JPS62263403A - 微小寸法測定装置 - Google Patents
微小寸法測定装置Info
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- JPS62263403A JPS62263403A JP10823186A JP10823186A JPS62263403A JP S62263403 A JPS62263403 A JP S62263403A JP 10823186 A JP10823186 A JP 10823186A JP 10823186 A JP10823186 A JP 10823186A JP S62263403 A JPS62263403 A JP S62263403A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 63
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 241000406668 Loxodonta cyclotis Species 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、被測定物の像をイメージセンサ上に形成し、
そのイメージセンサの出力によって被測定物の寸法を測
定する微小寸法測定装置に関する。
そのイメージセンサの出力によって被測定物の寸法を測
定する微小寸法測定装置に関する。
従来から、被測定物を照明し、これによる被測定物の反
射光又は透過光により被測定物の像をイメージセンサ上
に形成し、該イメージセンサの出力のピークレベルに対
して所定のパーセントのレベルをスライスレベルとして
設定する相対レベル方式、あるいは画一的に定められた
基準レベルをスライスレベルとして設定する絶対レベル
方式を採用した微小寸法測定装置が提案されている。こ
の相対レベル方式を採用したものは、特開昭54−12
8361号公報に開示されてあり、また絶対レベル方式
を採用したものは、特開@54−79065号公報に開
示されている。
射光又は透過光により被測定物の像をイメージセンサ上
に形成し、該イメージセンサの出力のピークレベルに対
して所定のパーセントのレベルをスライスレベルとして
設定する相対レベル方式、あるいは画一的に定められた
基準レベルをスライスレベルとして設定する絶対レベル
方式を採用した微小寸法測定装置が提案されている。こ
の相対レベル方式を採用したものは、特開昭54−12
8361号公報に開示されてあり、また絶対レベル方式
を採用したものは、特開@54−79065号公報に開
示されている。
ところで、上述の従来の微小寸法測定装置においては、
相対レベル方式によっても、絶対レベル方式においても
測定寸法が使用する波長とほぼ等しいかまたはこれより
も小さい場合には大きな測定誤差が発生する。すなわち
、第21図において、被測定寸法を横軸に取り、検出値
を縦軸に取り、0.4μmの波長を使用し、スライスレ
ベルを75%、50%、25%のいずれかとすると、被
測定寸法が0.4μmより大きい領域Iにおいては、被
測定の寸法と検出値が正比例となり、正しい測定が行わ
れる。ここで、NAは0.9であり、デフォーカス量は
0である。しかし、被測定寸法が0.4μmより小さい
領域1においては、句対スライスレベル方式においては
検出値が被測定寸法より大きくなり、逆に絶対スライス
レベル方式においては検出値が被測定寸法より小さくな
り、いずれも大きな測定誤差を含むことが理解できる。
相対レベル方式によっても、絶対レベル方式においても
測定寸法が使用する波長とほぼ等しいかまたはこれより
も小さい場合には大きな測定誤差が発生する。すなわち
、第21図において、被測定寸法を横軸に取り、検出値
を縦軸に取り、0.4μmの波長を使用し、スライスレ
ベルを75%、50%、25%のいずれかとすると、被
測定寸法が0.4μmより大きい領域Iにおいては、被
測定の寸法と検出値が正比例となり、正しい測定が行わ
れる。ここで、NAは0.9であり、デフォーカス量は
0である。しかし、被測定寸法が0.4μmより小さい
領域1においては、句対スライスレベル方式においては
検出値が被測定寸法より大きくなり、逆に絶対スライス
レベル方式においては検出値が被測定寸法より小さくな
り、いずれも大きな測定誤差を含むことが理解できる。
本発明は、従来の寸法測定装置の上記問題点に鑑みなさ
れたものであって、イメージセンサに入射する光の波長
と同程度の微小寸法についても正確に測定できる微小寸
法測定装置を提供することを目的とする。
れたものであって、イメージセンサに入射する光の波長
と同程度の微小寸法についても正確に測定できる微小寸
法測定装置を提供することを目的とする。
上述の目的を達成する本発明の微小寸法測定装置構成上
の特徴とするところは、被測定物の像をイメージセンサ
上に形成する光学系と、上記光学系によって形成された
像に応じた信号を出力するイメージセンサと、測定寸法
が使用光の波長と同程度又はそれ以下の場合に上記イメ
ージセンサの出力に応じてスライスレベルを設定するス
ライスレベル設定孔と、上記スライスレベルと上記イメ
ージセンサの出力とを比較して被測定物の寸法を測定す
る測定部とを具備したことである。
の特徴とするところは、被測定物の像をイメージセンサ
上に形成する光学系と、上記光学系によって形成された
像に応じた信号を出力するイメージセンサと、測定寸法
が使用光の波長と同程度又はそれ以下の場合に上記イメ
ージセンサの出力に応じてスライスレベルを設定するス
ライスレベル設定孔と、上記スライスレベルと上記イメ
ージセンサの出力とを比較して被測定物の寸法を測定す
る測定部とを具備したことである。
以下、本発明の実施例に係る微小寸法測定装置について
説明する。本測定装置は、第8図及び第15図に示すよ
うに、複数のビデオヘッド用モールド〜4. 、M2
、M、を上面に設けたかまぼこ邪2を基台部4の上に有
する磁気ヘッド部材10にお)する複数の該磁気ヘッド
ギャップ(通常透明ガラスが充填されている)gの幅を
自動的に測定し、ギャップgの幅が所定[凹円にある部
材lOと、ない部材10とを分類するためのものである
。
説明する。本測定装置は、第8図及び第15図に示すよ
うに、複数のビデオヘッド用モールド〜4. 、M2
、M、を上面に設けたかまぼこ邪2を基台部4の上に有
する磁気ヘッド部材10にお)する複数の該磁気ヘッド
ギャップ(通常透明ガラスが充填されている)gの幅を
自動的に測定し、ギャップgの幅が所定[凹円にある部
材lOと、ない部材10とを分類するためのものである
。
本測定装置は、第1図に示すように、概ね、搬送保管系
100と、測定系200と、制御演算系400とからな
る。搬送保管系100は、基台102に、搬送ロボット
104と、第1ないし第3パレット収容部106.10
8.110とを設けてなる。搬送ロボット104は、回
動ボール112に固着された第1アーム114、第1ア
ーム114の先端に揺動可能に取付けられた第2アーム
116、及び第2アーム116の先端に取付けられ、磁
気ヘッド部材10を吸着するバキュウムチャック118
を有する。第1パレット収容部106は測定前のRHl
oを入れたパレット120を収容するためのものであり
、第2及び第3パレット収容部108.110は、それ
ぞれ測定によりギャップgが所定範囲内にあった部材1
0及び所定範囲内になかった部材10を入れたパレット
120を収容するためのものである。各バレッ、ト収容
部106.108.110はエレベータ式に構成され、
バレン)120を多投式に収容する。
100と、測定系200と、制御演算系400とからな
る。搬送保管系100は、基台102に、搬送ロボット
104と、第1ないし第3パレット収容部106.10
8.110とを設けてなる。搬送ロボット104は、回
動ボール112に固着された第1アーム114、第1ア
ーム114の先端に揺動可能に取付けられた第2アーム
116、及び第2アーム116の先端に取付けられ、磁
気ヘッド部材10を吸着するバキュウムチャック118
を有する。第1パレット収容部106は測定前のRHl
oを入れたパレット120を収容するためのものであり
、第2及び第3パレット収容部108.110は、それ
ぞれ測定によりギャップgが所定範囲内にあった部材1
0及び所定範囲内になかった部材10を入れたパレット
120を収容するためのものである。各バレッ、ト収容
部106.108.110はエレベータ式に構成され、
バレン)120を多投式に収容する。
搬送ロボット104は、第1パレット収容部106から
送り出されたパレット120内の部材10を順次、測定
系200へ送り、また測定後の部材10を測定系200
から第2パレット収容部108又は第3バレγト収容部
110に収容されるべきパレット120へ分類搬送する
。
送り出されたパレット120内の部材10を順次、測定
系200へ送り、また測定後の部材10を測定系200
から第2パレット収容部108又は第3バレγト収容部
110に収容されるべきパレット120へ分類搬送する
。
測定系200は、基台202に、各種測定部を有する測
定要部204と、測定操作を行うための操作部206と
、部材10の被測定部を拡大表示するためのモニタテレ
ビ208とからなる。
定要部204と、測定操作を行うための操作部206と
、部材10の被測定部を拡大表示するためのモニタテレ
ビ208とからなる。
制御演算系400は、各種制御装置を収容した制御部4
02と、制御部402を操作するためのマイコン404
と、測定値等をプリントアウトするためのプリンタ40
6と、制御部402の制御信号や測定値信号を記憶する
ためのフロッピーディスク装置408とを有する。
02と、制御部402を操作するためのマイコン404
と、測定値等をプリントアウトするためのプリンタ40
6と、制御部402の制御信号や測定値信号を記憶する
ためのフロッピーディスク装置408とを有する。
本測定装置の構成を、第2図のブロック図に基づいてさ
らに詳しく説明する。搬送保管系100は、搬送ロボッ
ト104と各パレット収容部106.108.110と
がシーケンサ−130を介して接続されて構成され、全
体としてマイコン404によって制御される。
らに詳しく説明する。搬送保管系100は、搬送ロボッ
ト104と各パレット収容部106.108.110と
がシーケンサ−130を介して接続されて構成され、全
体としてマイコン404によって制御される。
測定系200は、アライメント光学系210及び測定光
学系230からなる光学系250と、照明光源を作動さ
せるための照明駆動系300と、被測定部を拡大観察す
るための観察系290と、光学系250を被測定部に自
動的に合焦させるためのオートフォーカス駆動系280
と、光学系250の出力信号を処理するための信号処理
系260と、部材10を載置するステージ及び該ステー
ジを駆動制御するためのステージ駆動系320とを有す
る。
学系230からなる光学系250と、照明光源を作動さ
せるための照明駆動系300と、被測定部を拡大観察す
るための観察系290と、光学系250を被測定部に自
動的に合焦させるためのオートフォーカス駆動系280
と、光学系250の出力信号を処理するための信号処理
系260と、部材10を載置するステージ及び該ステー
ジを駆動制御するためのステージ駆動系320とを有す
る。
アライメント光学系210は、部材10を測定に適した
所定の位置に置くためのものであって、第3図に示すよ
うに、対物レンズ212、対物レンズ212の光軸21
4上の部材10と反対側に以下の順序に配置された、ノ
\−フミラー216、赤外光反射可視光透過のビームス
プリッタ218、及び対物レンズ212に関し部材10
と共役な位置に配置されたリニアの第1イメージセンサ
220を有する。ハーフミラ−216による反射光軸2
21上には、ハロゲンランプ222、リレーレンズ22
3、及び赤外光吸収フィルター224が設けられ、リレ
ーレンズ223はハロゲンランプ222の像を対物レン
ズ212の後側(部材10と反対側)の焦点位置に結像
させ、従って、部材10は平行光束によって照明される
。
所定の位置に置くためのものであって、第3図に示すよ
うに、対物レンズ212、対物レンズ212の光軸21
4上の部材10と反対側に以下の順序に配置された、ノ
\−フミラー216、赤外光反射可視光透過のビームス
プリッタ218、及び対物レンズ212に関し部材10
と共役な位置に配置されたリニアの第1イメージセンサ
220を有する。ハーフミラ−216による反射光軸2
21上には、ハロゲンランプ222、リレーレンズ22
3、及び赤外光吸収フィルター224が設けられ、リレ
ーレンズ223はハロゲンランプ222の像を対物レン
ズ212の後側(部材10と反対側)の焦点位置に結像
させ、従って、部材10は平行光束によって照明される
。
一方、ビームスプリッタ218の反射光軸225上には
、ビームスプリッタ218から順に、ノ\−フミラープ
リズム226、正の円柱レンズ227、及び4分割受光
素子228が設けられている。また、ハーフミラ−プリ
ズム226の入射光軸229上には、赤外LED211
.リレーレンズ213、及びピンホール部材215が設
けられている。そして、赤外LED211において発生
させられた赤外光束はリレーレンズ213によってピン
ホール部材215上に結像させられ、ピンホール部材2
15を通過した光束はハーフミラ−プリズム226の2
つの反射面217.219及びビームスプリフタ218
で反射され、対物レンズ212を透過後部材10によっ
て反射され、再び対物レンズ212を透過し、ビームス
ブリブタ218で反射され、反射面219及び円柱レン
ズ227を透過して4分割受光素子228に達する。こ
こで、円柱レンズ227は、その円柱軸が第3図の紙面
に対し直角となるように配置され、また、対物レレズ2
12を2度透過しかつ円柱レンズ227を透過した赤外
光束が、その第3図の紙面と平行な面内の光束と、紙面
と直角をなす面内の光束とに分けられ、両光束によるピ
ンホール1H215のピンホールの2つの像が、光軸2
25上で4分割受光素子22βをはさみ、かつこれから
等しい距離だけ離れて形成するときに、部材10が対物
レンズ212に関し第1イメージセンサ220と共役と
なるように設計される。従って、部材1・0の上面が所
定位置にあると、4分割受光素子228の各分割受光素
子はそれぞれ等しい出力をなし、一方該上面が所定位置
にないと、不均一な各分割受光素子の出力からそのずれ
方向及びずれ量を検出することができる。第1イメージ
センサ220はその画素が紙面と直交する方向に配列さ
れ、対物レンズ212によって部材10の像が20倍で
第1イメージセンサ220上に投影される。
、ビームスプリッタ218から順に、ノ\−フミラープ
リズム226、正の円柱レンズ227、及び4分割受光
素子228が設けられている。また、ハーフミラ−プリ
ズム226の入射光軸229上には、赤外LED211
.リレーレンズ213、及びピンホール部材215が設
けられている。そして、赤外LED211において発生
させられた赤外光束はリレーレンズ213によってピン
ホール部材215上に結像させられ、ピンホール部材2
15を通過した光束はハーフミラ−プリズム226の2
つの反射面217.219及びビームスプリフタ218
で反射され、対物レンズ212を透過後部材10によっ
て反射され、再び対物レンズ212を透過し、ビームス
ブリブタ218で反射され、反射面219及び円柱レン
ズ227を透過して4分割受光素子228に達する。こ
こで、円柱レンズ227は、その円柱軸が第3図の紙面
に対し直角となるように配置され、また、対物レレズ2
12を2度透過しかつ円柱レンズ227を透過した赤外
光束が、その第3図の紙面と平行な面内の光束と、紙面
と直角をなす面内の光束とに分けられ、両光束によるピ
ンホール1H215のピンホールの2つの像が、光軸2
25上で4分割受光素子22βをはさみ、かつこれから
等しい距離だけ離れて形成するときに、部材10が対物
レンズ212に関し第1イメージセンサ220と共役と
なるように設計される。従って、部材1・0の上面が所
定位置にあると、4分割受光素子228の各分割受光素
子はそれぞれ等しい出力をなし、一方該上面が所定位置
にないと、不均一な各分割受光素子の出力からそのずれ
方向及びずれ量を検出することができる。第1イメージ
センサ220はその画素が紙面と直交する方向に配列さ
れ、対物レンズ212によって部材10の像が20倍で
第1イメージセンサ220上に投影される。
測定光学系230は、測定光軸231上に、部材10の
側から対物レンズ232、ハーフミラ−233、ビーム
スプリッタ234、第ルチクル235、第1リレーレン
ズ236、負の円柱レンズ237、正の円柱レンズ23
8、及びリニアの第2イメージセンサ239を配置して
なる。第ルチクル235は、対物レンズ232に関して
所定位置に置かれた邪は10と共役となるように配置さ
れ、第4図に示すように、測定しようとする磁気へラド
ギャップgの幅に対物レンズ2321:よる投影倍率約
100倍を乗じた幅Gのレチクル線240が磁気へラド
ギャップ像と平行となるように設けられている。第11
7レーレンズ236は第ルチクル235を10倍で第2
イメージセンサ239上に投影する。負・正の円柱レン
ズ237.238はその円柱軸線が紙面と直角になるよ
うに配置され、負の円柱レンズ237は紙面と平行な面
内で射出光束が平行光束となるように配置され、従って
、紙面と平行な面内において正の円柱レンズ238を光
軸231上で移動させることによりピント合せが可能で
ある。負・正の円柱レンズ237.238によって紙面
と平行な面内の投影倍率は2となる。第2イメージセン
サ239は紙面と直角の方向に並んだ複数の画素を有す
る。以上の構成により、第2イメージセンサ239上に
は、紙面と直角をなす面内で1000倍、紙面と平行な
面内で500倍の部材10の像が投影される。
側から対物レンズ232、ハーフミラ−233、ビーム
スプリッタ234、第ルチクル235、第1リレーレン
ズ236、負の円柱レンズ237、正の円柱レンズ23
8、及びリニアの第2イメージセンサ239を配置して
なる。第ルチクル235は、対物レンズ232に関して
所定位置に置かれた邪は10と共役となるように配置さ
れ、第4図に示すように、測定しようとする磁気へラド
ギャップgの幅に対物レンズ2321:よる投影倍率約
100倍を乗じた幅Gのレチクル線240が磁気へラド
ギャップ像と平行となるように設けられている。第11
7レーレンズ236は第ルチクル235を10倍で第2
イメージセンサ239上に投影する。負・正の円柱レン
ズ237.238はその円柱軸線が紙面と直角になるよ
うに配置され、負の円柱レンズ237は紙面と平行な面
内で射出光束が平行光束となるように配置され、従って
、紙面と平行な面内において正の円柱レンズ238を光
軸231上で移動させることによりピント合せが可能で
ある。負・正の円柱レンズ237.238によって紙面
と平行な面内の投影倍率は2となる。第2イメージセン
サ239は紙面と直角の方向に並んだ複数の画素を有す
る。以上の構成により、第2イメージセンサ239上に
は、紙面と直角をなす面内で1000倍、紙面と平行な
面内で500倍の部材10の像が投影される。
ハーフミラ−233の反射光軸241上には、ハロゲン
ランプ242、JR1リレーレンズ243、円形絞り2
44及び第2リレーレンズ245が順次配置されている
。円形絞り244は第1リレーレンズ243に関しハロ
ゲンランプ242と共役であり、第2リレーレンズ24
5は円形絞り224の像を対物レンズ232のハーフミ
ラ−233側の焦点に形成する。従って、部材10は、
ハロゲンランプ242により平行光線によって照明され
る。
ランプ242、JR1リレーレンズ243、円形絞り2
44及び第2リレーレンズ245が順次配置されている
。円形絞り244は第1リレーレンズ243に関しハロ
ゲンランプ242と共役であり、第2リレーレンズ24
5は円形絞り224の像を対物レンズ232のハーフミ
ラ−233側の焦点に形成する。従って、部材10は、
ハロゲンランプ242により平行光線によって照明され
る。
ビームスプリッタ234の反射光軸246上には、ビー
ムスプリッタ234の側から順次、第2レチクル247
、リレーレンズ248、ミラー249、及びテレビカメ
ラ251が配置される。
ムスプリッタ234の側から順次、第2レチクル247
、リレーレンズ248、ミラー249、及びテレビカメ
ラ251が配置される。
ビームスプリッタ234は入射光束の80%を第2イメ
ージセンサ239側へ透過させ、20%をテレビカメラ
251側へ反射させる。第2レチクル247は、第5図
に示すように、その中心に小円形レチクル線252を有
し、レチクル線252の中心が光軸246と一致するよ
うに、かつ対物レンズ232に関し部材10と共役であ
るように位置決めされる。テレビカメラ251の受光面
はリレーレンズ248に関して第2レチクル247と共
役であり、モニタテレビ208には、第6図に示すよう
に、部材10の磁気へラドギャップの像g−1と小円形
レチクル線252の1象252−1が重ねるれて表示さ
れる。
ージセンサ239側へ透過させ、20%をテレビカメラ
251側へ反射させる。第2レチクル247は、第5図
に示すように、その中心に小円形レチクル線252を有
し、レチクル線252の中心が光軸246と一致するよ
うに、かつ対物レンズ232に関し部材10と共役であ
るように位置決めされる。テレビカメラ251の受光面
はリレーレンズ248に関して第2レチクル247と共
役であり、モニタテレビ208には、第6図に示すよう
に、部材10の磁気へラドギャップの像g−1と小円形
レチクル線252の1象252−1が重ねるれて表示さ
れる。
信号処理系260は4分割受光素子228に接続された
入力端子を有し、後述のコントロール回路287に出力
端子を接続し、I10インクフェイス410からのスタ
ート信号St2によって作動する差動検出回路262、
第1イメージセンサ220に入力端子を接続し、出力端
子を増幅げ路263及びサンプルホールド回路264を
介してマルチプレクサ265に接続し、さらに入力端子
を後述のI/○インタフェイスユニット410に接続し
た駆動回路DC,、及び第2イメージセンサ239に入
力端子を接続し、出力端子を増幅回路266及びサンプ
ルホールド回路267を介してマルチプレクサ265に
接続し、さらに入力端子をI10インタフェイスユニッ
ト410に接続した駆動回路D C3を有する。これら
駆動回路DC,及びDC,はI10インタフェイスユニ
ット410からのスタート信号Stz 及びSi2 に
よって読出しを開始する。
入力端子を有し、後述のコントロール回路287に出力
端子を接続し、I10インクフェイス410からのスタ
ート信号St2によって作動する差動検出回路262、
第1イメージセンサ220に入力端子を接続し、出力端
子を増幅げ路263及びサンプルホールド回路264を
介してマルチプレクサ265に接続し、さらに入力端子
を後述のI/○インタフェイスユニット410に接続し
た駆動回路DC,、及び第2イメージセンサ239に入
力端子を接続し、出力端子を増幅回路266及びサンプ
ルホールド回路267を介してマルチプレクサ265に
接続し、さらに入力端子をI10インタフェイスユニッ
ト410に接続した駆動回路D C3を有する。これら
駆動回路DC,及びDC,はI10インタフェイスユニ
ット410からのスタート信号Stz 及びSi2 に
よって読出しを開始する。
マルチプレクサ265の出力端子は、■/○インクフェ
イスユニット410によって制御されるスイッチSI
によって2値化回路268又はA/D変換回路269
に切換え接続される。A/D変換回路269には駆動回
路DC,の出力も入力しており、A/D変換された出力
は積算回路270に入力される。2値化回路268の出
力はカウンタ271に入力され、また積算回路270の
出力はメモリ272に人力される。
イスユニット410によって制御されるスイッチSI
によって2値化回路268又はA/D変換回路269
に切換え接続される。A/D変換回路269には駆動回
路DC,の出力も入力しており、A/D変換された出力
は積算回路270に入力される。2値化回路268の出
力はカウンタ271に入力され、また積算回路270の
出力はメモリ272に人力される。
オートフォーカス駆動系280は、光学系250をZ方
向(光軸214.231の方向)に移動させて部材10
に合焦させるためのものであって、■/○インタフェイ
ス410から出力される制御信号がコントロール回路2
82に人力され、マイクロステップドライバー283を
介してモーター284が駆動される。モーター284の
回転軸には螺合装置285が取付けられて粗合焦系が構
成され、該回転軸の回動により光学系250が粗合焦さ
れる。
向(光軸214.231の方向)に移動させて部材10
に合焦させるためのものであって、■/○インタフェイ
ス410から出力される制御信号がコントロール回路2
82に人力され、マイクロステップドライバー283を
介してモーター284が駆動される。モーター284の
回転軸には螺合装置285が取付けられて粗合焦系が構
成され、該回転軸の回動により光学系250が粗合焦さ
れる。
オートフォーカス駆動系280はまた、コントロール回
路287、及びピエゾ素子からなるオートフォーカス駆
動系288からなる微合焦系を有し、コントロール回路
287には差動検出回路262及び■/○インタフェイ
スユニット410の出力が入力し、これにより光学系2
50の微合焦が行われる。
路287、及びピエゾ素子からなるオートフォーカス駆
動系288からなる微合焦系を有し、コントロール回路
287には差動検出回路262及び■/○インタフェイ
スユニット410の出力が入力し、これにより光学系2
50の微合焦が行われる。
観察系2!aOは、テレビカメラ251に接続さレタカ
メラコントロールユニット(以下、CCUという)29
2及びCCU292接続されたモニタテレビ20°8か
らなり、部材10の被測定部をモニタテレビ208によ
り拡大表示する。
メラコントロールユニット(以下、CCUという)29
2及びCCU292接続されたモニタテレビ20°8か
らなり、部材10の被測定部をモニタテレビ208によ
り拡大表示する。
照明駆動系300は、I10インクフェイスユニット4
10の出力が人力するコントロール回路302及びコン
トロール回路302の出力が入力するドライバー304
からなり、I/○インタフェイスユニット410の制御
によりドライバー304に接続された赤外LED211
、ハロゲンランプ222.242を所定条件で点灯させ
る。
10の出力が人力するコントロール回路302及びコン
トロール回路302の出力が入力するドライバー304
からなり、I/○インタフェイスユニット410の制御
によりドライバー304に接続された赤外LED211
、ハロゲンランプ222.242を所定条件で点灯させ
る。
測定のために部材10を載置するステージ310は、第
7図及び第8図に示すように、載置ディスク312上に
X軸方向に延びたY軸突当て313、同じくY軸方向に
延びたX軸突当て314、及びY軸突当て313及びX
軸突当て314の隅部付近を向き、エアシリンダ315
を有する押当て装W316を有する。Y軸突当て313
、X軸突当て314及び載置ディスク312にはそれぞ
れ吸着アバーチニ−317,318,319が設けられ
ている。X軸突当て314の高さは部材10の高さに一
致し、上面は鏡面仕上げされている。そして、ステージ
駆動系320は、第2図に示すように、ディスク312
をX軸方向に移動させるための、X軸方向ドライバー3
22及びX軸方向コントロール回路323を介してI1
0インクフェイスユニット410に接続されたX軸方向
モーター324と、ディスク312をY軸方向に移動さ
せるための、Y軸方向ドライバー325及びY軸方向コ
ントロール回路326を介してI10インタフェイスユ
ニット410に接続されたY軸方向モーター327と、
ディスク312を回動させるための、回動ドライバー3
28及び回動コントロール回路329を介してI10イ
ンクフェイスユニット410に接続されたディスク回動
モーター330とを有する。X軸方向モーター324は
螺合装置331の回動軸を回動させる゛ことによりラー
イスク312をX軸方向に移動させ、Y軸方向モーター
327は螺合装置332の回動軸を回動させてディスク
312をY軸方向に移動させ、ディスク回動モーター3
30は歯車装置又はベルト装置(図示せず〉介してディ
スク312を回動させる。
7図及び第8図に示すように、載置ディスク312上に
X軸方向に延びたY軸突当て313、同じくY軸方向に
延びたX軸突当て314、及びY軸突当て313及びX
軸突当て314の隅部付近を向き、エアシリンダ315
を有する押当て装W316を有する。Y軸突当て313
、X軸突当て314及び載置ディスク312にはそれぞ
れ吸着アバーチニ−317,318,319が設けられ
ている。X軸突当て314の高さは部材10の高さに一
致し、上面は鏡面仕上げされている。そして、ステージ
駆動系320は、第2図に示すように、ディスク312
をX軸方向に移動させるための、X軸方向ドライバー3
22及びX軸方向コントロール回路323を介してI1
0インクフェイスユニット410に接続されたX軸方向
モーター324と、ディスク312をY軸方向に移動さ
せるための、Y軸方向ドライバー325及びY軸方向コ
ントロール回路326を介してI10インタフェイスユ
ニット410に接続されたY軸方向モーター327と、
ディスク312を回動させるための、回動ドライバー3
28及び回動コントロール回路329を介してI10イ
ンクフェイスユニット410に接続されたディスク回動
モーター330とを有する。X軸方向モーター324は
螺合装置331の回動軸を回動させる゛ことによりラー
イスク312をX軸方向に移動させ、Y軸方向モーター
327は螺合装置332の回動軸を回動させてディスク
312をY軸方向に移動させ、ディスク回動モーター3
30は歯車装置又はベルト装置(図示せず〉介してディ
スク312を回動させる。
一方、エアシリンダ315は■/○インタフェイスユニ
ット410によって制御されるポンプP1 によって加
圧制御され、またアパーチャー317.318.319
の吸引はI10インクフェイスユニット410によって
制御されるポンプP2 によって吸引され、各アパーチ
ャー317.318.319の吸引はI10インクフェ
イス410によって制御されるバルブV、 、V、、V
s によって制御される。
ット410によって制御されるポンプP1 によって加
圧制御され、またアパーチャー317.318.319
の吸引はI10インクフェイスユニット410によって
制御されるポンプP2 によって吸引され、各アパーチ
ャー317.318.319の吸引はI10インクフェ
イス410によって制御されるバルブV、 、V、、V
s によって制御される。
制御演算系400は、上述したように、各種指令を入力
する操作部206と接続され、各種制御を行うマイコン
404と、マイコン404の入出力を各駆動部及び検出
部に適した信号に変えるためのI/、0インタフエイス
ユニツト410と、マイコン404の人出力を行うため
のプリンタ406、及びフロッピーディスク装置408
とからなる。
する操作部206と接続され、各種制御を行うマイコン
404と、マイコン404の入出力を各駆動部及び検出
部に適した信号に変えるためのI/、0インタフエイス
ユニツト410と、マイコン404の人出力を行うため
のプリンタ406、及びフロッピーディスク装置408
とからなる。
続いて、上記構成の寸法測定装置の作動を、第9図に示
すフローチャートに基づいて説明する。
すフローチャートに基づいて説明する。
なお、ステップS−t、S−2、S−3、S’−9,5
−10の詳細については、全作動の説明後に、改めて詳
しく説明する。ステップS−1においては、搬送ロボッ
ト104を作動させて測定すべき部材10をステージ3
10上に載置して固定する。
−10の詳細については、全作動の説明後に、改めて詳
しく説明する。ステップS−1においては、搬送ロボッ
ト104を作動させて測定すべき部材10をステージ3
10上に載置して固定する。
ただし、測定開始当初においては、この部材10は、ギ
ャップgの値WP が知られている基準部材10、であ
る。次にステップS−2に奔いては、アライメント光学
系210により測定光学系の最初の合焦であるブリオー
トフォーカスを行い、ステップS−3において、部材1
0の磁気へラドギャップgを正しい測定方向に位置決め
するためのアライメント調整を行い、ステップS−4に
おいて測定光学系230の測定光軸がX軸突当て314
の鏡面仕上げの上面と一致するようにステージ312を
移動させる。
ャップgの値WP が知られている基準部材10、であ
る。次にステップS−2に奔いては、アライメント光学
系210により測定光学系の最初の合焦であるブリオー
トフォーカスを行い、ステップS−3において、部材1
0の磁気へラドギャップgを正しい測定方向に位置決め
するためのアライメント調整を行い、ステップS−4に
おいて測定光学系230の測定光軸がX軸突当て314
の鏡面仕上げの上面と一致するようにステージ312を
移動させる。
ステップS−5において、第2イメージセンサ239の
各画素の感度の不均一性を補正するための補正係数を求
める。ステップS−6において、測定すべき磁気へラド
ギャップgの像g−1が第2イメージセンサ239上に
結イ象するようにステージ310をX軸方向に移動させ
る。ステップS−7において、第2イメージセンサ23
9の出力が読出され、磁気へラドギャップ(tj、 g
−1による出力ピークが最も鋭くなるように光学系2
50がZ方向に移動させられて、微合焦がなされる。
各画素の感度の不均一性を補正するための補正係数を求
める。ステップS−6において、測定すべき磁気へラド
ギャップgの像g−1が第2イメージセンサ239上に
結イ象するようにステージ310をX軸方向に移動させ
る。ステップS−7において、第2イメージセンサ23
9の出力が読出され、磁気へラドギャップ(tj、 g
−1による出力ピークが最も鋭くなるように光学系2
50がZ方向に移動させられて、微合焦がなされる。
ステップS−8において、基準部材10.のギャップg
を測定するか又は未知寸法の測定を行うかが判定される
。測定開始当初においては、ステップS−8において基
準部材10.のギャップgの測定が選択され、ステップ
S−9に進んで基準部材10Sのギャップgと第ルチク
ル235に設けられたレチクル線2400幅Gが測定さ
れ、さらに被測定部材10の測定の補正係数が演算され
る。その後、後述のステップS−120へ進む。
を測定するか又は未知寸法の測定を行うかが判定される
。測定開始当初においては、ステップS−8において基
準部材10.のギャップgの測定が選択され、ステップ
S−9に進んで基準部材10Sのギャップgと第ルチク
ル235に設けられたレチクル線2400幅Gが測定さ
れ、さらに被測定部材10の測定の補正係数が演算され
る。その後、後述のステップS−120へ進む。
ステップs−3において、未知寸法の測定であると判別
されると、ステップ5−10へ進み、被測定部材10の
磁気へラドギャップgの幅が測定される。続いて、ステ
ップS−110に進んで所望の全箇所の測定が終了した
か否かが判別される。
されると、ステップ5−10へ進み、被測定部材10の
磁気へラドギャップgの幅が測定される。続いて、ステ
ップS−110に進んで所望の全箇所の測定が終了した
か否かが判別される。
ステップS−110において全箇所の測定が終了したと
判別されると、ステップS−120へ進み、搬送ロボッ
ト104のバキュームチャック118、第1アーム11
4及び第2アーム116を作動させて測定の終了した部
材10をステージ310から退去させ、該測定値に基づ
いて第2パレツト収容邪108又は第3パレット収容部
110のいずれかのパレット120に分類搬入する。
判別されると、ステップS−120へ進み、搬送ロボッ
ト104のバキュームチャック118、第1アーム11
4及び第2アーム116を作動させて測定の終了した部
材10をステージ310から退去させ、該測定値に基づ
いて第2パレツト収容邪108又は第3パレット収容部
110のいずれかのパレット120に分類搬入する。
続いて、ステップS−130において所望の全ての部材
10の測定が終了したか否かが判別され、終了している
と判別されると全測定が終了し、終了していないと判別
されるとステップS−1に戻る。また、ステップS−1
10において全箇所の測定が終了していないと判別され
ると、ステージ310をX軸方向へ移動させて次のギャ
ップgを測定位置に配置するステップS−140を経て
ステップS−7へ進む。
10の測定が終了したか否かが判別され、終了している
と判別されると全測定が終了し、終了していないと判別
されるとステップS−1に戻る。また、ステップS−1
10において全箇所の測定が終了していないと判別され
ると、ステージ310をX軸方向へ移動させて次のギャ
ップgを測定位置に配置するステップS−140を経て
ステップS−7へ進む。
続いて、上述の各ステップのうちのいくつかについて更
に詳しく説明する3部材10のセツティングを行うステ
ップS−tは、第10図に示すように、まずステップ5
−11において、搬送ロボット104を作動させて、第
1パレット収容部106にあるパレット120の中から
測定すべき部材10をステージ310上へ搬送する。次
に、ステップ5−12において、エアシリンダ315に
圧搾空気を送って押当て装置316を前進させる。これ
により、第8図に示すように、部材10がY軸突当て3
13及びX軸突当て314のつくる隅部に押圧される。
に詳しく説明する3部材10のセツティングを行うステ
ップS−tは、第10図に示すように、まずステップ5
−11において、搬送ロボット104を作動させて、第
1パレット収容部106にあるパレット120の中から
測定すべき部材10をステージ310上へ搬送する。次
に、ステップ5−12において、エアシリンダ315に
圧搾空気を送って押当て装置316を前進させる。これ
により、第8図に示すように、部材10がY軸突当て3
13及びX軸突当て314のつくる隅部に押圧される。
次に、ステップ5−13において、載置ディスク312
に設けられた吸着アパーチャー319を介して部材10
がZ軸方向に吸着される。ステップ5−14において、
エアシリンダ315がら空気から抜かれ、押当て装置3
16が上記押圧位置から退去する。続いて、ステップ5
−15において、再びエアシリンダ315に圧搾空気を
送って押当て装置316を前進させ、部材10を上記隅
部に押圧する。
に設けられた吸着アパーチャー319を介して部材10
がZ軸方向に吸着される。ステップ5−14において、
エアシリンダ315がら空気から抜かれ、押当て装置3
16が上記押圧位置から退去する。続いて、ステップ5
−15において、再びエアシリンダ315に圧搾空気を
送って押当て装置316を前進させ、部材10を上記隅
部に押圧する。
さらに、ステップ5−16において、部材10を、X軸
突当て314及びY軸突当て313に設けられた吸着ア
パーチャー317.318を介してX軸方向及びX軸方
向に吸着する。最後にステップ5−17において、エア
シリンダ315から空気が抜かれ、押当て装置316が
退去する。
突当て314及びY軸突当て313に設けられた吸着ア
パーチャー317.318を介してX軸方向及びX軸方
向に吸着する。最後にステップ5−17において、エア
シリンダ315から空気が抜かれ、押当て装置316が
退去する。
プリオートフォーカスを行うステップS−2は、第11
図に示すように、最初にステップ5−20においてスイ
ッチS1 を21il化回路268にV続する。次に、
ステップ5−21において、モーター324を駆動させ
てステージ312をX軸方向すなわち部材10の長手方
向に、部材10の像l0−1が第1イメージセンサ27
1に形成されるように方向に低速度で移動させる。この
時、ステップ5−22において第1イメージセンサ22
0の出力を読出し、ステップ5−23において上記出力
を2値化回路268により2値化し、更にステップ5−
24において2値化された第1イメージセンサ220の
出力をカウンタ271により計数する。
図に示すように、最初にステップ5−20においてスイ
ッチS1 を21il化回路268にV続する。次に、
ステップ5−21において、モーター324を駆動させ
てステージ312をX軸方向すなわち部材10の長手方
向に、部材10の像l0−1が第1イメージセンサ27
1に形成されるように方向に低速度で移動させる。この
時、ステップ5−22において第1イメージセンサ22
0の出力を読出し、ステップ5−23において上記出力
を2値化回路268により2値化し、更にステップ5−
24において2値化された第1イメージセンサ220の
出力をカウンタ271により計数する。
続いて、ステップ5−25において、カウンタ271の
計数値が所定数、例えば第1イメージセンサ220の画
素数の50%になったか否かが判別される。もし、上記
計数値が所定数に達していなければ、ステップ5−21
に戻り、ステージ312が継続してX軸方向の移動を続
ける。一方、上記カウンタ271の計数値が所定数を越
えたと判別されると、ステップ5−25’に進み、第1
5図に■で示すように、部材10の像10−1の端部す
なわちエツジが第1イメージセンサ220上に来たと判
断して、その時のX軸方向の座標を読取る。
計数値が所定数、例えば第1イメージセンサ220の画
素数の50%になったか否かが判別される。もし、上記
計数値が所定数に達していなければ、ステップ5−21
に戻り、ステージ312が継続してX軸方向の移動を続
ける。一方、上記カウンタ271の計数値が所定数を越
えたと判別されると、ステップ5−25’に進み、第1
5図に■で示すように、部材10の像10−1の端部す
なわちエツジが第1イメージセンサ220上に来たと判
断して、その時のX軸方向の座標を読取る。
ステップ5−26において、ステージ312をX軸方向
にさらに移動させて、第15図に■で示すように、像1
0−1の第1ギャップ像g1−1の中間部が第1イメー
ジセンサ220上に形成されるようにする。次に、ステ
ップ5−27において、差動検出回路262の出力を検
出し、ステップ5−29において、差動検出回路262
の出力が0か否かを判別する。差動検出回路262の出
力が0でない場合には、ステップ5−28へ進み、オー
トフォーカス駆動部288のピエゾ素子を駆動させるこ
とにより微合焦を行い、さらにステップ5−27へ進む
。ステップ5−29において、差動検出回路262の出
力が0であると判別されると、プリオートフォーカスが
終了したものと判断され、ステップS−2が終了する。
にさらに移動させて、第15図に■で示すように、像1
0−1の第1ギャップ像g1−1の中間部が第1イメー
ジセンサ220上に形成されるようにする。次に、ステ
ップ5−27において、差動検出回路262の出力を検
出し、ステップ5−29において、差動検出回路262
の出力が0か否かを判別する。差動検出回路262の出
力が0でない場合には、ステップ5−28へ進み、オー
トフォーカス駆動部288のピエゾ素子を駆動させるこ
とにより微合焦を行い、さらにステップ5−27へ進む
。ステップ5−29において、差動検出回路262の出
力が0であると判別されると、プリオートフォーカスが
終了したものと判断され、ステップS−2が終了する。
部材10を正しい測定方向に位置決めするためのアライ
メント調整であるステップS−3は、第12図に示すよ
うに、最初にステップS、−31において、部材10の
第1モールド像M、−1の中間部が第1イメージセンサ
220上に形成されるように、ステージ312をX軸方
向に移動させる(第15図■)。次に、ステップ5−3
2において、第1イメージセンサ220により第1モー
ルド像M、−1の上端及び下端に対応する画素、すなわ
ち第1モールド像M、−1の上端及び下端の第1イメー
ジセンサ271上の座標を検出する。
メント調整であるステップS−3は、第12図に示すよ
うに、最初にステップS、−31において、部材10の
第1モールド像M、−1の中間部が第1イメージセンサ
220上に形成されるように、ステージ312をX軸方
向に移動させる(第15図■)。次に、ステップ5−3
2において、第1イメージセンサ220により第1モー
ルド像M、−1の上端及び下端に対応する画素、すなわ
ち第1モールド像M、−1の上端及び下端の第1イメー
ジセンサ271上の座標を検出する。
ステップ5−33において、第15図の■で示すように
、ステップ312をX軸方向に移動させて一番最後のモ
ールドすなわち第Nモールドの像°M、−1の中間部が
第1イメージセンサ220上に形成されるようにする。
、ステップ312をX軸方向に移動させて一番最後のモ
ールドすなわち第Nモールドの像°M、−1の中間部が
第1イメージセンサ220上に形成されるようにする。
続いて、ステップ5−34において、ステップ32と同
様に、第1イメージセンサ220により第Nモールド像
Mに −1の上端及び下端に対応する画素、すなわち第
Nモールド像M−1の上端及び下端の第1イメージセン
サ220上の座標を検出する。
様に、第1イメージセンサ220により第Nモールド像
Mに −1の上端及び下端に対応する画素、すなわち第
Nモールド像M−1の上端及び下端の第1イメージセン
サ220上の座標を検出する。
ステップ5−35において、第1モールド像M、−1及
び第Nモールド像M、−1の上端及び下端の座標値から
各モールド像M−1の中間座標を求め、該中間座標が等
しくなるようにステージ312の回転により部材IOを
点0を中心に何転させる。次に、ステップ5−36にお
いて、ステージ312をY軸方向に移動させて、第1イ
メージセンサ220の中心とモールド像M−1の中心が
一致するようにして、ステップS−3が終了する。
び第Nモールド像M、−1の上端及び下端の座標値から
各モールド像M−1の中間座標を求め、該中間座標が等
しくなるようにステージ312の回転により部材IOを
点0を中心に何転させる。次に、ステップ5−36にお
いて、ステージ312をY軸方向に移動させて、第1イ
メージセンサ220の中心とモールド像M−1の中心が
一致するようにして、ステップS−3が終了する。
ステップS−9における基準寸法の測定は、第13図に
示すように、最初のステップ901において基準部材1
03の磁気ギャップgの基準値Wss(Wssは照明光
の波長より短かい寸法をビット数で示したもの)を人力
する。続いて、ステップS−902において、第16図
に示すように、第2イメージセンサ239の全ての画素
における最大出力すなわちピークレベルPLが検出され
る。
示すように、最初のステップ901において基準部材1
03の磁気ギャップgの基準値Wss(Wssは照明光
の波長より短かい寸法をビット数で示したもの)を人力
する。続いて、ステップS−902において、第16図
に示すように、第2イメージセンサ239の全ての画素
における最大出力すなわちピークレベルPLが検出され
る。
さらに、ステップS−903において、ギャップ(象g
−1と第ルチクル235のレチクル線の像240−1に
係る最小出力すなわちボトムレベルBL、 、 BL、
が検出される。ステップS−904において、測定スラ
イスレベルSL、 及びレチクルスライスレベルSL2
を S L、 =−(PL+BL、) ・・・・・・
(2)SL2 = (PL+BLz) ・・・・
・・(3)により演算して決定する。ステップS−90
5において、上記スライスレベルSL2 によるレチク
ル像240−1の検出データ(ビット数)dsが検出さ
れ、マイコン404に記憶される。
−1と第ルチクル235のレチクル線の像240−1に
係る最小出力すなわちボトムレベルBL、 、 BL、
が検出される。ステップS−904において、測定スラ
イスレベルSL、 及びレチクルスライスレベルSL2
を S L、 =−(PL+BL、) ・・・・・・
(2)SL2 = (PL+BLz) ・・・・
・・(3)により演算して決定する。ステップS−90
5において、上記スライスレベルSL2 によるレチク
ル像240−1の検出データ(ビット数)dsが検出さ
れ、マイコン404に記憶される。
次に、ステップS−906において、スライスレベルS
L、 によってギャップfJJ g −1の検出テ゛
−タW、が検出され、最初の検出値Ws(: −(PL
+BL、)の値のスライスレベルSL。
L、 によってギャップfJJ g −1の検出テ゛
−タW、が検出され、最初の検出値Ws(: −(PL
+BL、)の値のスライスレベルSL。
による検出値コを初期検出値W、。とじてマイコン40
4に記憶する。ステップS−907において、検出デー
タW、が基準値WSSよりも小さいかどうかが判断され
、W、<WssのときにはステップS−908へ進む。
4に記憶する。ステップS−907において、検出デー
タW、が基準値WSSよりも小さいかどうかが判断され
、W、<WssのときにはステップS−908へ進む。
ステップS−908において、スライスレベルSL、を
増加させ、再びステップS−906へ戻って検出データ
WSが、Ws<WSSでな(なるまで繰り返えす。
増加させ、再びステップS−906へ戻って検出データ
WSが、Ws<WSSでな(なるまで繰り返えす。
ステップS−907において、ws <W、sでない
と判断されると、ステップS−909においてws”w
ssとなったかが判断される。Ws=Wssでないとき
にはステップS−910へ進み、ステップS−910に
おいてスライスレベルSL、を減少させ再びステップS
−906へ戻って、検出テ゛−タW、の検出が行われ、
W、 ”wssとなるまでこのステップルートを繰り返
す。ステップS−909においてWs=Wssと判断さ
れると、ステップS−911へ進む。°ステップS−9
11において、ピークレベルPLとボトムレベルBL、
との間に対するws ”wssとなったときのス
ライスレベルSL、のパーセンテージ(ピークレベルP
Lを100%、ボトムレベルBL、を0%として表わし
たパーセント)を初期検出値W、oに対応させて最適パ
ーセントスライスレベル係fikとして記憶し、ステッ
プS−912に進む。
と判断されると、ステップS−909においてws”w
ssとなったかが判断される。Ws=Wssでないとき
にはステップS−910へ進み、ステップS−910に
おいてスライスレベルSL、を減少させ再びステップS
−906へ戻って、検出テ゛−タW、の検出が行われ、
W、 ”wssとなるまでこのステップルートを繰り返
す。ステップS−909においてWs=Wssと判断さ
れると、ステップS−911へ進む。°ステップS−9
11において、ピークレベルPLとボトムレベルBL、
との間に対するws ”wssとなったときのス
ライスレベルSL、のパーセンテージ(ピークレベルP
Lを100%、ボトムレベルBL、を0%として表わし
たパーセント)を初期検出値W、oに対応させて最適パ
ーセントスライスレベル係fikとして記憶し、ステッ
プS−912に進む。
ステップS−912において、検出テ°−タW9、d、
により目盛定め、すなわちある部材10の測定における
検出データ(ビット数)WSdが求められたとき、正し
い測定値Wt を により求めるために補正係数((WssXd、 )
/W、 )を演算して、マイコン404によりこれを記
憶する。
により目盛定め、すなわちある部材10の測定における
検出データ(ビット数)WSdが求められたとき、正し
い測定値Wt を により求めるために補正係数((WssXd、 )
/W、 )を演算して、マイコン404によりこれを記
憶する。
この基準寸法の測定は、何種類かの基準寸法について行
い最適パーセントスライスレベル係数にのテーブルが作
成される。このテーブルは初期検出データW、。と最適
パーセントスライスレベル係数にとを関係づけるもので
、その関係例は第17図に示すものである。
い最適パーセントスライスレベル係数にのテーブルが作
成される。このテーブルは初期検出データW、。と最適
パーセントスライスレベル係数にとを関係づけるもので
、その関係例は第17図に示すものである。
ステップ5−10は未知寸法の測定を行うもので、第1
4図に示すように、未知の微小寸法をスライスレベル係
数に=50%のスライスレベルで測定した検出データW
。、が照明光の波長と同程度の値に対応する境界値Wl
(ビット数で示した値)より小さいときに、その検
出データW、、sに応じて最適パーセントスライスレベ
ルkを求め、これに応じたスライスレベルで測定した検
出データにより、ギャップ値WnTを求めている。
4図に示すように、未知の微小寸法をスライスレベル係
数に=50%のスライスレベルで測定した検出データW
。、が照明光の波長と同程度の値に対応する境界値Wl
(ビット数で示した値)より小さいときに、その検
出データW、、sに応じて最適パーセントスライスレベ
ルkを求め、これに応じたスライスレベルで測定した検
出データにより、ギャップ値WnTを求めている。
すなわち、ステップ1001において、ステップ902
と同嘩に、第2イメージセンサ239の各画素における
最大出力すなわちピークレベルPL、が測定される。次
に、ステップS −1003において、第16図に示す
ように、ピークレベルPLわが所定範囲にあるか、すな
わちaz<PI、a<a、 にあるか否かが判定され
、所定範囲内にないときには、ステップS−1002へ
進み、第2イメージセンサ239の受光量が不適量すな
わち過不足であったと判断し、マイコン404はそのず
れ量に基づいてI10インタフェイスユニット410を
介して駆動回路DC,、及びDC3に信号を送り、第2
イメージセンサ239の受光時間すなわち蓄積時間を増
減調節してステップS−1001へ戻る。
と同嘩に、第2イメージセンサ239の各画素における
最大出力すなわちピークレベルPL、が測定される。次
に、ステップS −1003において、第16図に示す
ように、ピークレベルPLわが所定範囲にあるか、すな
わちaz<PI、a<a、 にあるか否かが判定され
、所定範囲内にないときには、ステップS−1002へ
進み、第2イメージセンサ239の受光量が不適量すな
わち過不足であったと判断し、マイコン404はそのず
れ量に基づいてI10インタフェイスユニット410を
介して駆動回路DC,、及びDC3に信号を送り、第2
イメージセンサ239の受光時間すなわち蓄積時間を増
減調節してステップS−1001へ戻る。
ステップS−1003において、ピークレベルPL、が
所定範囲内にあると判断されると、ステップS−100
4において、ステップS−903と同様に、ギャップ像
g−1とレクチル線像24〇−1におけるボトムレベル
B Lll、、BL、12が検出される。ステップS−
1005において、最適パーセントスライス係数kを5
0とおき、ステップS−1007に進む。
所定範囲内にあると判断されると、ステップS−100
4において、ステップS−903と同様に、ギャップ像
g−1とレクチル線像24〇−1におけるボトムレベル
B Lll、、BL、12が検出される。ステップS−
1005において、最適パーセントスライス係数kを5
0とおき、ステップS−1007に進む。
ステップS−1007において、測定スライスレベルS
L、、とレチクルスライスレベル5Ln2カレ の演算により決定され、ステップS−1008へ進む。
L、、とレチクルスライスレベル5Ln2カレ の演算により決定され、ステップS−1008へ進む。
ステップS−1008において、上で求めた測定スライ
スレベルSL、及びレチクルスライスレベルSL2 に
よって、ギャップ像g、、−1及びレチクル像240−
1のそれぞれの検出データW□、d、、。が検出され、
マイコン404に記憶され、ステップS−1009へ進
む。
スレベルSL、及びレチクルスライスレベルSL2 に
よって、ギャップ像g、、−1及びレチクル像240−
1のそれぞれの検出データW□、d、、。が検出され、
マイコン404に記憶され、ステップS−1009へ進
む。
ステップS−1009において、検出テ°−タW□が境
界値W1 より大きいか否かが判断され、大きいときに
はステップS−1010へ進み、小さいとき(微小寸法
)のときはステップS −1011へ進む。ステップS
−1011において、検出データW、に基づいて、ステ
ップS−9で作成したテーブルからこれに対応した最適
パーセントスライスレベル係数にの値を読み出し決定す
る。スライスレベルS−1012において、ステップS
−1011で決定された最適パーセントスライスレベル
係数kに応じて測定スライスレベルSLtを再度設定し
、ステップS−1013へ進み、ステップS−1013
においてその測定スライスレベルSL、で再度検出デー
タW。を検出し、ステップS−1010へ進む。
界値W1 より大きいか否かが判断され、大きいときに
はステップS−1010へ進み、小さいとき(微小寸法
)のときはステップS −1011へ進む。ステップS
−1011において、検出データW、に基づいて、ステ
ップS−9で作成したテーブルからこれに対応した最適
パーセントスライスレベル係数にの値を読み出し決定す
る。スライスレベルS−1012において、ステップS
−1011で決定された最適パーセントスライスレベル
係数kに応じて測定スライスレベルSLtを再度設定し
、ステップS−1013へ進み、ステップS−1013
においてその測定スライスレベルSL、で再度検出デー
タW。を検出し、ステップS−1010へ進む。
ステップS−912においてマイコン404に記憶した
( (WssXda ) / Ws )を読出し、
を演算して、ギャップ値W1を求める。
( (WssXda ) / Ws )を読出し、
を演算して、ギャップ値W1を求める。
寸法の測定の際の検出データW 11 %に含まれてい
る温度変化等を原因とする誤差を補正するために施s は検出データ(ビット数)を実際の寸法に変換するもの
である。
る温度変化等を原因とする誤差を補正するために施s は検出データ(ビット数)を実際の寸法に変換するもの
である。
続いて、未知寸法の測定を行うステップ5−10の他の
実施例を、第18図に基づいて説明する。この方式にお
いて、第19図に示すように、X軸方向(測定軸方向)
の位置(横軸)とその位置における各画素の出力(縦軸
)の関係において、被測定値が基準値W+(ここでは0
.5μmに相当)より大きい場合にはボトムレベルBL
Oははトンど変わらないのに対し、被測定値が基準Wi
W + 以下の値となるとボトムレベルBL、が上昇
し、ピークレベルPLとボトムレベルBL、 との差
が小さくなることに着目し、この差に応じて最適パーセ
ントスライスレベル係数kを定めこれによって測定を行
うものである。ここで、これらの測定値を得た光学系は
、NAが0.9、デフォーカス量が0である。
実施例を、第18図に基づいて説明する。この方式にお
いて、第19図に示すように、X軸方向(測定軸方向)
の位置(横軸)とその位置における各画素の出力(縦軸
)の関係において、被測定値が基準値W+(ここでは0
.5μmに相当)より大きい場合にはボトムレベルBL
Oははトンど変わらないのに対し、被測定値が基準Wi
W + 以下の値となるとボトムレベルBL、が上昇
し、ピークレベルPLとボトムレベルBL、 との差
が小さくなることに着目し、この差に応じて最適パーセ
ントスライスレベル係数kを定めこれによって測定を行
うものである。ここで、これらの測定値を得た光学系は
、NAが0.9、デフォーカス量が0である。
この方式による測定をする場合には、第13図に示した
基準寸法測定のフローチャート中、ステップS−911
において、ピークレベルPLとボトムレベルBL、
との間においてWs=Wssとなったときのスライスレ
ベルSL、 のパーセント(ピークレベルPLを10
0%、ボトムレベルBL、を0%として表わしたパーセ
ント)を、そのときのボトムレベルBL、 を後述する
パーセントボトムレベルに換算したものに対応させ、最
適パーセントスライスレベル係数にとして記憶し、これ
らのテーブルを作成する。ここで、レチクル(象240
−1によるボトムレベルBL、を0%で示し、ピークレ
ベル PLを100%で示すとき、ギャップ像g、、−
1のボトムレベルBL、 に相当するパーセントボト
ムレベルと、最適パーセントスライスレベル係数にとの
関係は、第20図に示すものとなる。
基準寸法測定のフローチャート中、ステップS−911
において、ピークレベルPLとボトムレベルBL、
との間においてWs=Wssとなったときのスライスレ
ベルSL、 のパーセント(ピークレベルPLを10
0%、ボトムレベルBL、を0%として表わしたパーセ
ント)を、そのときのボトムレベルBL、 を後述する
パーセントボトムレベルに換算したものに対応させ、最
適パーセントスライスレベル係数にとして記憶し、これ
らのテーブルを作成する。ここで、レチクル(象240
−1によるボトムレベルBL、を0%で示し、ピークレ
ベル PLを100%で示すとき、ギャップ像g、、−
1のボトムレベルBL、 に相当するパーセントボト
ムレベルと、最適パーセントスライスレベル係数にとの
関係は、第20図に示すものとなる。
この実施例の未知寸法の測定処理ステップ11を第18
図に示す。前半のステップS−1101ないしステップ
S−1104までの処理は、第14図に示すステップS
−1001ないしステップS−1004までの処理と同
様であるので、その説明を省略してステップS−110
5から説明する。ステップS−1105において、ボト
ムレベルB LR,が十分な大きさのギャップによって
得られるボトムレベルの値BL0より小さいか否かが判
断される。
図に示す。前半のステップS−1101ないしステップ
S−1104までの処理は、第14図に示すステップS
−1001ないしステップS−1004までの処理と同
様であるので、その説明を省略してステップS−110
5から説明する。ステップS−1105において、ボト
ムレベルB LR,が十分な大きさのギャップによって
得られるボトムレベルの値BL0より小さいか否かが判
断される。
ステップS−1105においてB Lnl < B L
。
。
でないと判断したときはステップS−1108へ進み、
このとき測定対象となっているギャップは照明光の波長
より充分大きなものとして最適スライスレベル係数kを
50%と決定する。続くステップS−1109において
、測定及びレチクルスライスレベルS L、、、とS
L、2を、第14図に示すステップS−1008と同様
に、(5)、(6)式によって測定及びレチクルスライ
スレベルSL、、I及びS L112を定めるステップ
S −11,10へ進む。一方、ステップS−1105
においてB Lnl < B L。
このとき測定対象となっているギャップは照明光の波長
より充分大きなものとして最適スライスレベル係数kを
50%と決定する。続くステップS−1109において
、測定及びレチクルスライスレベルS L、、、とS
L、2を、第14図に示すステップS−1008と同様
に、(5)、(6)式によって測定及びレチクルスライ
スレベルSL、、I及びS L112を定めるステップ
S −11,10へ進む。一方、ステップS−1105
においてB Lnl < B L。
であると判断したときは、ステップS−1106へ進み
、ここでボトムレベルSL−+をパーセントボトムレベ
ルに換算し、既に作成されたテーブルから最適スライス
レベル係数kを定め、ステップS−1107へ進む。ス
テップS−1107においては、ステップS−1109
と同様にして滑走スライスレベルSL、、、レチクルス
ライスレベルSL、、2を定め、ステップS−1110
へ進む。ステップS−1110及びステップS−111
1においては、第14図に示すステップS−1010及
びステップS−1014と同様にしてギャップ値W。7
を求める。
、ここでボトムレベルSL−+をパーセントボトムレベ
ルに換算し、既に作成されたテーブルから最適スライス
レベル係数kを定め、ステップS−1107へ進む。ス
テップS−1107においては、ステップS−1109
と同様にして滑走スライスレベルSL、、、レチクルス
ライスレベルSL、、2を定め、ステップS−1110
へ進む。ステップS−1110及びステップS−111
1においては、第14図に示すステップS−1010及
びステップS−1014と同様にしてギャップ値W。7
を求める。
本発明は、上述したように、測定寸法が使用光の波長と
同程度又はそれ以下の場合に、スライスレベルをイメー
ジセンサの出力に応じて設定するから、これらの寸法に
ついても精度の高い寸法測定を行うことができる効果を
有する。
同程度又はそれ以下の場合に、スライスレベルをイメー
ジセンサの出力に応じて設定するから、これらの寸法に
ついても精度の高い寸法測定を行うことができる効果を
有する。
第1図は本発明の実施例の微小寸法測定装置の傾斜図、
第2図は本発明の実施例のブロック図、第3図は第2図
の光学系の光学図、第4図は第2レチクルの平面図、第
5図は第2レチクルの平面図、第6図にモニタテレビの
表示の説明図、第7図はステージの傾斜図、第8図はス
テージの作動説明図、第9図は本実施の作動を示すフロ
ーチャート図、第10図はセツティングステップのフロ
ーチャート図、第11図はブリオートフォーカスステッ
プのフローチャート図、第12図はアライメントステッ
プのフローチャート図、第13図は基準寸法測定ステッ
プのフローチャート図、第14図は未知寸法の測定ステ
ップのフローチャート図、第15図はアライメント調整
の説明図、第16図はイメージセンサの出力を解析する
ための説明図、第17図は初期検出データWSOと最適
パーセントレベル係数にとの関係を示すグラフ図、第1
8図は未知寸法の他の実施例の測定ステップのフローチ
ャート図、第19図は被測定寸法とボトムレベルの関係
を示すグラフ図、第20図はパーセントボトムレベルと
最適パーセントスライスレベル係数の関係を示すグラフ
図、第21図は従来の装置による被測定寸法と検出値と
の関係を示すグラフ図である。 10・・・・・・磁気ヘッド部材 g・・・・・・磁気へッドギャップ 104・・・・・・搬送ロボット 210・・・・・・アライメント光学系212・・・・
・・対物レンズ 218・・・・・・ビームスプリッタ 220・・・・・・第1 CCD 227・・・・・・円柱レンズ 228・・・・・・4分割受光素子 230・・・・・・測定光学系 232・・・・・・対物レンズ 239・・・・・・第2CCD 235・・・・・・第ルチクル 237・・・・・・負の円柱レンズ 238・・・・・・正の円柱レンズ 239・・・・・・第2レチクル 第6図 第8図 第12図 第15図 スライスレベル (’/、) 50’ムレベルの像中WSO− パーセントボトムレベル(0ム) 第21図 一一一一一相対スライスレベル方式 □絶対スライスレベル方式 (μm) 被測定寸法−一一一
第2図は本発明の実施例のブロック図、第3図は第2図
の光学系の光学図、第4図は第2レチクルの平面図、第
5図は第2レチクルの平面図、第6図にモニタテレビの
表示の説明図、第7図はステージの傾斜図、第8図はス
テージの作動説明図、第9図は本実施の作動を示すフロ
ーチャート図、第10図はセツティングステップのフロ
ーチャート図、第11図はブリオートフォーカスステッ
プのフローチャート図、第12図はアライメントステッ
プのフローチャート図、第13図は基準寸法測定ステッ
プのフローチャート図、第14図は未知寸法の測定ステ
ップのフローチャート図、第15図はアライメント調整
の説明図、第16図はイメージセンサの出力を解析する
ための説明図、第17図は初期検出データWSOと最適
パーセントレベル係数にとの関係を示すグラフ図、第1
8図は未知寸法の他の実施例の測定ステップのフローチ
ャート図、第19図は被測定寸法とボトムレベルの関係
を示すグラフ図、第20図はパーセントボトムレベルと
最適パーセントスライスレベル係数の関係を示すグラフ
図、第21図は従来の装置による被測定寸法と検出値と
の関係を示すグラフ図である。 10・・・・・・磁気ヘッド部材 g・・・・・・磁気へッドギャップ 104・・・・・・搬送ロボット 210・・・・・・アライメント光学系212・・・・
・・対物レンズ 218・・・・・・ビームスプリッタ 220・・・・・・第1 CCD 227・・・・・・円柱レンズ 228・・・・・・4分割受光素子 230・・・・・・測定光学系 232・・・・・・対物レンズ 239・・・・・・第2CCD 235・・・・・・第ルチクル 237・・・・・・負の円柱レンズ 238・・・・・・正の円柱レンズ 239・・・・・・第2レチクル 第6図 第8図 第12図 第15図 スライスレベル (’/、) 50’ムレベルの像中WSO− パーセントボトムレベル(0ム) 第21図 一一一一一相対スライスレベル方式 □絶対スライスレベル方式 (μm) 被測定寸法−一一一
Claims (3)
- (1)被測定物の像をイメージセンサ上に形成する光学
系と、上記光学系によって形成された像に応じた信号を
出力するイメージセンサと、測定寸法が使用光の波長と
同程度又はそれ以下の場合に上記イメージセンサの出力
に応じてスライスレベルを設定するスライスレベル設定
部と、上記スライスレベルと上記イメージセンサの出力
とを比較して被測定物の寸法を測定する測定部とを具備
したことを特徴とする微小寸法測定装置。 - (2)上記スライスレベル設定部が、被測定物における
測定対象部分の像の出力レベルに対応した基準レベルを
記憶する記憶部と、上記測定対象部分の像による上記イ
メージセンサの測定対象部分出力が上記基準レベルに達
しているか否かを判別するレベル判別部とを備え、上記
レベル判別部が上記測定対象部分出力が基準レベルに達
していないと判別したとき、上記スライスレベルを上記
基準レベルとの差を増すように変化させるスライスレベ
ル増減部を具備することを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項記載の微小寸法測定装置。 - (3)上記スライスレベル設定部が、所定のスライスレ
ベルと、上記所定のスライスレベルを用いて上記測定部
が測定した測定対象部分の寸法を測定に使用した波長程
度の所定寸法と比較する寸法比較部とを備え、上記測定
部が上記寸法比較部によって測定した寸法が上記所定寸
法より小さいと判別したとき、上記スライスレベルを上
記測定部によって測定される寸法が増加する方向にスラ
イスレベルを変化させるスライスレベル変更部とを有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の微
小寸法測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61108231A JPH0820217B2 (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | 微小寸法測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61108231A JPH0820217B2 (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | 微小寸法測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62263403A true JPS62263403A (ja) | 1987-11-16 |
JPH0820217B2 JPH0820217B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=14479382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61108231A Expired - Lifetime JPH0820217B2 (ja) | 1986-05-12 | 1986-05-12 | 微小寸法測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0820217B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5714849U (ja) * | 1980-06-20 | 1982-01-26 | ||
JPS5788298U (ja) * | 1980-11-18 | 1982-05-31 | ||
JPS58147115A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-01 | Nippon Jido Seigyo Kk | パタ−ンの欠陥検査装置に用いるスライス方法 |
JPS59138907A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-09 | Matsushita Electric Works Ltd | 形状欠陥検出器 |
-
1986
- 1986-05-12 JP JP61108231A patent/JPH0820217B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5714849U (ja) * | 1980-06-20 | 1982-01-26 | ||
JPS5788298U (ja) * | 1980-11-18 | 1982-05-31 | ||
JPS58147115A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-01 | Nippon Jido Seigyo Kk | パタ−ンの欠陥検査装置に用いるスライス方法 |
JPS59138907A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-09 | Matsushita Electric Works Ltd | 形状欠陥検出器 |
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Publication number | Publication date |
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JPH0820217B2 (ja) | 1996-03-04 |
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