JPS62242911A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents

光ビ−ム走査装置

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JPS62242911A
JPS62242911A JP61087462A JP8746286A JPS62242911A JP S62242911 A JPS62242911 A JP S62242911A JP 61087462 A JP61087462 A JP 61087462A JP 8746286 A JP8746286 A JP 8746286A JP S62242911 A JPS62242911 A JP S62242911A
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JP
Japan
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lens
scanning
light beam
polygon mirror
beam scanning
Prior art date
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Pending
Application number
JP61087462A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Kamiyama
勉 上山
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えばレーザプリンタ、レーザファクシミリ、
平面スキャナなどに用いられる光ビーム走査装置に関し
、特にポリゴンミラーの各反射面の傾き、いわゆるピラ
ミッド誤差による走査ムラを補正するビーム走査ムラ補
正手段の改良に関する。
〔従来技術〕
回転ポリゴンミラーと光学系とを組み合わせてビーム走
査光学系を構成し、原画面上や記録面上にレーザスポッ
ト等を高速で繰り返し直線移動させることにより主走査
を行ない、副走査方向には原画や記録材等を低速で移動
させ、両走査で原画や記録面を2次元走査する技術が知
られている。
この場合、回転ポリゴンミラーの各反射面と回転軸との
なす角度が、製作精度等の影響で各反射面ごとに互いに
僅かに異なる誤差を伴っている。すると各反射面ごとに
光ビームの反射する方向が僅かに異なるためポリゴンミ
ラーの回転による走査方向と交差する方向に走査ムラを
生じることになる。前記走査ムラを解消するものとして
はいろいろな方法が知られているが、例えば、特開昭5
8−221822号公報には、第10図に示すような光
ビーム走査装置が開示されている。
この装置においては、回転ポリゴンミラー103の反射
面Mに対して入射ビームB2がビーム走査ムラ補正用ミ
ラー102を介して照射されており、反射面Mからの反
射ビームB3はfθレンズ104によって記録面106
上にビームスポットPを形成する。記録面106の有効
走査領域外であって、所定の走査軌道上には走査ビーム
の第10図紙面に垂直方向(以下単に副走査方向と称す
る)のズレ量を検出する光電検出器105が配設され、
検出したズレ量に基づいてビーム走査ムラ補正用ミラー
102を偏向駆動させ、当該副走査方向の走査ムラを補
正するように構成したものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
一般にこのような光ビーム走査光学系にあっては、極め
て高い精度が要請され、このため、当該光学系を構成す
る光学要素も、可能な限り部品点数を少なくすることが
望ましい。本発明はこのような視点に立脚するもので、
上記従来例における入射ビームB2と回転ポリゴンミラ
ー103との間に介在させたビーム走査ムラ補正用ミラ
ー102は必ずしも必要ではなく、むしろこのミラー1
02が介在することにより、組付調整の手間やコスト面
での不都合だけでな(、ミラーに塵埃が付着することも
無視できないマイナス要因となる。
またビーム走査ムラ補正手段を持たない既存のビーム走
査装置(ユーザ使用中のもの、ロフト生産中の設計変更
を含む)に副走査方向に高い精度が要求されるような変
更が発生した場合、上記従来例のビーム走査ムラ補正用
ミラーを付設しようとすれば、光ビームの反射を伴う大
幅な光路の変更を強いることとなり、実際上ビーム走査
ムラ補正用ミラーを後付けすることができない場合が多
い。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、上記
従来例の光ビーム走査装置を例えば第1図〜第9図に示
すように改良し、ビーム走査ムラ補正用ミラーを省くよ
うにしたものである。
即ち、ビーム走査光学系の光路内に回転ポリゴンミラー
3の各反射面の傾きによる走査ムラを補正するビーム走
査ムラ補正手段7を設け、ビーム走査ムラ補正手段7は
、ビーム走査光学系のいずれかのレンズと、そのレンズ
を変位させる駆動手段8とから成り、当該レンズをその
先軸Xに対して垂直なレンズ主平面内で微小変位させる
ように構成したことを特徴とするものである。
〔作用〕
駆動手段8は回転ポリゴンミラー3の各反射面Mの傾き
に対応して制御され、反射面の歪み量に応じてレンズを
その先軸Xに対して垂直な主平面内で変位させる。この
変位によってこのレンズを透過した光ビームはポリゴン
ミラー3の各反射面Mのピラミッド誤差を打ち消す方向
へ微小変更され、走査面上での走査ムラは解消される。
これにより、前記ビーム走査ムラ補正用ミラーは不要と
なる。
〔実施例〕
以下本発明による光ビーム走査装置の実施例を第1図〜
第9図に基づいて説明する。
第1図は本発明の1実施例を示し、その主要構成の配置
を模式的に示す平面図、第2図はビーム走査ムラ補正手
段の組付構造を示す正面図である。
これらの図において符号1は光ビーム発生源、2は光ビ
ーム発生源1からの光ビームB1の径を拡大するビーム
拡大レンズ、3は回転ポリゴンミラー、4はfθレンズ
、5は光検出器、7はビーム走査ムラ補正手段、13は
ビーム走査ムラ補正手段7を駆動制御する制御回路であ
る。
ビーム走査ムラ補正手段7は、ビーム拡大レンズ2を構
成する対物レンズL2と、そのレンズL2を微小偏位さ
せる電歪素子(駆動手段8)とを具備して成り、対物レ
ンズL2がその光軸に対して垂直な主平面S2内で変位
可能に構成されている。
第1図においてレンズL2は実際は図の紙面に対して垂
直に動かすのであるが図示の都合上、上下に動くように
示している。即ち、レンズL2はレンズホルダ9で強固
に保持し、レンズホルダ9は基台10にバネ11を介し
て弾性支持するとともに、レンズホルダ9の上面中央部
を電歪素子8で支持する。
電歪素子8は、圧電作用を有する多数の圧電体をその伸
長方向に積層結合して成るピエゾスタックで構成され、
例えば、日本電気株式会社製のものでその長さ18鶴の
ものでは150vの印加電圧で約16.5μm伸長し、
このとき85kgwの駆動力を出力することができる。
なおこの駆動力はレンズホルダ9の支持バネ11による
拘束力と一部相殺される。またこの駆動力によるレンズ
L2の変位量はミクロンオーダであるから、電歪素子8
の稼働時における環境温度変化による熱変形を相殺する
ために、電歪素子8と基台10との間に熱変形吸収部材
12を介在させる。この変形吸収部材12としては、例
えば正の線膨張計数を有する5US304が用いられ、
電歪素子8が有する負の線膨張をキャンセルすることが
できる。
こうすることにより、本装置を初めて使用する場合テも
ビームスポットPが光検出器5から外れ照射されないと
いうことを避は得るという効果を生ずる。
制御回路13は光検出器5からの信号に基づいてビーム
スポットの走査軌道からのズレ量を保持する保持回路1
4と、このズレ量に応じてレンズL2の変位すべき量を
演算し、制御信号を出力する中央制御回路15と、この
回路15によって制御され、電歪素子8を駆動する駆動
回路16とを具備して成り、後述する演算式に基づいて
、レンズを変位駆動するように構成されている。
上記構成により、レンズを変位させて光ビームを微小に
偏向させ、走査ムラを補正する方法について説明する。
第3図は第1図のビーム拡大レンズ2(Ll、L2)と
ポリゴンミラー3の反射面Mとの関係を模式的に示す側
面図である。この図において接眼レンズL、と対物レン
ズL2は、それぞれの焦点距離f1、f2の和をもって
離間され、光ビーム発生源1からの光ビームB1の径を
拡大する。
拡大された光ビームB2はポリゴンミラー3の反射面M
で反射され、前記のfθレンズ4を介して記録面6上に
ビームスポットPを形成する。このときポリゴンミラー
3の回転軸Zに対して反射面MがΔθ傾斜しているため
、ビームスポットPは所定の走査軌道から2Δθの方向
へずれることとなる。
第4図は第3図において、対物レンズL2をレンズ主平
面S2内で電−歪素子8によ下方へdだけ変位させ上記
方向へのずれ2八〇を補正した状態を示す側面図である
。このときのレンズL2の変位量dは d工f2・tan(2Δθ)・・・・・・■で表わされ
る。
これにより、反射面Mで反射された光ビームB3は光軸
Xに対して平行ビームとなり、レンズに平行に入射する
光は同一点に収束するから「θレンズ4を介して記録面
において所定の走査軌道上にビームスポットを形成する
第1図において、電歪素子8で接眼レンズL1を変位さ
せるようにしてもよい。第5図はこのときの光ビームの
微小偏向状態を示す側面図である。
即ちレンズL1を主平面Si内で上方へdだけ変位させ
、前記方向へのずれ2Δθを補正するようにしたもので
ある。このときのレンズL1の変位量dも前記0式と同
様に表わされる。なお、接眼レンズL1を変位させるよ
うにした場合には、対物レンズし2を透過した光ビーム
B2の中心線xOを反射面M上で光学系の光軸Xと合致
させることができる。そして、光ビームB3は本来の光
軸X上を各反射面Mにかかわらず、進んでゆくことにな
る。このときの対物レンズL2と反射面Mとの距離mは
接眼レンズL1と対物レンズL2により定まり、 m= f2  (f2/ fl + 1)−=■で表わ
される。
この実施例の場合には、反射面Mで反射した光ビームB
3の中心線は図示するように光軸Xと同一面を通り振れ
が生じないので、ポリゴンミラー3の回転軸方向の幅は
最小限でよく、さらにビームはfθレンズの同一軌道を
通るのでfθレンズの歪に対しても、ビームは同一の主
走査軌跡を描くので、走査ムラがより改善される。また
、接眼レンズL1は対物レンズL2より小質量でもある
ことから、それだけ駆動制御がし易いという利点がある
第6図及び第7図は本発明の別の実施態様を示す図であ
る。この図では、光ビームは反射面Mで反射するのであ
るが図示の都合上、展開して示している。光ビーム発生
源1より、例えば一定の拡がりをもった光ビームB1が
コリメータレンズLに入射し、所要の径にコリメートさ
れた光ビームB2は、ポリゴンミラー3の反射面Mで反
射され、fθレンズ4を介して記録面6上にビームスポ
ットPを形成する。このとき、ポリゴンミラー3の回転
軸Zに対して反射面がΔθ傾斜しているとすれば、点線
で示すようにスポラ)Pが上方にずれてしまう。そこで
第7図に示すようにコリメータレンズLをその主平面内
でdだけ下方へ変位させて補正すると所期の位置にスポ
ラ)Pを形成することができる。このときの変位量は前
記0式と同様に表わされる。
ちなみに反射面Mの傾きΔθ=7”、変位させるレンズ
の焦点距離f=150mのとき、変位量はd=10.2
μmである。
なお、変位させるレンズは上記実施例に躍る必要はなく
、光ビーム走査光学系を構成するいずれかのレンズを変
位させることができる。必要なら、fθレンズをその主
平面内で変位させてもよい。
又、電歪素子に代えて電磁コイル等の駆動手段を用いて
もよい。
第1図では結像レンズとして、fθレンズ4をポリゴン
ミラー3の後方に配置した後置型結像レンズを用いた例
を示したが第8図、第9図では前置型結像レンズを用い
た例を示す。第1図と同様の働きをするものは同一符号
で示しである。
第8図においては上記のように前置型結像レンズを用い
たことから、走査面6は曲線となっている。
第9図では、走査面6を平面とするため、光路長補償用
ミラー系18を用いて光点Pの軌跡6aを直線とした例
を示している。
この発明は第8図、第9図のような従来例の光路を有す
るものにおいても、最小限の変更をするだけで、ポリゴ
ンミラーの各反射面の傾きによる走査ムラを補正するこ
とができる。
この発明はレンズを主平面内で微小変位することにより
ビームを微小に偏向するのであるから例えば本出願人に
よる特開昭56−102821号公報に開示したような
、反射鏡面の誤差を連続的に検出して、逐次、走査光ビ
ームの落射位置を補正することによって走査の全ストロ
ークにわたって精度を確保する場合にも通用できる。
〔発明の効果〕
本発明は光ビーム走査光学系を構成するいずれかのレン
ズを、その主平面内で副走査方向に微小変位させ、ポリ
ゴンミラーの各反射面のピラミッド誤差による走査ムラ
を補正するようにしたから、従来例のようなビーム走査
ムラ補正用ミラーを省くことができ、これに伴って、組
付調整の手間やコストを省くとともに、ミラーに塵埃が
付着することによる影響もなくすことができる。
殊に、ビーム走査ムラ補正手段を持たない既存の光ビー
ム走査装置に、副走査方向に高精度が要求され、本発明
に係るビーム走査ムラ補正手段を後付けする場合には、
大きな光路変更を伴うことがないので、容易に実施でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第9図は本発明の実施例を示すもので、第1図
は主要構成の配置を模式的に示す平面図、第2図はビー
ム走査ムラ補正手段の組付構造を示す正面図、第3図〜
第7図はそれぞれ光ビーム走査光学系の光ビームの偏向
態様を模式的に示す側面図、第8図及び第9図(A)は
それぞれ本発明の別実施例を示す主要構成の配置を模式
的に示す平面図、第9図(B)は第9図(A)の側面図
である口;り2才10し71Xイ芝末イクlJ乞jミT
早動)?コで・・J5う。 1・・・光ビーム発生源、2・・・ビーム拡大レンズ、
3・・・回転ポリゴンミラー、4・・・fθレンズ、5
・・・光検出器、6・・・走査面、7・・・ビーム走査
ムラ補正手段、8・・・電歪素子、B1・B2・B3・
・・光ビーム、Ll・・・接眼レンズ、B2・・・対物
レンズ、P・・・ビームスポット、X・・・光軸。 特許出願人  大日本スクリーン製造株式会社・)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光ビーム発生源からの光ビームをレンズ及び回転ポ
    リゴンミラーを含んでなるビーム走査光学系によって走
    査面上に光点として収束させて走査するように構成した
    光ビーム走査装置において、 ビーム走査光学系の光路内に回転ポリゴンミラーの各反
    射面の傾きによる走査ムラを補正するビーム走査ムラ補
    正手段を設け、ビーム走査ムラ補正手段は、ビーム走査
    光学系のいずれかのレンズと、そのレンズを変位させる
    駆動手段とから成り、当該レンズをその光軸に対して垂
    直なレンズ主平面内で微小変位させるように構成したこ
    とを特徴とする光ビーム走査装置 2、ビーム走査光学系がビーム拡大レンズを含んで成り
    、ビーム拡大レンズの接眼レンズを微小変位させるよう
    に構成した特許請求の範囲第1項に記載した光ビーム走
    査装置
JP61087462A 1986-04-16 1986-04-16 光ビ−ム走査装置 Pending JPS62242911A (ja)

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