JPS62248136A - 磁気記録媒体の裁断方法 - Google Patents
磁気記録媒体の裁断方法Info
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- JPS62248136A JPS62248136A JP61092550A JP9255086A JPS62248136A JP S62248136 A JPS62248136 A JP S62248136A JP 61092550 A JP61092550 A JP 61092550A JP 9255086 A JP9255086 A JP 9255086A JP S62248136 A JPS62248136 A JP S62248136A
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Links
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気テープ、フロッピーディスク等の磁気記録
媒体の改良に係り、磁気記録媒体をテープ状などに切断
する裁断方法に関する。
媒体の改良に係り、磁気記録媒体をテープ状などに切断
する裁断方法に関する。
映像とか音声あるいはディジタル信号などの情報を記録
再生するための媒体として広く用いられている磁気テー
プ、フロッピーディスク等は広幅のポリエチレンテレフ
タレート等の合成樹脂フィルム上に磁性mを塗布あるい
蝶蒸着し、これをスリッタ装置のカッタなどにて、所望
の暢のテープ、所望の径のディスクに裁断することによ
って形成される。
再生するための媒体として広く用いられている磁気テー
プ、フロッピーディスク等は広幅のポリエチレンテレフ
タレート等の合成樹脂フィルム上に磁性mを塗布あるい
蝶蒸着し、これをスリッタ装置のカッタなどにて、所望
の暢のテープ、所望の径のディスクに裁断することによ
って形成される。
このカッタなどを用いたせん断加工法では、第3図に示
したように、裁断面周辺に、加工応力によって磁性tt
iあるいはバックコート層の表面き裂とか、せん断面き
裂が多数残留しており、これが磁気記録媒体の使用中に
成長・破断して小断片を多数発生させる。これらの小断
片は磁気記録媒体表面に付着し命ドロップアウトを増加
させ、またベッドギャップに付着積lIwシて出力低下
の原因となる。
したように、裁断面周辺に、加工応力によって磁性tt
iあるいはバックコート層の表面き裂とか、せん断面き
裂が多数残留しており、これが磁気記録媒体の使用中に
成長・破断して小断片を多数発生させる。これらの小断
片は磁気記録媒体表面に付着し命ドロップアウトを増加
させ、またベッドギャップに付着積lIwシて出力低下
の原因となる。
上記問題点を解決するためにスリッタ装置に換えてレー
ザ光による加熱裁断が提案され検討されている。
ザ光による加熱裁断が提案され検討されている。
レーザ光による加熱裁断では、m2図(&)に示したよ
うに、レーザ発振管からのレーザ光16を、集光レンズ
15で被加工物面土に集束・照射することによる発熱を
利用して裁断が行なわれる。この時、被加工物のレーザ
照射面は、局部的に数百〜数千度の高温とな)、被加工
物を成す物質は液化・気化あるいはプラズマ化して除去
されろ。また集束光の光軸と同軸となるようにガスノズ
ル状の加工ヘッド14が設けられており、レーザ光の方
向にガス流を発生することによって、液化・気化あるい
はプラズマ化した被加工物材料を効率よく除去すると同
時に、熱化学反応を制御し、また酸化反応を防止する。
うに、レーザ発振管からのレーザ光16を、集光レンズ
15で被加工物面土に集束・照射することによる発熱を
利用して裁断が行なわれる。この時、被加工物のレーザ
照射面は、局部的に数百〜数千度の高温とな)、被加工
物を成す物質は液化・気化あるいはプラズマ化して除去
されろ。また集束光の光軸と同軸となるようにガスノズ
ル状の加工ヘッド14が設けられており、レーザ光の方
向にガス流を発生することによって、液化・気化あるい
はプラズマ化した被加工物材料を効率よく除去すると同
時に、熱化学反応を制御し、また酸化反応を防止する。
レーザ裁断加工を精度良くかつ効率良く行なうためには
、裁断に必要な熱エネルギーをできるだけ少なくする必
要があり、このためレーザ収束光をできるだけ絞り込む
必要がある。しかしながら、この収束光のスポット径は
レーザ光16の波長に依存した原理的な限界がある他、
磁気テープのように高速連続裁断を行なう場合、被加工
物表面に集束光の焦点を断続的に合わせることは技術的
に困難であシ、あるいはレーザ光源の光エネルギー分布
特性、モード特性、発振安定性などの問題から、実際に
は第2図(a)の点線で示し念ような収束外−光13が
無視できず、裁断点の外側にも加熱域11を生じ、その
結果被加工物の裁断断面には熱ダメージによる大きな鏝
りあがり19とかだれ20が生じてしまう。
、裁断に必要な熱エネルギーをできるだけ少なくする必
要があり、このためレーザ収束光をできるだけ絞り込む
必要がある。しかしながら、この収束光のスポット径は
レーザ光16の波長に依存した原理的な限界がある他、
磁気テープのように高速連続裁断を行なう場合、被加工
物表面に集束光の焦点を断続的に合わせることは技術的
に困難であシ、あるいはレーザ光源の光エネルギー分布
特性、モード特性、発振安定性などの問題から、実際に
は第2図(a)の点線で示し念ような収束外−光13が
無視できず、裁断点の外側にも加熱域11を生じ、その
結果被加工物の裁断断面には熱ダメージによる大きな鏝
りあがり19とかだれ20が生じてしまう。
そこで第2図(b)のように、被加工物のレーザ光しろ
照射側の面に裁断予定線上に沿って、はば裁断特に相当
する帯状の光反射率の低い部分22とこれを囲む光反射
率の高い部分21を形成し、光反射率の低い部分に沿っ
て集束光121!−走置させると、収束外周光13はほ
とんどが光反射率の高い部分で反射されてしまい、レー
ザ照射による加熱域11は、裁断しろ部分に限定される
ので、振力あが)19やだれ20の無い裁断が可能にな
る。
する帯状の光反射率の低い部分22とこれを囲む光反射
率の高い部分21を形成し、光反射率の低い部分に沿っ
て集束光121!−走置させると、収束外周光13はほ
とんどが光反射率の高い部分で反射されてしまい、レー
ザ照射による加熱域11は、裁断しろ部分に限定される
ので、振力あが)19やだれ20の無い裁断が可能にな
る。
本発明での光反射率の高い部分は磁性塗膜を形成した高
合子フィルムのJIrkJに、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンブレーティング等あるいは無電解メッキなど
によって、非磁性金属の鏡面薄膜をつくる。この金属薄
膜作成時に裁断予定線に沿って、裁断しろの一110μ
嘱程度となるようにマスキングを行なって金属薄膜が形
成されない部分を残す。
合子フィルムのJIrkJに、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンブレーティング等あるいは無電解メッキなど
によって、非磁性金属の鏡面薄膜をつくる。この金属薄
膜作成時に裁断予定線に沿って、裁断しろの一110μ
嘱程度となるようにマスキングを行なって金属薄膜が形
成されない部分を残す。
このようにして作られた磁気記録媒体に焦点スポット径
約125μ集に調整したレーザ光を金属薄膜の形成され
ていない部分に照射しながら、記録媒体を走行させて裁
断する。
約125μ集に調整したレーザ光を金属薄膜の形成され
ていない部分に照射しながら、記録媒体を走行させて裁
断する。
光反射率の高い部分は金属薄膜の他に誘電体多層膜など
の高反射処理によって形成することも可能であシ、また
未蒸着部分をもって光反射率の低い部分とする代わ)に
、光反射面上にさらに光吸収率の高い#あるいは高光反
射膜の形成前に光吸収率の高い鳩、例えば炭素膜を形成
し、その上に高反射膜を形成することも可能である。
の高反射処理によって形成することも可能であシ、また
未蒸着部分をもって光反射率の低い部分とする代わ)に
、光反射面上にさらに光吸収率の高い#あるいは高光反
射膜の形成前に光吸収率の高い鳩、例えば炭素膜を形成
し、その上に高反射膜を形成することも可能である。
さらに第6図(b)のように裁断予定線から十分離れた
収束外局光の影響を受けない領域では光反射面を省略す
ることも可能である。
収束外局光の影響を受けない領域では光反射面を省略す
ることも可能である。
照射されたレーザ光の収束外局光のほとんどは、金属薄
膜で反射され、レーザ光による加熱域は金属薄膜の無い
裁断しろ部分に限定されるので裁断面の熱変形を少くす
ることができる。
膜で反射され、レーザ光による加熱域は金属薄膜の無い
裁断しろ部分に限定されるので裁断面の熱変形を少くす
ることができる。
以下に実施例によって本発明を具体的に説明する。
実施例
第1図に実施例の一つを示す。
被加工物は15μ倶厚のポリエチレンテレフタレートフ
ィルム2上に磁性4941を5μ鍋厚になるよう形成し
念磁気フィルムのJs画に20001厚のアルミニウム
膜4を蒸着によって形成する。蒸着時に蒸着面の一部に
マスキングを行うことによって裁断予定線に沿った婦1
1θμ集の帯状の未蒸着スレーザを用い、集束ビームの
焦点スポット径はモードTEMooについて約125μ
惰に調整した。
ィルム2上に磁性4941を5μ鍋厚になるよう形成し
念磁気フィルムのJs画に20001厚のアルミニウム
膜4を蒸着によって形成する。蒸着時に蒸着面の一部に
マスキングを行うことによって裁断予定線に沿った婦1
1θμ集の帯状の未蒸着スレーザを用い、集束ビームの
焦点スポット径はモードTEMooについて約125μ
惰に調整した。
そして磁気フィルムを加工ヘッドに対し200m/mi
nの速度で血IN移動し、この裏面に形成された裁断予
定線上の未蒸着部分5に沿ってレーザ光6を照射して裁
断を行なった。
nの速度で血IN移動し、この裏面に形成された裁断予
定線上の未蒸着部分5に沿ってレーザ光6を照射して裁
断を行なった。
比較例
実施例の被加工向において、アルミニウムIA着を行な
はないこと以外はすべて同−両件でg41frを行なっ
た。
はないこと以外はすべて同−両件でg41frを行なっ
た。
することによって、盛#)あがりの断固形状とその高さ
くh)t−測定して打力った。その結果第5図に第5図
および表より明らかなように、本発明による光反射面と
yt、rJ!i収面とがあり、裁断を光吸収面に沿りて
集束されたレーザ光t−照射走査して行なうこと罠よっ
て熱ダメージの少ない高精度な裁断ができることが確か
められる。
くh)t−測定して打力った。その結果第5図に第5図
および表より明らかなように、本発明による光反射面と
yt、rJ!i収面とがあり、裁断を光吸収面に沿りて
集束されたレーザ光t−照射走査して行なうこと罠よっ
て熱ダメージの少ない高精度な裁断ができることが確か
められる。
磁気記録媒体の少なくとも一つの面に、光反射率の高い
部分と裁断予定線上に光反射率の低い部分を形成しこの
光反射率の低い部分に収束されたレーザ光を照射走査し
、加熱裁断することによって熱ダメージを与えず、高精
度な裁断全可能とした。
部分と裁断予定線上に光反射率の低い部分を形成しこの
光反射率の低い部分に収束されたレーザ光を照射走査し
、加熱裁断することによって熱ダメージを与えず、高精
度な裁断全可能とした。
第1図は本発明にかかる磁気フィルム裁断法の一例を示
す概略図、第2図は従来例と本発明の実施例の比較を示
す概略図である。 第3図は刃物を用いた裁断による磁気フィルムのせん断
断面の概略図である。 第4図は裁断断面形状測定法の概wt内第5図は表面形
状測定機による断面のプロフィールである。 第6図は本発明の応用例を示した図でめる。 l・・・a性/m 2・・・ベースフィルム 3
・・・光反射J−4・・・光反射面 5・・・光吸収
面 6・・・レーザ光 7・・・レーザスポット
8・・・加工ヘッド 出願人 日立マクセル株式会社 代表者 水 井 厚 第1図 4− 光反射面 δ−フロエヘッド第2図 [] 台 ぜ、〉′
2こン第3図 第4図 第5図 第6 亀
す概略図、第2図は従来例と本発明の実施例の比較を示
す概略図である。 第3図は刃物を用いた裁断による磁気フィルムのせん断
断面の概略図である。 第4図は裁断断面形状測定法の概wt内第5図は表面形
状測定機による断面のプロフィールである。 第6図は本発明の応用例を示した図でめる。 l・・・a性/m 2・・・ベースフィルム 3
・・・光反射J−4・・・光反射面 5・・・光吸収
面 6・・・レーザ光 7・・・レーザスポット
8・・・加工ヘッド 出願人 日立マクセル株式会社 代表者 水 井 厚 第1図 4− 光反射面 δ−フロエヘッド第2図 [] 台 ぜ、〉′
2こン第3図 第4図 第5図 第6 亀
Claims (1)
- (1)磁気記録媒体の少なくとも一つの面の少く共裁断
予定域に光反射率の高い部分と裁断予定線上に上記高い
光反射率の部分に比して光反射率の低い部分とを形成し
該光反射率の低い部分にレーザ光を照射して裁断するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の裁断方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092550A JPS62248136A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 磁気記録媒体の裁断方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092550A JPS62248136A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 磁気記録媒体の裁断方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62248136A true JPS62248136A (ja) | 1987-10-29 |
Family
ID=14057508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61092550A Pending JPS62248136A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 磁気記録媒体の裁断方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62248136A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5093173A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc comprising a substrate of an amorphous glass continuous phase dispersed with crystal particles which produce a structurally defined surface on the substrate |
-
1986
- 1986-04-21 JP JP61092550A patent/JPS62248136A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5093173A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc comprising a substrate of an amorphous glass continuous phase dispersed with crystal particles which produce a structurally defined surface on the substrate |
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