JPS62243726A - Cu−TiB↓2系複合焼結材 - Google Patents
Cu−TiB↓2系複合焼結材Info
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- JPS62243726A JPS62243726A JP8494386A JP8494386A JPS62243726A JP S62243726 A JPS62243726 A JP S62243726A JP 8494386 A JP8494386 A JP 8494386A JP 8494386 A JP8494386 A JP 8494386A JP S62243726 A JPS62243726 A JP S62243726A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はGu−TiBz系複合焼結材さらに詳しくは高
硬度かつ、電気伝導性に優れたCu−TiB2系複合焼
結材に関するものである。本発明により得られる焼結材
は、高硬度かつ電気伝導性の高い材料であるため接点材
料、電極材料、リードフレーム等の広い用途に使用でき
るものである。
硬度かつ、電気伝導性に優れたCu−TiB2系複合焼
結材に関するものである。本発明により得られる焼結材
は、高硬度かつ電気伝導性の高い材料であるため接点材
料、電極材料、リードフレーム等の広い用途に使用でき
るものである。
[従来の技術]
従来、高強度、高電気伝導に優れた材料としてCu−C
r、 Cu−Cr”Zr合金等の析出型強化合金やCu
−Al2O3合金等の分散強化型複合材がある。しかし
ながら析出合金では800〜800℃の高温保持後、高
温強度が低下するし硬度も充分ではない、又Cu−Al
zO3複合材では析出合金のような強度、硬度低下は示
さないが製法上において、次のような欠点がある。 C
u−Al2O3を機械的混合法で作る場合、 Cu粉末
の比重、粒度がA I203分散粉末粒子と異なるため
、均一混合が困難である。またCu−Al合金を内部酸
化法で作る場合は薄板でないと内部まで酸化が進行しな
いという欠点がある。
r、 Cu−Cr”Zr合金等の析出型強化合金やCu
−Al2O3合金等の分散強化型複合材がある。しかし
ながら析出合金では800〜800℃の高温保持後、高
温強度が低下するし硬度も充分ではない、又Cu−Al
zO3複合材では析出合金のような強度、硬度低下は示
さないが製法上において、次のような欠点がある。 C
u−Al2O3を機械的混合法で作る場合、 Cu粉末
の比重、粒度がA I203分散粉末粒子と異なるため
、均一混合が困難である。またCu−Al合金を内部酸
化法で作る場合は薄板でないと内部まで酸化が進行しな
いという欠点がある。
又、昭和60年粉体粉末冶金協会春季大会講演a要集で
述べられているCu−Ti−8合金の反応焼結において
は、液相焼結法のため、Cu量が少なく又Ti82粒子
の大きさが数μ層〜数十μ層と粗大化しているため、T
iB2が分散強化の粒子として作用していない。
述べられているCu−Ti−8合金の反応焼結において
は、液相焼結法のため、Cu量が少なく又Ti82粒子
の大きさが数μ層〜数十μ層と粗大化しているため、T
iB2が分散強化の粒子として作用していない。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明の目的は、従来技術が有していた前述の欠点を解
消しようとするものである。
消しようとするものである。
[問題を解決するための手段]
即ち、本発明は、1μm以下のTiB2が銅中に均一に
分散したCu−TiB2系複合焼結材を要旨とするもの
である。
分散したCu−TiB2系複合焼結材を要旨とするもの
である。
このように本発明中のTiB2は、微細粒子として分散
せしめるものであるため、原料配合においてTiB2と
して添加するのでは得がたく、焼結時にTiとBが反応
し、Cu中に微細に析出せしめることにより望ましくは
可能である。
せしめるものであるため、原料配合においてTiB2と
して添加するのでは得がたく、焼結時にTiとBが反応
し、Cu中に微細に析出せしめることにより望ましくは
可能である。
即ち、本発明のCu−TiB2系焼結材の好ましい製法
は、後述する各粉末の所定量を配合、混合し、この混合
粉末を黒鉛型に充填し、アルゴン、水素或は真空中のよ
うな中性或は還元性雰囲気においてホットプレス(この
場合は20kg/cm2以上できれば300〜400
kg/cm2温度900温度90註〜1050 例えば3.5t/cm2の加圧力で常圧圧縮成型したの
ち銅製の容器中に減圧射入し、 900〜1050℃で
熱間押し出しする.或は混合粉末を金型成型し,中性或
は還元性雰囲気で900〜1050℃の温度領域により
得られる.尚、使用に適した原料は具体的には、銅粉は
純度39.5%以上、平均粒径44μm以下、特には5
μ思以下の微粉末,チタン粉は純度99.5%以上、平
均粒径10μm以下の微粉末、ボロン粉は純度99.5
%以上,平均粒径10μm以下のアモルファスボロン粉
が好ましく、又は、 CuにTiが固溶した粉末で平均
粒径10μm以下の微粉末と純度99.5以上%,平均
粒径10μm以下のアモルファスポロン粉が好ましい.
このようにして得られた焼結体を圧延加工或はスウェー
ジング加工等の冷間加工をすることにより要求される硬
度が得られる。
は、後述する各粉末の所定量を配合、混合し、この混合
粉末を黒鉛型に充填し、アルゴン、水素或は真空中のよ
うな中性或は還元性雰囲気においてホットプレス(この
場合は20kg/cm2以上できれば300〜400
kg/cm2温度900温度90註〜1050 例えば3.5t/cm2の加圧力で常圧圧縮成型したの
ち銅製の容器中に減圧射入し、 900〜1050℃で
熱間押し出しする.或は混合粉末を金型成型し,中性或
は還元性雰囲気で900〜1050℃の温度領域により
得られる.尚、使用に適した原料は具体的には、銅粉は
純度39.5%以上、平均粒径44μm以下、特には5
μ思以下の微粉末,チタン粉は純度99.5%以上、平
均粒径10μm以下の微粉末、ボロン粉は純度99.5
%以上,平均粒径10μm以下のアモルファスボロン粉
が好ましく、又は、 CuにTiが固溶した粉末で平均
粒径10μm以下の微粉末と純度99.5以上%,平均
粒径10μm以下のアモルファスポロン粉が好ましい.
このようにして得られた焼結体を圧延加工或はスウェー
ジング加工等の冷間加工をすることにより要求される硬
度が得られる。
本発明の焼結材は、このようにして得られたCu中にT
iB2が微細均一に分散されたものであるが1分散粒子
のTiB2とCuとの割合は重量%でTiB2が0.5
〜18%, Cuが82〜99.5,望ましくは前者が
1〜12%,後者が88〜88%とすることである。本
発明において、前記割合とする理由は、Cuが少なすぎ
ると電気伝導度が低くなり、又、加工もしにくくなるた
めである.尚、これらにおいて本焼結合金の目的、効果
を損わない程度において微量の他の成分又は不可避的不
純物が含まれていても差支えないことは勿論である。
iB2が微細均一に分散されたものであるが1分散粒子
のTiB2とCuとの割合は重量%でTiB2が0.5
〜18%, Cuが82〜99.5,望ましくは前者が
1〜12%,後者が88〜88%とすることである。本
発明において、前記割合とする理由は、Cuが少なすぎ
ると電気伝導度が低くなり、又、加工もしにくくなるた
めである.尚、これらにおいて本焼結合金の目的、効果
を損わない程度において微量の他の成分又は不可避的不
純物が含まれていても差支えないことは勿論である。
また、本発明で分散しているTiB2粒子の大きさはそ
の大部分具体的には90%以上が1μ量以下であること
が特徴であって、特には平均粒径として0.5μ■以下
とすることである。
の大部分具体的には90%以上が1μ量以下であること
が特徴であって、特には平均粒径として0.5μ■以下
とすることである。
ここで、T iB2粒子が大きすぎると,高温保持後の
硬度が著しく低下するなどとなって好ましくないからで
ある。
硬度が著しく低下するなどとなって好ましくないからで
ある。
また、TiB2粒子の形状はほぼ球状であることが望ま
しいが,棒状1円板状となっていても充 ゛分目的は達
成される。
しいが,棒状1円板状となっていても充 ゛分目的は達
成される。
[実施例]
実施例1
Cu粉末(純度98.9%、平均粒径5μm) 97.
’4重量部、Ti粉末(純度93.3%、平均粒径1θ
μ腸)1、8fi,Q部,アモルファスポロン粉末(純
度88、3%、平均粒径lOμm) 0.8重量部をア
セトンを用い超硬ポールで2時間混合した.真空乾燥後
の粉末を金型成型,ラバープレス圧2 t/cm2をか
けた後、真空中において1000℃、1時間加熱した.
このようにして得られた焼結材を圧延加工し、加工率3
0%で室温ビッカース硬度150kg/層膳2, [0
℃に1時間保持した後の硬度120kg/m膳2、10
00℃に1時間保持後の硬度110kg/閣鵬2と高温
保持後の硬度低下が少なく、又比抵抗値も 1.99μ
ΩC鵬と低い値のものであった0分析した結果、平均粒
径0.1μ■のTiB2が球状として約2、6重量%の
割合で微細均一に分散した組織を示していた。
’4重量部、Ti粉末(純度93.3%、平均粒径1θ
μ腸)1、8fi,Q部,アモルファスポロン粉末(純
度88、3%、平均粒径lOμm) 0.8重量部をア
セトンを用い超硬ポールで2時間混合した.真空乾燥後
の粉末を金型成型,ラバープレス圧2 t/cm2をか
けた後、真空中において1000℃、1時間加熱した.
このようにして得られた焼結材を圧延加工し、加工率3
0%で室温ビッカース硬度150kg/層膳2, [0
℃に1時間保持した後の硬度120kg/m膳2、10
00℃に1時間保持後の硬度110kg/閣鵬2と高温
保持後の硬度低下が少なく、又比抵抗値も 1.99μ
ΩC鵬と低い値のものであった0分析した結果、平均粒
径0.1μ■のTiB2が球状として約2、6重量%の
割合で微細均一に分散した組織を示していた。
起施例2
Cu粉末(純度89.8%,平均粒径5 μs) 95
.8重量部、Ti粉末(純度88.9%,平均粒径!0
μ■)2、9 [1部,アモルファスボロン粉末(純度
98、8%、平均°粒径lOμs+) 1.3重量部を
アセトンを用い超硬ボールで2時間混合した.真空乾燥
後混合粉末を80mm径の黒鉛型に入れ、真空中におい
て300kg/cm2に加圧しながら1000℃に1時
間加熱した。このようにして直径60■■、高さ20■
の焼結合金を得た。このようにして得られた焼結材を圧
延加工したものは、加工率30%で室温ビッカース硬度
200kg/m膳2.800℃に1時間保持した後の硬
度180kg/mm2 、1000℃に1時間保持した
後の硬度140kg/層腸2と高温保持後の硬度低下が
少なく、又比抵抗値も2.40μΩcmと低い値のもの
であった0分析した結果、平均粒径0.1μ膳のTiB
2が球状として約4.2重量%の割合で微細均一に分散
した組織を示していた。
.8重量部、Ti粉末(純度88.9%,平均粒径!0
μ■)2、9 [1部,アモルファスボロン粉末(純度
98、8%、平均°粒径lOμs+) 1.3重量部を
アセトンを用い超硬ボールで2時間混合した.真空乾燥
後混合粉末を80mm径の黒鉛型に入れ、真空中におい
て300kg/cm2に加圧しながら1000℃に1時
間加熱した。このようにして直径60■■、高さ20■
の焼結合金を得た。このようにして得られた焼結材を圧
延加工したものは、加工率30%で室温ビッカース硬度
200kg/m膳2.800℃に1時間保持した後の硬
度180kg/mm2 、1000℃に1時間保持した
後の硬度140kg/層腸2と高温保持後の硬度低下が
少なく、又比抵抗値も2.40μΩcmと低い値のもの
であった0分析した結果、平均粒径0.1μ膳のTiB
2が球状として約4.2重量%の割合で微細均一に分散
した組織を示していた。
実施例3
(Cu−1,8wtTi)固溶粉(平均粒径10μs)
99.2重量部、アモルファスポロン粉末(純度99
.9%、平均粒径lOμ■)0.8重量部をアセトンを
用い超硬ポールで2時間混合した。真空乾燥後、混合粉
を3.5t/cm2の加圧力で常圧、圧縮成型したのち
、銅製の容器中に減圧封入し、1000℃で熱間押し出
しした。これをスウエージング加工し、加工率30%で
室温ビッカース硬度180 kg/+a2、SOOoC
に1時間保持シタ後の硬度140kg/a+s2.10
00℃に1時間保持した後の硬度120kg/ms2
と高温保持後の硬度低下が少なく、又比抵抗値も2.0
0μΩC+Sと低い値のものであった0分析した結果、
T i82粒子約2.6%で平均粒径が0.1μm以下
の球形であり、TiB2粉末を使用したものより、より
均一に分散しているものであった。
99.2重量部、アモルファスポロン粉末(純度99
.9%、平均粒径lOμ■)0.8重量部をアセトンを
用い超硬ポールで2時間混合した。真空乾燥後、混合粉
を3.5t/cm2の加圧力で常圧、圧縮成型したのち
、銅製の容器中に減圧封入し、1000℃で熱間押し出
しした。これをスウエージング加工し、加工率30%で
室温ビッカース硬度180 kg/+a2、SOOoC
に1時間保持シタ後の硬度140kg/a+s2.10
00℃に1時間保持した後の硬度120kg/ms2
と高温保持後の硬度低下が少なく、又比抵抗値も2.0
0μΩC+Sと低い値のものであった0分析した結果、
T i82粒子約2.6%で平均粒径が0.1μm以下
の球形であり、TiB2粉末を使用したものより、より
均一に分散しているものであった。
実施例4乃至6
実施例1,2.3と同様に、特定の焼結条件で焼結して
得た各焼結体の特性を示すと次の通りである。(尚、焼
結体の重量の割合は試料配合組成の割合と殆ど差異は認
められなかったととともに、実施例1〜6のものの相対
密度はいずれも98.9%以上のものばかりであった。
得た各焼結体の特性を示すと次の通りである。(尚、焼
結体の重量の割合は試料配合組成の割合と殆ど差異は認
められなかったととともに、実施例1〜6のものの相対
密度はいずれも98.9%以上のものばかりであった。
)[発明の効果]
このように本発明のCu−TiBz系複合焼結材は高硬
度でかつ高温保持後の硬度低下も低く、加えて高電気電
導性を兼ね備えた材料であるため、接点材料、電極材料
、リードフレーム等の広い用途に使用できるものであり
、その実用的価値は多大である。
度でかつ高温保持後の硬度低下も低く、加えて高電気電
導性を兼ね備えた材料であるため、接点材料、電極材料
、リードフレーム等の広い用途に使用できるものであり
、その実用的価値は多大である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、1μm以下のTiB_2粒子が均一に銅中に分散さ
れているCu−TiB_2系複合焼結材。 2、TiB_2の量が0.5〜18重量%である特許請
求の範囲第1項記載の複合焼結材。 3、TiB_2の量が1〜12重量%である特許請求の
範囲第2項記載の複合焼結材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8494386A JPS62243726A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | Cu−TiB↓2系複合焼結材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8494386A JPS62243726A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | Cu−TiB↓2系複合焼結材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62243726A true JPS62243726A (ja) | 1987-10-24 |
Family
ID=13844733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8494386A Pending JPS62243726A (ja) | 1986-04-15 | 1986-04-15 | Cu−TiB↓2系複合焼結材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62243726A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02122038A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 厚膜銅導体組成物 |
CN1088476C (zh) * | 1999-05-12 | 2002-07-31 | 昆明理工大学 | 反应法制备铜-二硼化钛导电材料的方法 |
GB2419604A (en) * | 2002-07-18 | 2006-05-03 | Honda Motor Co Ltd | Composite comprising titanium boride in a copper matrix |
CN107043899A (zh) * | 2017-02-07 | 2017-08-15 | 西安理工大学 | 一种TiB/TiB2混杂增强Cu基复合材料及其制备方法 |
EP3656500A1 (de) * | 2018-11-21 | 2020-05-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Laserschweissen und laser-additive verarbeitung von reinkupfer |
CN111217366A (zh) * | 2020-02-24 | 2020-06-02 | 北京科技大学 | 一种鳞片石墨原位反应包覆碳化硼的方法 |
-
1986
- 1986-04-15 JP JP8494386A patent/JPS62243726A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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