づけることができる。′ 従ってこの描画方法によって製造されるマイクロフレネ
ルレンズはレンズ特性の良好なものとなる。 ・ 第３図では、多重描画を５回にしているが、この回数は
任意に設定でき、回数を増すことによって更に良い近似
を行うことができる。
の断面形状を理想曲線に近づけることができる。′ 従ってこの描画方法によって製造されるマイクロフレネ
ルレンズはレンズ特性の良好なものとなる。 ・ 第３図では、多重描画を５回にしているが、この回数は
任意に設定でき、回数を増すことによって更に良い近似
を行うことができる。
この発明の作用については、従来の場合と同様であるが
、レンズ外周の断面形状をマイクロフレネルレンズの理
想曲線に近付けることができるため、集束１次効率やビ
ームスポット径等のレンズ特性の向上が可能となる。
、レンズ外周の断面形状をマイクロフレネルレンズの理
想曲線に近付けることができるため、集束１次効率やビ
ームスポット径等のレンズ特性の向上が可能となる。
なお、上記実施例では、輪帯パターンの形成に電子線の
直接描画を用いているが多層のフォトマスクを用いて゛
紫外線、遠視外線あるいはＸ線露光□によってパターン
を形成してもよい。
直接描画を用いているが多層のフォトマスクを用いて゛
紫外線、遠視外線あるいはＸ線露光□によってパターン
を形成してもよい。
［発明の効果］
以上のように本発明によれば、マイクロフレネルレンズ
バウーン描画時の蓄積ドーズ量を可変づることにより、
レンズ外周輪帯パターンでの解像度の低下やレジスト中
での電子線の散乱、近接効果等の影響を抑えることがで
きるため、輪帯パターンの断面形状を理想形状に近似で
きる。
バウーン描画時の蓄積ドーズ量を可変づることにより、
レンズ外周輪帯パターンでの解像度の低下やレジスト中
での電子線の散乱、近接効果等の影響を抑えることがで
きるため、輪帯パターンの断面形状を理想形状に近似で
きる。
そのため、レジスト残膜によってＨＢされるマイクロフ
レネルレンズのフレネル輪帯によるレンズ特性は、要求
される諸性能を理論値に近づけ、理想曲線とすることが
でき、集束１次効率やビームスポット径等の向上が実現
できる。
レネルレンズのフレネル輪帯によるレンズ特性は、要求
される諸性能を理論値に近づけ、理想曲線とすることが
でき、集束１次効率やビームスポット径等の向上が実現
できる。
第１図（Ａ）（Ｂ）＜Ｃ）は従来及び本発明にがかるド
ーズ伍分布を示した図、第２図＜Ａ）乃至＜Ｄ）は、鋸
歯状フレネル輪帯のパターン形成過程水した図、第３図
（Ａ）＜８）は鋸歯状断面をもったマイクロフレネルレ
ンズの正面断面図と平面図を示す図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・透明導電膜 ３・・・レジスト層 ４・・・電子線 ５〜９・・・電子線照射領域 １０・・・理想鋸歯状断面 １１・・・平行入射光 １２・・・回折光 １３・・・焦点
ーズ伍分布を示した図、第２図＜Ａ）乃至＜Ｄ）は、鋸
歯状フレネル輪帯のパターン形成過程水した図、第３図
（Ａ）＜８）は鋸歯状断面をもったマイクロフレネルレ
ンズの正面断面図と平面図を示す図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・透明導電膜 ３・・・レジスト層 ４・・・電子線 ５〜９・・・電子線照射領域 １０・・・理想鋸歯状断面 １１・・・平行入射光 １２・・・回折光 １３・・・焦点
Claims (1)
- マイクロフレネルレンズの基板表面にレジストを塗布し
、マイクロフレネルレンズの理想曲線の位相シフト関数
に従って階段的に描画を変化させて多重描画を行い、マ
イクロフレネルレンズの鋸歯状断面のフレネル輪帯を形
成する際に、前記描画の露光量を中心層で最適露光量に
し、上層になるほど露光量を減らし、下層になるほど露
光量を増すようにしたことを特徴とするマイクロフレネ
ルレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10905486A JPS62265601A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | マイクロフレネルレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10905486A JPS62265601A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | マイクロフレネルレンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62265601A true JPS62265601A (ja) | 1987-11-18 |
Family
ID=14500435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10905486A Pending JPS62265601A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | マイクロフレネルレンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62265601A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5278028A (en) * | 1989-12-26 | 1994-01-11 | Xerox Corporation | Process for fabricating multi-discrete-phase fresnel lenses |
| US20140003777A1 (en) * | 2012-07-02 | 2014-01-02 | Commscope, Inc. Of North Carolina | Light focusing structures for fiber optic communications systems and methods of fabricating the same using semiconductor processing and micro-machining techniques |
-
1986
- 1986-05-13 JP JP10905486A patent/JPS62265601A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5278028A (en) * | 1989-12-26 | 1994-01-11 | Xerox Corporation | Process for fabricating multi-discrete-phase fresnel lenses |
| US20140003777A1 (en) * | 2012-07-02 | 2014-01-02 | Commscope, Inc. Of North Carolina | Light focusing structures for fiber optic communications systems and methods of fabricating the same using semiconductor processing and micro-machining techniques |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4609259A (en) | Process for producing micro Fresnel lens | |
| CN101283453A (zh) | 固态成像装置及其制造方法 | |
| JPS60103308A (ja) | マイクロフレネルレンズの製造方法 | |
| US5532496A (en) | Proximity effect compensation in scattering-mask lithographic projection systems and apparatus therefore | |
| JPH0244060B2 (ja) | ||
| JP3117886B2 (ja) | レジストパターン形成用のマスク、レジストパターンの形成方法およびレンズの製造方法 | |
| JPS63221329A (ja) | 焦点板及びその製造方法 | |
| US20020149717A1 (en) | Lens array on LCD panel and method | |
| JPS62265601A (ja) | マイクロフレネルレンズの製造方法 | |
| US7672050B2 (en) | Refractive index controlled diffractive optical element and its manufacturing method | |
| JP4362680B2 (ja) | 微細構造体の製造方法及び製造装置 | |
| JPS62109049A (ja) | 微小光学素子の製造方法 | |
| JPH0322601B2 (ja) | ||
| JP2001296649A (ja) | 濃度分布マスクとその製造方法及び表面形状の形成方法 | |
| JPH05224396A (ja) | フォトマスク | |
| JPH0792526B2 (ja) | グレーティングレンズ | |
| JPS61122602A (ja) | フレネルレンズ | |
| JPS60123803A (ja) | マイクロフレネルレンズの製造方法 | |
| JP2728732B2 (ja) | 電子ビーム描画によるホログラムの形成方法 | |
| JPH07201697A (ja) | 露光装置 | |
| JP2001312044A (ja) | 濃度分布マスクとそれを用いた３次元構造体製造方法 | |
| TWI836590B (zh) | 光學體、母盤、及光學體之製造方法 | |
| JPH0749407A (ja) | 赤外用フレネルレンズ | |
| JP4386546B2 (ja) | 濃度分布マスクとそれを用いた３次元構造体製造方法 | |
| JPS6266204A (ja) | フレネルレンズ及びその製造方法 |