JP3252549B2 - マスクまたはレチクル用共焦点走査方式レーザ顕微鏡 - Google Patents

マスクまたはレチクル用共焦点走査方式レーザ顕微鏡

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JP3252549B2
JP3252549B2 JP20366393A JP20366393A JP3252549B2 JP 3252549 B2 JP3252549 B2 JP 3252549B2 JP 20366393 A JP20366393 A JP 20366393A JP 20366393 A JP20366393 A JP 20366393A JP 3252549 B2 JP3252549 B2 JP 3252549B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、マスクまたはレチク
ル上に描かれたパターンの線幅測定等に用いられる共焦
点走査方式レーザ顕微鏡に関し、試料のバンドリングを
自動化したものである。
【0002】
【従来の技術】共焦点走査方式レーザ顕微鏡は、マスク
もしくはレチクルまたはウェハー用寸法検査装置とし
て、マスクもしくはレチクルまたはウェハー上に描れた
パターンの線幅計測や重ね合せ精度の計測を行なうのに
利用される。共焦点走査方式レーザ顕微鏡の原理図を図
2に示す。レーザ発振器10から発射されたレーザ光1
2は、ミラー14で反射され、レンズ16で絞られてピ
ンホール18に通される。ピンホール18を通過したレ
ーザ光12はビームスプリッタ20を透過して対物レン
ズ22で収束されて、試料24(マスクもしくはレチク
ルまたはウェハー)に照射される。試料24の表面で反
射したレーザ光は、ビームスプリッタ20で反射され
て、ピンホール26を通過して光電子増倍管28で受光
および増幅される。
【0003】寸法検査を行なうときは、レーザ光の焦点
Fの位置を(a)のようにパターン30の下(またはパ
ターン30の上)に合わせて固定する。そして、スキャ
ンコントローラ32により試料24を高周波でX軸方向
にスキャンさせながら、X,YステージでY軸方向にゆ
っくりと移動させる。この時、(a)のようにビームス
ポットがパターン30の下を通過している時は、反射光
はすべてピンホール26を通過し、光電子増倍管28の
出力は高くなる。これに対し、(b)のようにビームス
ポットがパターン30上を通過している時は、反射光は
ピンホール26の位置でフォーカスせず、大部分が遮ら
れるので、光電子増倍管28の出力は小さくなる。した
がって、スキャンコントローラ32によるスキャンに同
期して光電子増倍管28の出力に応じた輝度でテレビモ
ニタ34上に順次描いていけばパターン30のイメージ
36がテレビモニタ34に写し出される。オペレータが
このイメージ36上の任意の位置にカーソルを動かすこ
とにより、その位置のパターン幅が自動計測される。
【0004】以上の原理を用いた従来のウェハー用共焦
点走査方式レーザ顕微鏡の具体例(SiScan社製S
iScanIIA)を説明する。図3はその装置構成図で
ある。このウェハー用共焦点走査方式レーザ顕微鏡40
は、光学モジュール42とワークステーション44で構
成され、相互に信号ケーブル45でつながれている。光
学モジュール42はエアサスペンションで支持された基
台46上にX,Yステージ48が取付けられ、さらにそ
の上にスキャナー50が取付けられている。試料はスキ
ャナー50に真空吸着でチャックされて取付けられる。
スキャナー50の上方にはフォーカス装置52が配置さ
れ、レーザー発振器10から発射されるレーザ光を対物
レンズ22で収束してスキャナー50上の試料に照射す
る。光学系ボックス9内には前記図2の光学系が収容さ
れている。また、レーザーヘッド54に隣接してズーム
レンズ付テレビカメラ56が下方に向けて配設され、試
料(ウェハー)のレーザー照射位置付近の画像を撮るの
に用いられる。基台46の下には、電気回路シャーシ5
8、チャック用真空等のインジケータ60、レーザ用電
源62、試料をスキャナー50上にセットしまた検査を
終了した試料をスキャナー50から取り外すためのロボ
ットの制御装置8等が配設されている。
【0005】一方、ワークステーション44には、オペ
レータの操作盤64、テレビモニタ66、プリンター6
8、CPUを含む制御装置70等が具えられ、光学モジ
ュール42をすべてこのワークステーション44から操
作できるようになっている。テレビモニタ66にはレー
ザ顕微鏡による観測画像、テレビカメラ56による画像
などが表示される。
【0006】図3のウェハー用共焦点走査方式レーザ顕
微鏡40のシステム構成を図4に示す。試料(ウェハ
ー)24は、ウェハー・ハンドリング・ロボット72に
よりスキャナー50上に搬送されてチャックされてい
る。レーザ発振器10からのレーザ光12は前記図2に
示した光学系を介して対物レンズ22から出射され、試
料24に照射される。その反射光は光検出器28(光電
子増倍管等)で受光される。
【0007】ワークステーション44のコンピュータ7
6はバス77を介して各部を制御する。すなわち、ウェ
ハー・ハンドラー制御部82はロボット72を駆動し
て、試料24の搬出、搬入を行なう。また、X,Yステ
ージモータ制御部78は、X,Yステージ48を駆動し
て、試料24上の所望の被検査箇所をレーザ光12のス
キャン範囲に位置決めする。また、Z軸フォーカス制御
部80は対物レンズ22を上下方向に動かすことによ
り、試料24上のパターンの下または上に焦点を合わせ
る。焦点が合ったら対物レンズ22の高さをそこに固定
する。
【0008】スキャン制御および同期回路84はスキャ
ン制御としてスキャン用波形の読出しや同期制御を行な
うものである。ライン・スキャン波形メモリ86はサイ
ン波等のスキャン用波形を記憶しており、スキャン制御
および同期回路84からの指令により、記憶しているス
キャン波形を高速(例えば2kHz)で読み出す。読み
出されたスキャン波形は、D/A変換器88でアナログ
波形に変換され、アンプ90を介してスキャナー50の
アクチュエータ(ボイス・コイル・モータ、圧電素子
等)をX軸方向に駆動し、レーザー光照射位置をスキャ
ニングする。スキャニング速度は速度フィードバックに
より規定速度に保たれている。
【0009】前記光検出器28の出力はアンプ92を介
してA/D変換器94でディジタル信号に変換される。
ピクセルタイミングおよび同期回路96は、各走査で連
続して得られる光検出器28の検出情報とX軸上の位置
との対応関係を取るもので、A/D変換器94から順次
出力されるデータに対し、1走査ライン上のアドレスを
与えてライン・スキャン・ピクセル・メモリ98に取込
む。なお、ライン・スキャン歪みメモリ100は、スキ
ャン波形の空間的な歪を補正して、正確なパターンがメ
モリ98に取り込まれるようにするものである。
【0010】スキャンはX,Yステージ48のY軸を一
定速度でゆっくり動かしながら行なわれ、このときスキ
ャンごとにメモリ98の内容がビデオ・ディスプレイ・
メモリ102に順次取り込まれていき、これによりX,
Y平面上の所望の範囲のパターン画像がテレビモニタ上
のイメージモニタ104の表示領域に表示される。ま
た、テレビモニタ上のグラフィックモニタ106の表示
領域には、イメージモニタ104上においてカーソルで
指示したY軸位置のX軸方向の光検出器検出波形が表示
される。パターン幅は、イメージモニタ104上におい
てカーソルで指示した範囲について、ビデオ・ディスプ
レイ・メモリ102に記憶されているパターンのピクセ
ル数をカウントし、カーソル内のY軸方向各位置のカウ
ント値を平均した値を自動演算し、その結果を数値とし
てテレビ画面上に表示する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ウェハーの場合は、寸
法が決まっている(8,6,5インチ等)ため、検査対
象のウェハーを1度に複数枚マガジンラックに収納し
て、図4のようにウェハー・ハンドリング・ロボット7
2でウェハーをマガジンラックから1枚ずつ引き出して
交互にスキャナー50にセットして、順次検査をするこ
とができ、検査の自動化が比較的容易である。
【0012】ところが、マスクやレチクルは外形寸法
(縦、横の寸法、厚さ等)や付属部品(ペリクル等)の
有無等が様々であり、共通に扱えないため自動ハンドリ
ングが難しく、検査を自動化することができなかった。
【0013】そこで、従来は人手によってマスクまたは
レチクルをスキャナにセットしていた。このため、人に
付着しているほこりが検査範囲内に入る問題があった。
【0014】この発明は、従来の技術における問題点を
解決して、マスクやレチクルの自動ハンドリングを可能
にして、検査範囲内にほこりが入るのを防止したマスク
またはレチクル用共焦点走査方式レーザ顕微鏡を提供し
ようとするものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】この発明は、マスクまた
レチクルを保持するマスクホルダーと、このマスクホル
ダーを保持して所定のプリアライメント位置に位置決め
するプリアライメント装置と、前記マスクホルダーを前
記プリアライメント装置から取り出してスキャナーにセ
ットするマスクハンドラーとを具備し、前記マスクホル
ダーは、重量を調整する調整ウエイトを備え、外周上面
に点接触で位置決めするマスクストッパを備えるととも
に、位置決めされた前記マスクまたはレチクルを吸着す
る吸着面が形成され、この吸着面の内側にマスクの中央
部が接触しない深さの凹部を備えるとともに、下面中央
部が前記スキャナへのチャック面とされ、前記マスクま
たはレチクルを取り付けた状態で重量および重心が常に
一定になるよう構成されていることを特徴とするもので
ある。
【0016】
【作用】この発明によれば、各種寸法のマスクやレチク
ルごとにマスクホルダを用意し、かつこれらマスクホル
ダの外形寸法を統一しておくことにより、マスクの寸法
等の違いによらず取扱いを共通化することができる。そ
して、マスクまたはレチクルを保持したマスクホルダー
をプリアライメント装置に人手やロボット等によって大
ざっぱに配置すれば、プリアライメント装置が所定のプ
リアライメント装置に位置決めするので、マスクハンド
ラーはマスクやレチクルの寸法等の違いにかかわらず常
に一定の工程でマスクホルダーをプリアライメント装置
から取り出してスキャナーにセットすることができる。
また、ペリクル付きのマスクでも凹部によってペリクル
がマスクホルダーに接触しないようにでき、しかもペリ
クルの有無によっても調整ウエイトで重量を一定にで
き、重心が常に一定になるようにできる。
【0017】したがって、人の手がスキャナーの近くに
入り込むことがなくなるので、検査範囲内にほこりが入
るのが防止される。
【0018】
【実施例】この発明の一実施例を以下説明する。はじめ
に、その概要を図5に示す。検査対象のマスク(または
レチクル)122はマスクホルダー124に搭載された
状態で検査される。マスクホルダー124はマスク12
2の外形寸法および厚さ寸法ごとに用意され、マスク1
22を所定位置に保持する。マスクホルダー124の外
形寸法は統一され、マスク種類によらず共通のハンドリ
ングが行なえるようになっている。
【0019】マスクホルダー124を人手またはロボッ
ト等でプリアライメント装置126に搬入し載置する
と、プリアライメント装置126がマスタホルダ124
を自動的に所定のプリアライメント位置に位置決めす
る。位置決めを完了すると、マスクハンドラー128は
一定の工程でプリアライメント装置126からマスクホ
ルダー124をすくい上げて、スキャナー50に載置
し、検査が行なわれる。検査が終了すると、逆の工程で
マスクハンドラー128がスキャナー50からマスクホ
ルダ124をすくい上げて、プリアライメント装置12
6に戻す。このようにして、1枚のマスク122の検査
が終了する。
【0020】図5のレーザ顕微鏡120の具体例(光学
モジュール部分)を図1に示す。前記図3と共通する部
分には同一の符号を付す。レーザ顕微鏡120は全体が
筐体139で覆われている。プリアライメント装置12
6は筐体139の正面に面した位置に配設されており、
蓋146を開いてマスクホルダー124の搬入、搬出を
行なう。プリアライメント装置126の背後にはマスク
ハンドラー128が配置されている。また、マスクハン
ドラー128の回転軸146を中心として、プリアライ
メント装置126の位置から水平方向に90°左回転さ
せた位置にスキャナー50の基準位置が配設されてい
る。
【0021】プリアライメント装置126は、マスクホ
ルダー124を載置する板状部130を有している。マ
スクホルダー124は人手またはロボットにより外部か
ら搬入されて、板状部130上に大まかに置かれる。板
状部130の表面にはマスクホルダー124を真空吸着
する吸引溝131が形成されている。吸引溝131によ
る吸引力を利用して、マスク122自体もマスクホルダ
ー124に強固に真空吸着される。
【0022】板状部130は傾動軸132を軸として手
前(マスクホルダー搬入方向)側に傾動可能とされてい
る。板状部130は通常は水平状態とされているが、プ
リアライメントを行なう時は傾動して、マスクホルダー
124を滑らせて切立った2辺のエッジ133,134
で係止する。これで、マスクホルダー124の中心位置
がプリアライメント装置126のプリアライメント中心
位置135に一致し、プリアライメントされた状態とな
る。
【0023】マスクハンドラー128は、上下の移動、
水平方向の回転、水平方向の伸縮の3つの駆動軸を具
え、先端のマスクハンド136をプリアライメント装置
126の板状部130の切欠140に差し込んでマスク
ホルダー124を真空吸着してすくい上げる。そして、
マスクホルダ124を真空吸着した状態でスキャナー5
0上に移送し、スキャナー50の切欠51(図14参
照)にマスクハンド136を差し込んで、マスクホルダ
ー124をスキャナー50に引き渡す。スキャナー50
は引き渡されたマスクホルダー124を真空吸着により
チャックして、検査を行なう。
【0024】なお、プリアライメント装置126を臨む
位置に光電式やテレビカメラ式等のマスク高さ検出器が
配置され、板状部130に載置されたマスクの高さを検
出する。この高さ検出により、マスクホルダとマスクと
の組合せの間違いを自動検出して、検査時における対物
レンズ22とマスク122との衝突を防止する。
【0025】図1のレーザ顕微鏡による一連の検査工程
を図6により説明する。検査を行なう時は、マスク12
2が装着されたマスクホルダ124を人手またはロボッ
トによりプリアライメント装置126の板状部130に
大まかに置く。検査開始ボタンが投入されると(P
1)、プリアライメント装置126の板状部130が真
空吸引をして圧力検知し、板状部130上にマスクホル
ダー124が載置されているか否かを検知する(P2,
P3)。すなわち、圧力が所定値より低下しない場合
は、マスクホルダー124がセットされていないと判断
して真空吸引を停止し(P4)、検査開始指令を解除す
る(P5)。
【0026】圧力が所定値より低下した場合はマスクホ
ルダー124がセットされていると判断して吸引を停止
する(P6)。そして、プリアライメント装置126の
板状部130を所定量傾動させてプリアライメントを行
なう(P7)。傾動終了後再び吸引を開始し(P8)、
板状部130を水平に戻す(P9)。
【0027】次に、マスクハンドラー128のマスクハ
ンド136を板状部130の切欠140に非接触に差し
込んで、マスクハンド136を少し上昇させて、マスク
ハンド136の表面を板状部130の表面と同じ高さに
位置決めし(P10)、マスクハンド136の吸引を開
始した後(P11)、板状部130の吸引を停止する
(P12)。そして、マスクハンド136を上昇させ
て、マスクホルダー124を板状部130から引き上げ
る(P13)。
【0028】引き上げたら、マスクハンド136を90
°水平方向に左回転し、アーム142,144を伸ばし
て、マスクハンド136をスキャナー50の切欠51
(図14)に非接触に差し込む(P14)。なお、この
ときX,Yステージ48は原点等の基準位置に位置決め
されている。そして、マスクハンド136を下降させ
て、マスクハンド136の表面を、スキャナー50のチ
ャック表面と同じ高さに位置決めする(P15)。位置
決めしたら、スキャナー50の吸引を開始した後(P1
6)、マスクハンド136の吸引を停止する(P1
7)。これで、マスクホルダー124がスキャナー50
にチャックされた状態となる。
【0029】その後マスクハンド136をやや下降させ
て、アーム142,144を縮めて、マスクハンド13
6をスキャナー50の切欠51から非接触に抜き出す
(P18)。これで、検査が開始される(P19)。検
査は従来装置と同様に、X,Yステージ48を動かして
マスク122上の所望の被検査箇所を対物レンズ22の
直下に位置決めし、スキャナー50でマスクホルダ12
4をX軸方向に高速でスキャンさせながらY軸ステージ
を除々に動かすことにより行なう。
【0030】検査を終了したら(P20)、搬入時と逆
の工程でマスクホルダー124をプリアライメント装置
126の板状部130まで戻す(P21)。板状部13
0に戻されたマスクホルダー124は、人手またはロボ
ットにより取出される。
【0031】以上の一連の検査工程によれば、人または
ロボットは、マスクホルダー128を光学モジュールの
筐体139の正面に面しているプリアライメント装置1
26に載置すればよいので筐体139内の奥に腕(アー
ム)を入れる必要がなく、しかもスキャナー139は筐
体139内の中央部に配置されているので、検査箇所に
ほこりが入り込むのを防止することができる。
【0032】以上の一連の検査工程における各装置の真
空吸引期間を図7に示す。これによれば、マスクホルダ
ー124がプリアライメントされた後は、必ず真空吸引
期間をオーバーラップさせて順次受け渡してスキャナー
50にチャックさせるので、マスクホルダー124をス
キャナー50上に正しい位置に正しくチャックすること
ができる。
【0033】なお、以上の検査工程は、ワークステーシ
ョン44(図3)の制御装置70からの指令により、光
学モジュール120の制御装置150を介して与えられ
る指令により実行される。
【0034】次に、図1の各部の構成について説明す
る。 (1) マスクホルダー124 マスクホルダー124の一実施例を図8,図9に示す。
マスクホルダー124は、アルミ材を加工して作られ
る。マスクホルダー124は略四辺形に形成された外周
薄肉部160を有している。外周薄肉部160の下面に
は補強用にリブ162が形成されている。また、外周薄
肉部160には重量調整用に貫通孔210が形成されて
いる。外周薄肉部160の上面には、ステンレス製のマ
スクストッパー164やペリクルの有無により重量を調
整するためのアルミ製の調整ウェイト166がねじ止め
されている。
【0035】マスクホルダー124の上面の外周薄肉部
160の内側の段上には吸着面168が形成され、この
面でマスクまたはレチクルの周縁部を吸着する。吸着面
168には吸引溝170,171,172が形成されて
いる。吸着面168の内側には凹部174が形成され、
マスクの中央部がマスクホルダー124に接触しないよ
うにされている。凹部174は十分深く形成され、ペリ
クル付のマスクでもペリクルがマスクホルダー124に
接触しないようにされている。
【0036】マスクホルダー124の下面の中央部17
6はスキャナー50によるチャック面を構成する。した
がって、この面176はきわめて高い平坦度に形成され
ている。チャック面176の四隅付近には、表面の吸引
溝170,171の吸引孔180,182に連通する吸
引路184,186の下側吸引孔188が形成されてい
る。この吸引孔188は、プリアライメント装置126
およびスキャナー50による吸引に利用される。また、
チャック面176の中央部には、表面の吸引溝172の
吸引孔190に連通する吸引路192の下側吸引孔19
4が形成されている。この吸引孔194はマスクハンド
ラー128による吸引に利用される。吸引孔188また
は194から吸引することにより、マスク122がマス
クホルダー124に吸着され、かつマスクホルダー12
4自身もプリアライメント装置126、マスクハンドラ
ー128、スキャナー50等に吸着される。
【0037】図8,9のマスクホルダー124にペリク
ル付マスク122を装着した状態を図10に示す。マス
ク122は、下面周縁部付近が吸着面168に載置支持
されている。また、側面がマスクストッパー164の凸
部200に点接触で支持されて、動かないように保持さ
れている。点接触であるため、パーティクルの発生や汚
染が防止される。ペリクル204は上下面に設けられて
いるが、凹部174が深いため、ペリクル204がマス
クホルダー124に接触することなくマスクホルダー1
24を保持できる。なお、ペリクル204がある分マス
ク122の重量が増しているので、調整ウェイト166
(図8)を外すことにより所定の重量に保っている。ペ
リクル無しのマスクの場合は調整ウエイト166を取り
付けて所定の重量に調整する。
【0038】なお、マスクによって厚さが異なるので、
チャック面176からマスク122の表面までの高さが
常に一定となるように、使用するマスク122の厚さに
応じて吸着面168の高さを個々に設計する。また、マ
スクホルダー124+マスク122の重量や重心位置が
異なるとスキャナー50で駆動したときの挙動が変化
し、検査に支障をきたす場合があるので、マスクホルダ
ー124とマスク122を合わせた重量および重心が常
に一定になるように、使用するマスク122の重量に応
じてマスクホルダー124の重量および重心位置を個々
に設計する。ただし、マスクホルダー124の外形寸法
(幅、長さ)は共通に取扱えるように統一されている。
【0039】ところで、マスクホルダー124の製作精
度はスキャナーにかけて検査するときの検査精度に影響
するのできわめて高い精度が要求される。とりわけ、重
量、スキャナー駆動軸に対するモーメント(すなわち重
心位置)、スキャナーに接するチャック面176の平坦
度、厚さ精度、外形寸法精度は厳しいものとなる。これ
らの要求は具体的には例えば以下に集約される。
【0040】(イ) 通常寸法においてJISの削り加
工寸法の普通許容差12級を必要とし、所々重要寸法に
おいてその1/4以下の許容差を要求する。 (ロ) 平坦度10μm程度を要求する。 (ハ) 重量において全体の2%以下の許容値を要求す
る。 (ニ) モーメント誤差において全体の2%以下を要求
する。
【0041】これらの要求を満たすため、マスクホルダ
ー124の製作には、複雑な形状の削り加工が要求され
る。そのための製作工程の一例を図11を参照して説明
する。
【0042】 材料切断部分の内部応力の影響を受け
ないように、最終外形寸法に対して十分な取りしろと厚
さを持ったアルミ材を切り出す。 外周輪郭、上下面貫通孔210等をワイヤーカット
で仕上げ、切断部分の残留応力を小さくする。 表面および裏面について、寸法を計測しながら、削
り工程を荒引き、中引き、精細、仕上げに分け表裏交互
に切削加工し、各部(外周薄肉部160、吸着面16
8、凹部174、チャック面176、リブ162等)を
仕上げていく。また、真空引き用の各吸引路184,1
86,192をドリルで底面および側面から加工する。
このときできた底面および側面の不要な開口部は後に盲
栓で塞ぐ。
【0043】 寸法精度が要求されず、スキャナー駆
動によるモーメントに与える影響の少ない部分として、
例えば外周薄肉部160の裏面を少しずつ削って重量調
整する。 アルマイト処理して完成する。
【0044】(2) プリアライメント装置126 プリアライメント装置126の一実施例を図12に示
す。プリアライメント装置126の板状部130は傾動
軸132に傾動可能に支持されている。板状部130の
下面にはエアシリンダ220のシリンダロッド222の
先端部が軸224に回動自在に連結されている。エアシ
リンダ220の下端部は軸226に回動自在に連結され
ている。これにより、エアシリンダ20を伸ばすと、板
状部130が2点鎖線130′で示すように傾動する。
【0045】板状部130の2辺には切立ったエッジ
33,134が形成され、傾動により板状部130上を
滑らせたマスクホルダー124をこのエッジ133,1
34で係止してプリアライメントを行なう。板状部13
0の上面には、吸引溝131が形成されている。吸引溝
131内には吸引孔230が形成され、この吸引孔23
0を通して吸引が行なわれる。マスクホルダー124が
プリアライメントされた状態では、板状部130の吸引
溝131はマスクホルダー124の下面の吸引孔188
(図8)と連通する。したがって、吸引孔230から吸
引すると、マスクホルダー124のチャック面176が
板状部130の表面に吸着されるとともに、マスクホル
ダー124の吸着面168にマスク122が吸着され
る。
【0046】(3) マスクハンドラー128 マスクハンドラー128の一実施例を図13に示す。マ
スクハンドラー128は基台46に対して昇降する昇降
部234と、昇降部234の上端部に水平方向に回動可
能に取り付けられたアーム142と、アーム142の先
端部に水平方向に回動可能に取り付けられたアーム14
4と、アーム144の先端に水平方向に回動可能に取り
付けられたマスクハンド136とで構成され、昇降、水
平方向の回転、水平方向の伸縮の3軸を構成している。
昇降は昇降部234で行なわれ、水平方向の回転および
伸縮はアーム142,144の回転で行なわれる。昇降
部234は、ステッピングモータ236の駆動力をベル
ト238を介してボールネジ238に伝達し、このボー
ルネジ238に装着され昇降部234に連結されたボー
ルネジホルダー239を上下駆動することにより昇降さ
れる。水平方向の回転は、アーム142を回転させるこ
とにより行なう。伸縮はアーム142,144、マスク
ハンド136を相互に同期して回転させることにより行
なう。伸縮では、マスクハンド136は角度を変えず
に、その長手方向に移動する。アーム142,144、
マスクハンド136の駆動もステッピングモータにより
行なわれ、マスクハンド136の先端位置を高精度に位
置決めすることができる。
【0047】マスクハンド136の先端部には凹部24
0が形成され、凹部240内に吸引孔242が形成され
ている。マスクハンド136にマスクホルダー124を
載置した状態では、凹部240はマスクホルダー124
の裏面の吸引孔194(図8)に連通し、吸引孔242
から吸引することにより、マスク122がマスクホルダ
ー124に吸着され、マスクホルダー124がマスクハ
ンド136に吸着される。
【0048】(4) スキャナー50 スキャナー50の一実施例を図14に示す。スキャナー
50はベースプレート260がX,Yステージ48(図
1)上に取り付けられる。ベースプレート260上には
板ばね262,264の一端部が水平に固定され、板ば
ね262,264の先端部にチャック部材266がX軸
方向に振動可能にベースプレート260から浮いた状態
に支持されている。
【0049】チャック部材266の上面はチャック面
69を構成し、高い平坦度に形成されている。チャック
269には吸引溝272が形成され吸引孔274から
吸引が行なわれる。マスクホルダー124を載置する
と、チャック面269がマスクホルダー124の下面の
チャック面176に密着し、吸引溝272がマスクホル
ダー124の下面の吸引孔188に連通する。これによ
り、吸引孔274から吸引するとマスク122がマスク
ホルダー124に吸着され、マスクホルダー124がチ
ャック部材266に吸着される。したがって、スキャニ
ング動作してもチャック部材266に対してマスクホル
ダー124がずれたり、マスク122がずれたりするこ
とがない。
【0050】チャック部材266の左側にはボイスコイ
ルモータ268が取り付けられ、これに駆動信号を供給
することにより、チャック部材266はX軸方向に振動
してスキャニングが行なわれる。このとき、チャック部
材266とマスクホルダー124およびマスク122を
合わせた全体の重量は常に一定であり、またこれら全体
の重心位置はスキャナー駆動軸270に一致するように
チャック部材266が設計されているので、モーメント
が小さく、チャック部材266の振動はX軸方向のみの
モードになり、上下方向の振動がなくなり(上下方向の
振動があるとフォーカスが合わなくなる)好条件で観測
を行なうことができる。チャック部材266の右側には
コイル式の速度センサが取り付けられており、スキャニ
ング速度のフィードバック制御に用いられる。
【0051】ベースプレート260の下面にはカウンタ
ーバランススキャナー280が取り付けられている。カ
ウンターバランススキャナー280はスキャナー50の
駆動と逆方向の振動をさせることにより、系全体の振動
を小さくするものである。
【0052】カウンターバランススキャナー280は、
カウンターバランス282を左右の板ばね284,28
6で振動可能に支持し、左側のボイスコイルモータ28
8でスキャナー280と逆方向に駆動する。この時右側
の速度センサー290で速度を検出し、速度フィードバ
ックに用いる。カウンターバランス282の重量は、チ
ャック部材266とマスクホルダー124およびマスク
122を合わせた重量と等しく設定する。
【0053】スキャナー50の駆動装置の一実施例を図
15に示す。波形メモリ86から読み出されるサイン波
形等の情報はD/A変換器88でアナログ信号に変換さ
れて、アンプ90を介してスキャナー50を駆動する。
このとき、速度フィードバックによりスキャン速度は規
定速度に保たれている。また、駆動信号はアンプ90′
を介してカウンターバランススキャナー280を逆方向
に振動させる。このときの速度も速度フィードバックに
より規定速度に保たれている。このようにして系全体の
振動を近く抑えてスキャングが行なわれる。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、各種寸法のマスクやレチクルごとにマスクホルダを
用意し、かつこれらマスクホルダの外形寸法を統一して
おくことにより、マスクの寸法等の違いによらず取扱い
を共通化することができる。そして、マスクまたはレチ
クルを保持したマスクホルダーをプリアライメント装置
に人手やロボット等によって大ざっぱに配置すれば、プ
リアライメント装置が所定のプリアライメント装置に位
置決めするので、マスクハンドラーはマスクやレチクル
の寸法等の違いにかかわらず常に一定の工程でマスクホ
ルダーをプリアライメント装置から取り出してスキャナ
ーにセットすることができる。また、ペリクル付きのマ
スクでも凹部によってペリクルがマスクホルダーに接触
しないようにでき、しかもペリクルの有無によって調整
ウエイトで重量を一定にでき、重心を常に一定すること
ができる。
【0055】したがって、人の手がスキャナーの近くに
入り込むことができなくなるので、検査範囲内にほこり
が入るのが防止される。
【0056】また、マスクホルダーの保持を真空吸着で
行ない、マスクホルダーを受け渡す際に真空吸引をオー
バーラップさせて行なうことにより搬送時のマスクホル
ダーのずれを確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す図である。
【図2】共焦点走査方式レーザ顕微鏡の原理図である。
【図3】従来の共焦点走査方式レーザ顕微鏡の装置構成
図である。
【図4】図3の共焦点走査方式レーザ顕微鏡40のシス
テム構成を示すブロック図である。
【図5】この発明の概要を示すブロック図である。
【図6】図1の装置による一連の検査工程を示すフロー
チャートである。
【図7】図6の検査工程における各装置の真空吸引期間
を示すタイムチャートである。
【図8】マスクホルダーの一実施例を示す図である。
【図9】図8のマスクホルダーの矢視図、断面図であ
る。
【図10】図8のマスクホルダーにマスクを装着した状
態を示す図である。
【図11】図8のマスクホルダーの製造工程を示す図で
ある。
【図12】プリアライメント装置の一実施例を示す図で
ある。
【図13】マスクハンドラーの一実施例を示す図であ
る。
【図14】スキャナーの一実施例を示す図である。
【図15】図14のスキャナーの駆動装置のブロック図
である。
【符号の説明】
50 スキャナー 120 マスクまたはレチクル用共焦点方式レーザ顕微
鏡 122 マスクまたはレチクル 124 マスクホルダー 126 プリアライメント装置 128 マスクハンドラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 H01S 3/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マスクまたはレチクルを保持するマスクホ
    ルダーと、 このマスクホルダーを保持して所定のプリアライメント
    位置に位置決めするプリアライメント装置と、 前記マスクホルダーを前記プリアライメント装置から取
    り出してスキャナーにセットするマスクハンドラーと、
    を具備し 前記マスクホルダーは、重量を調整する調整ウエイトを
    備え、外周上面に点接触で位置決めするマスクストッパ
    を備えるとともに、位置決めされた前記マスクまたはレ
    チクルを吸着する吸着面が形成され、この吸着面の内側
    にマスクの中央部が接触しない深さの凹部を備えるとと
    もに、下面中央部が前記スキャナへのチャック面とさ
    れ、前記マスクまたはレチクルを取り付けた状態で重量
    および重心が常に一定になるよう構成されていることを
    特徴とするマスクまたはレチクル用共焦点走査方式レー
    ザ顕微鏡。
  2. 【請求項2】前記プリアライメント装置、マスクハンド
    ラー、スキャナーが前記マスクホルダーを真空吸引によ
    保持し、かつ当該マスクホルダーを当該プリアライメ
    ント装置から当該マスクハンドラーを介して当該スキャ
    ナーに受け渡す際に、真空吸引期間を相互にオーバーラ
    ップさせて受け渡すことを特徴とする請求項1に記載の
    マスクまたはレチクル用共焦点走査方式レーザ顕微鏡。
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