JPS62262478A - ガスレ−ザ - Google Patents
ガスレ−ザInfo
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- JPS62262478A JPS62262478A JP62104188A JP10418887A JPS62262478A JP S62262478 A JPS62262478 A JP S62262478A JP 62104188 A JP62104188 A JP 62104188A JP 10418887 A JP10418887 A JP 10418887A JP S62262478 A JPS62262478 A JP S62262478A
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- Japan
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- gas
- cooling plate
- ceramic rod
- ceramic
- gas laser
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/032—Constructional details of gas laser discharge tubes for confinement of the discharge, e.g. by special features of the discharge constricting tube
- H01S3/0323—Constructional details of gas laser discharge tubes for confinement of the discharge, e.g. by special features of the discharge constricting tube by special features of the discharge constricting tube, e.g. capillary
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明はガスレーザに関する。
［従来の技術］
セラミック棒の中に設けられる一つの放電路と少なくと
も一つのガス帰還路、セラミック棒に取り付けられた冷
却板、及びセラミック棒により支持されレーザ光線の光
学的な共振のための鏡を備えたガスレーザは、アメリカ
合衆国特許第３７５３１４４号明細書により知られてい
る。この明細書はかかるレーザの構造形式の二つの異な
る実施例を原理的に示す、この明細書は一方では、薄い
放電管と別個のガス帰還管とを示す、この実施例は鏡の
支持には適していない、なぜならばレーザ管とガス帰還
管との間の膨張差が鏡の調節不良をもたらすからである
。この明細書は他方では、比較的幅の広いセラミック管
の中にレーザ細管とガス帰還路とが収容されている実施
例を示す、この実施例はレーザ細管から外壁への熱伝導
が原理的に悪い、従って熱を外部に向かって放出するた
めに高価な方策が採られている。
も一つのガス帰還路、セラミック棒に取り付けられた冷
却板、及びセラミック棒により支持されレーザ光線の光
学的な共振のための鏡を備えたガスレーザは、アメリカ
合衆国特許第３７５３１４４号明細書により知られてい
る。この明細書はかかるレーザの構造形式の二つの異な
る実施例を原理的に示す、この明細書は一方では、薄い
放電管と別個のガス帰還管とを示す、この実施例は鏡の
支持には適していない、なぜならばレーザ管とガス帰還
管との間の膨張差が鏡の調節不良をもたらすからである
。この明細書は他方では、比較的幅の広いセラミック管
の中にレーザ細管とガス帰還路とが収容されている実施
例を示す、この実施例はレーザ細管から外壁への熱伝導
が原理的に悪い、従って熱を外部に向かって放出するた
めに高価な方策が採られている。
［発明が解決しようとする問題点］
この発明は前記の種類のガスレーザにおいて、温度変化
に対して十分な機械的強度と安定性とを有しながら、比
較的少ない費用で外部への熱伝導を改良することを目的
とする。
に対して十分な機械的強度と安定性とを有しながら、比
較的少ない費用で外部への熱伝導を改良することを目的
とする。
［問題点を解決するための手段］
この目的はこの発明に基づき、セラミック棒が少なくと
もほぼ方形の断面を有し、かつ少なくとも一つの別個の
ガス帰還路を備え、放電路に対する間隔が小さい方の境
界面に冷却板が取り付けられていることにより達成され
る。
もほぼ方形の断面を有し、かつ少なくとも一つの別個の
ガス帰還路を備え、放電路に対する間隔が小さい方の境
界面に冷却板が取り付けられていることにより達成され
る。
［作用効果］
この発明によるセラミック棒の方形の断面は十分な機械
的安定性を有し、管路の配置に関連して非常に有利な熱
的安定性を有する。放電路の範囲の壁厚は著しく小さく
保つことができる。なぜならば冷却板により熱が速やか
に放出され、熱応力が全く発生するおそれがないからで
ある。それによりガス帰還路をセラミック棒の中に組み
込むことが可能である。
的安定性を有し、管路の配置に関連して非常に有利な熱
的安定性を有する。放電路の範囲の壁厚は著しく小さく
保つことができる。なぜならば冷却板により熱が速やか
に放出され、熱応力が全く発生するおそれがないからで
ある。それによりガス帰還路をセラミック棒の中に組み
込むことが可能である。
［実施態様］
セラミック棒の対称軸線上に放電路があるようにすると
、また両ガス帰還路が円形の断面と同一の直径とを有し
、それと同時に両ガス帰還路の放電路からの間隔が同じ
大きさであるようにすると、熱応力は特に僅かしか生じ
なくなる。
、また両ガス帰還路が円形の断面と同一の直径とを有し
、それと同時に両ガス帰還路の放電路からの間隔が同じ
大きさであるようにすると、熱応力は特に僅かしか生じ
なくなる。
冷却板はセラミック棒の幅の広い方の境界面だけに取り
付けられるのが有利である。なぜならば熱の大部分がそ
こに出て来るからである。それによって比較的容易に製
造可能な実施態様と、セラミック棒の中の特に有利な温
度分布とが生じる。
付けられるのが有利である。なぜならば熱の大部分がそ
こに出て来るからである。それによって比較的容易に製
造可能な実施態様と、セラミック棒の中の特に有利な温
度分布とが生じる。
その際冷却フィンがセラミック棒と同じ幅を有する実施
態様が特に有利である。この実施態様はハンドリングの
際の機械的な負荷に比べてセラミックの負荷が比較的小
さく、また温度変化の際に温度分布が非常に有利となる
。このことは冷却板によりなお一層促進される。
態様が特に有利である。この実施態様はハンドリングの
際の機械的な負荷に比べてセラミックの負荷が比較的小
さく、また温度変化の際に温度分布が非常に有利となる
。このことは冷却板によりなお一層促進される。
２ｎ個のガス帰還路が設けられ、放電路の両側に対称的
な間隔を置いて一様に分散されていると、温度変化の際
の応力の特に一様な分布、従って鏡位置の特に高い寸法
精度を有する有利な実施態様が与えられる。その１ａｉ
ｎは正の整数である。
な間隔を置いて一様に分散されていると、温度変化の際
の応力の特に一様な分布、従って鏡位置の特に高い寸法
精度を有する有利な実施態様が与えられる。その１ａｉ
ｎは正の整数である。
ｎ＝１又はｎ＝２に設定するのが有利である。
［実施例］
次にこの発明に基づくガスレーザの一実施例を示す図面
により、この発明の詳細な説明する。
により、この発明の詳細な説明する。
ガスレーザの放電管１はその両端面にレーザ光の光学的
な共振を発生させる鏡５を支持し、また電極部分３．４
に結合されている。放電管１の中央部分は方形の断面を
有するセラミック棒２である。方形の棒２の外側の境界
面６上には冷却板７が取り付けられている。冷却板７は
セラミック棒２の大きい方の境界面６と同じ幅を有する
。
な共振を発生させる鏡５を支持し、また電極部分３．４
に結合されている。放電管１の中央部分は方形の断面を
有するセラミック棒２である。方形の棒２の外側の境界
面６上には冷却板７が取り付けられている。冷却板７は
セラミック棒２の大きい方の境界面６と同じ幅を有する
。
放電路８はセラミック棒２の対称軸線１０に同心に延び
ている。２個のガス帰還路９が同じ間隔を置いて対称軸
線１０に関して相互に向かい合って配置されている。
ている。２個のガス帰還路９が同じ間隔を置いて対称軸
線１０に関して相互に向かい合って配置されている。
セラミック棒２はＡｌ２Ｏ３のセラミックから成るのが
有利であり、冷却板７は銅から成るのが有利である。
有利であり、冷却板７は銅から成るのが有利である。
セラミック棒２は放電路８の範囲において非常に小さい
壁厚を有するので、放電路８の中で発生した熱は極めて
速やかに冷却板７に放出できる。
壁厚を有するので、放電路８の中で発生した熱は極めて
速やかに冷却板７に放出できる。
冷却板７は熱をとりわけその幅にわたって分散するので
、セラミック棒２はその幅にわたって一様に加熱され又
は冷却される。それにより高負荷に耐え熱応力によりこ
われＫ〈い比較的小形のレーザ管が得られる。
、セラミック棒２はその幅にわたって一様に加熱され又
は冷却される。それにより高負荷に耐え熱応力によりこ
われＫ〈い比較的小形のレーザ管が得られる。
第１図はこの発明に基づくガスレーザの一実施例の側面
図、第２図は第１図に示す切断線ｎ−ｔｔによる部分断
面図である。 ２・・・セラミック棒、 ５＠・・鏡、 ６１１・
・境界面、 ７・・・冷却板、 ８・・Φ放電路、
９・拳・ガス帰還路、 １０・・・対称軸線。 ＩＧ１ ■
図、第２図は第１図に示す切断線ｎ−ｔｔによる部分断
面図である。 ２・・・セラミック棒、 ５＠・・鏡、 ６１１・
・境界面、 ７・・・冷却板、 ８・・Φ放電路、
９・拳・ガス帰還路、 １０・・・対称軸線。 ＩＧ１ ■
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）セラミック棒（２）の中に設けられる一つの放電路
（８）と少なくとも一つのガス帰還路（９）、セラミッ
ク棒に取り付けられた冷却板（７）、及びセラミック棒
により支持 されレーザ光線の光学的な共振のための鏡 （５）を備えたガスレーザ（１）において、セラミック
棒（２）が少なくともほぼ方形の断面を有し、かつ少な
くとも一つの別個のガス帰還路（９）を備え、放電路（
８）に対する間隔が小さい方の境界面（６）に冷却板 （７）が取り付けられていることを特徴とするガスレー
ザ。 ２）放電路（８）がセラミック棒（２）の対称軸線上に
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のガス
レーザ。 ３）冷却板（７）がセラミック棒（２）の幅が広い境界
面（６）上だけに取り付けられていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項 又は第２項記載のガスレーザ。 ４）冷却板（７）がセラミック棒（２）と同じ幅を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載のガスレ
ーザ。 ５）２ｎ個のガス帰還路（９）が設けられ、これらのガ
ス帰還路が放電路（８）の両側に対称的な間隔を置いて
一様に分散され、その際ｎは正の整数であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか１
項に記載のガスレーザ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19863614878 DE3614878A1 (de) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | Gaslaser |
| DE3614878.4 | 1986-05-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62262478A true JPS62262478A (ja) | 1987-11-14 |
Family
ID=6300013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62104188A Pending JPS62262478A (ja) | 1986-05-02 | 1987-04-27 | ガスレ−ザ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4759027A (ja) |
| JP (1) | JPS62262478A (ja) |
| DE (1) | DE3614878A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4953172A (en) * | 1986-12-22 | 1990-08-28 | Thomas R. Gurski | Gas Laser |
| EP0317722A3 (de) * | 1987-09-28 | 1989-07-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Gaslaser-Anordnung mit einer Entladungsröhre |
| US5020070A (en) * | 1989-12-14 | 1991-05-28 | I. L. Med., Inc. | Gas laser |
| US6195379B1 (en) | 1999-12-27 | 2001-02-27 | Synrad, Inc. | Laser assembly system and method |
| US6198759B1 (en) | 1999-12-27 | 2001-03-06 | Synrad, Inc. | Laser system and method for beam enhancement |
| US6198758B1 (en) | 1999-12-27 | 2001-03-06 | Synrad, Inc. | Laser with heat transfer system and method |
| CN100361353C (zh) * | 2004-06-16 | 2008-01-09 | 四川大学 | 一种紧凑型氦氖激光器装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3753144A (en) * | 1971-10-18 | 1973-08-14 | W Kearns | Gas laser structure |
| US3763442A (en) * | 1972-07-07 | 1973-10-02 | American Laser Corp | Ion laser plasma tube cooling device and method |
| US4385390A (en) * | 1981-02-09 | 1983-05-24 | American Laser Corporation | Laser bypass inhibitor |
| US4477907A (en) * | 1982-05-03 | 1984-10-16 | American Laser Corporation | Low power argon-ion gas laser |
| JPS607785A (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-16 | Nec Corp | 希ガスイオンレ−ザ管 |
| JPS60138983A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ装置 |
| US4625317A (en) * | 1984-04-12 | 1986-11-25 | Cyonics, Ltd. | Internal mirror laser |
-
1986
- 1986-05-02 DE DE19863614878 patent/DE3614878A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-04-02 US US07/033,262 patent/US4759027A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-04-27 JP JP62104188A patent/JPS62262478A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4759027A (en) | 1988-07-19 |
| DE3614878A1 (de) | 1987-11-12 |
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