JPS607785A - 希ガスイオンレ−ザ管 - Google Patents

希ガスイオンレ−ザ管

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Publication number
JPS607785A
JPS607785A JP11550583A JP11550583A JPS607785A JP S607785 A JPS607785 A JP S607785A JP 11550583 A JP11550583 A JP 11550583A JP 11550583 A JP11550583 A JP 11550583A JP S607785 A JPS607785 A JP S607785A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser tube
small holes
rare gas
small hole
capillary
Prior art date
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Pending
Application number
JP11550583A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Kobayashi
功 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP11550583A priority Critical patent/JPS607785A/ja
Publication of JPS607785A publication Critical patent/JPS607785A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/041Arrangements for thermal management for gas lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/032Constructional details of gas laser discharge tubes for confinement of the discharge, e.g. by special features of the discharge constricting tube
    • H01S3/0323Constructional details of gas laser discharge tubes for confinement of the discharge, e.g. by special features of the discharge constricting tube by special features of the discharge constricting tube, e.g. capillary

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は希ガスイオンレーザ管、特に強制空冷でプラ
ズマ細管等の発熱を除去するアルゴンイオンレーザ管に
関する。
希ガスイオンレーザ管は、イオン準位でのレーザ遷移を
行なわせるためプラズマ細管に数アンペアから10アン
ペア以上におよぶ放電電流を通ずる。空冷形アルゴンイ
オンレーザではプラズマ細管はレーザ利得を得るのに0
.8〜1.2朋の内径を有するため電圧降下が大きく、
希ガスイオンレーザ管の放電電力の大部分はプラズマ細
管で消費されるO 従ってプラズマ細管は数百ワットから1に、W以上の発
生熱に耐える材料と構造を用いる必要がある。このため
空冷形アルゴンイオンレーザ管はべりリア磁器のような
高熱伝導度、高耐熱性の絶縁体の管を用い、これを真空
外囲器とすると共に、その外側に放熱フィンをロー付ま
たは機械的手段で取付け、放熱フィンを強制空冷する構
造にしである。また大放電電流によって、封入希ガスが
レーザ管の一方に偏在するのを防ぐため、アノード部分
とカソード部分を結ぶガスリターンパスが、プラズマ細
管とは別に設けられている。
しかしながら、このような熱特性と真空気密特性を持っ
た絶縁物細管は、現在材料がべIJ IJア磁器に限定
されてお#)、中心の孔の真直度と直径精度が良く、長
尺のものは製造困難であると同時に、べIJ IJア原
料は有害物質であって生産が限定され、且つ極めて高価
な物質である。また外部に設けられるガスリターンパス
は、希ガスイオンレーザ管の構造を複雑にして、熟練し
たガラス加工が必要となり、レーザ管の組込上も破損の
危険が大きかった0 本発明の目的は、大放電電流に耐え、冷却効率と寸法精
度が良く、入手製造が容易なプラズマ細管を有する希ガ
スイオンレーザ管を提供することにある。本発明のもう
一つの目的は、プラズマ細管部分にガスリターンパス構
造を持たせ、外部にガスリターンパスの無い、製造と取
扱が容易な希ガスイオンレーザ管を提供することにある
すなわち本発明は、中央部分に設けられた1つの小孔A
の周辺に設けられた1つまたは複数の別の小孔Bとを有
する板状の絶縁物と、小孔Aと同一以上の大きさの小孔
Cおよび小孔Cの周辺に設けられて、小孔Bと同一数で
同一配置の小孔りを有した、前記絶縁物の外径よりも大
きい外径を有する金属板とを、小孔AとCおよびBとD
とが一直線状になるように、且つ金属板相互の電気絶縁
と真空気密を保ちつつ交互に接続し、プラズマ細管とし
たことを特徴とする希ガスイオンレーザ管である。
以下図面を参照して本発明を説明する。
従来の空冷形希ガスイオンレーザ管は、第1図の断面図
に示すように% カソード1と、プラズマ細管を構成す
ると共に真空気密容器を兼ねる1本のベリリア管2と、
アノード3と、一対のブルーメタ窓4 、4’ と、リ
ターンパス5と、コバー金属などで構成される封入皿9
,9′によってベリリア細管2に接続された外囲器5,
5′とから成る。外囲器5,5′とベリIJア管2の内
部にはレーザ媒質としてアルゴンなどの希ガス7が封入
され、ベリリア管2の中心を通してレーザ光軸8が設定
される。プラズマ細管2とアノード3の外側には、放熱
フィン10がロー付またはネジ等で増刊けられ、図に示
されないファンによってプラズマ細管とアノードで発生
する熱を除去する。
プラズマ細管2は熱伝導の良いベリリア磁器で作られて
いるため発生熱は速やかに放熱フィン10全通して放散
される。ところがベリリア磁器は高価で有害性があるう
え、真直度が良く、小孔の内径精度の高い長い細管の入
手がdi[しい。プラズマ細管2をベリリア以外のセラ
ミックにしようとした場合は、どのセラミックでもベリ
リア磁器よりも熱伝導特性がはるかに劣るため、細管の
肉厚を薄くして放熱を良くしなければならず、実用的な
強度を持つレーザ管を構成することは不可能であった。
このため空冷形希ガスイオンレーザではべ1.1 リア
磁器以外のプラズマ細管材料は考えられなかった。また
第1図に示すようにプラズマ細管2の外部にガスリター
ンパス5を設けなければならず熟練を要するガラス加工
が必要なうえ、レーザ管として取扱9組込の際、破損の
危険が多かった。
第2図は本発明の実施例を示す希ガスイオンレーザ管の
プラズマ細管構造の光軸方向断面図、第3図は同じく径
方向断面図である。
アルミナ磁器などの熱伝導が比較的良く、入手容易で無
害な絶縁物から成り、中央部分にプラズマ発生小孔11
を有するディスク12は、小孔11と同一かまたはより
大きい内径13金持ち、ディスク12の外径よりも大き
い外径の金属板14−と交互にロー付等で、真空気密を
保って、小孔11が一直線になるよう積層接続されてプ
ラズマ細管を形成し、その中心にレーザ光軸8が設定さ
れる。
このときディスク12には、中央部分の小孔11以外に
、その周辺に1つまたは複数の小孔14a〜14dが設
けられ、金属板14には小孔148〜14dと同一箇所
に小孔15a〜15bが設けられる。小孔148〜14
dは、小孔11よりも小さい断面積を有し、アノード3
とカッ〜ド1との間の放電が小孔11’i通して行なわ
れるように十分小さいコンダクタンスにする。小孔14
a〜14d。
15a〜15dは、放電は生じないが、封入ガスは自由
に流れることができる。面積を大きくとった金属板14
は真空外囲外まで延びて金属板間で絶縁を保ちながら、
放熱フィンとなる。この構造によると、プラズマ細管小
孔11で発生した熱は、熱伝導の良い金属板14に直ち
に伝導され、金属板14がそのまま放熱フィンとなって
熱を放散する。このとき金属板14の内径13は、円板
状絶縁物12の内径11以上であるため、大放電電流に
よシ生ずるイオン衝撃を受けに<<、スパッタを起こし
にくい。すなわち第1図に示す従来構造のレーザ管のよ
うに放熱フィンを真空外で取付けることがなく、発生し
た熱がすぐ近くの熱伝導体を通して放散されるため放熱
効果が大きく、絶縁物12の温度上昇が小さいので、ア
ルミナ等の、ベリリアよりも熱伝導の劣る材料が使用可
能となる。もちろん空冷で使用すれば、複数の隣接した
金属板14はお互いに絶縁され、放電動作上も全く問題
は無い。また小孔14a〜14d、15a〜15dがガ
スリターンパスの役目を成し、プラズマ細管外部にガス
リターンパスを必要とせず、簡単で丈夫な構造となる。
この場合、アルミナ等で作られるディスク12は、2〜
3羽の厚さでよく、小孔11の精度を出すことは容易で
ある。また絶縁体ディスク12と金属板14とを精度よ
く一直線に並べて、同時にロー付することは、従来技術
の延長であり容易である0小孔14a 〜14d、15
a 〜15dはガスが通りぬけるだけでよく高い精度は
不要で直線性も特別強く必要としない。小孔142〜1
5dと15a〜15dの内径寸法は同一でなくてもよく
、微細加工が容易な金属板14の小孔152〜15dを
小さく、絶縁物15の小孔148〜14dを大きくとっ
てもよい。すなわち小孔148〜14d、15a〜15
dは放電が生じない範囲で任意の形状、穴数。
配置を選ぶことができる。
本発明は、ブルーメタ窓を有する外部ミラー形レーザだ
けではなく、内部ミラー形にも、もちろん支障なく適用
できる。また絶縁物12.金属板14の形状9寸法は限
定されない。金属板14の外形は円形でも角形でもよい
。また絶縁物12と金属板14の厚さも、本発明によっ
て限定されない0
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の空冷形希ガスイオンレーザ管を示す断面
図存第2図は本発明の実施例ケ示すプラズマ細管光軸方
向断面図、第3図は同じく径方向断面図である0 1・−・・・・カソード、2−・・・・・プラズマ細管
、3・・・・−・アノード、4.4’・・・・・−ブル
ーメタ窓、5・−・−・・ガスリターンパス、6.6’
・・・・・・真空外囲器、7・・・・・・希ガス、8・
・・・・−レーザ光軸 9 、 g /・・・・・・封
入皿、10・・・・・・放熱フィン、11・・・・・・
円板状絶縁物内径、12・・・・・・円板状絶縁物、1
3・・・・・・金属板内径、14・・・・・・金属板、
14a〜14d・・・・・・IJターンパス用絶縁物小
孔、15a〜15d・・・・・・1ノターンノくス用金
属板小孔。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 中央部分に設けられた1つの小孔Aと小孔Aの周辺に設
    けられた1つまたは複数の別の小孔Bとを有する板状の
    絶縁物と、小孔Aと同一以上の大きさの小孔Cおよび小
    孔Cの周辺に設けられて小孔Bと同一数で同一配置の小
    孔りを有した。前記絶縁物の外径よりも大きい外径を有
    する金属板とを、小孔AとCおよびBとDとが一直線状
    になるように、且つ金属板相互の電気絶縁と真空気密を
    保ちつつ交互に接続し、プラズマ細管としたことを特徴
    とする希ガスイオンレーザ管。
JP11550583A 1983-06-27 1983-06-27 希ガスイオンレ−ザ管 Pending JPS607785A (ja)

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JP11550583A JPS607785A (ja) 1983-06-27 1983-06-27 希ガスイオンレ−ザ管

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JP11550583A JPS607785A (ja) 1983-06-27 1983-06-27 希ガスイオンレ−ザ管

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ID=14664177

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JP11550583A Pending JPS607785A (ja) 1983-06-27 1983-06-27 希ガスイオンレ−ザ管

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63131588A (ja) * 1986-11-21 1988-06-03 Toshiba Corp ガスレ−ザ管装置
US4759027A (en) * 1986-05-02 1988-07-19 Siemens Aktiengesellschaft Gas laser

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS63131588A (ja) * 1986-11-21 1988-06-03 Toshiba Corp ガスレ−ザ管装置
JPH07105543B2 (ja) * 1986-11-21 1995-11-13 株式会社東芝 ガスレ−ザ管装置

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