JPS62238392A - メツキ方法 - Google Patents
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- JPS62238392A JPS62238392A JP8020586A JP8020586A JPS62238392A JP S62238392 A JPS62238392 A JP S62238392A JP 8020586 A JP8020586 A JP 8020586A JP 8020586 A JP8020586 A JP 8020586A JP S62238392 A JPS62238392 A JP S62238392A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、メッキ方法に関するしのである。
従来より、磁気ディスクといったハードディスク等の磁
気記録媒体は、アルミニウム合金等の非磁性の基板上に
、塗布等の手段で磁性膜を設けたちの、あるいは例えば
Ｎｉ−１’の非磁性の磁性下地膜な湿式メッキ手段によ
り所定ｆ′ｙ−設け、 そしてこの磁性下地膜」二にＦ
ａ＋１膜なスバンタ可の軟式メツＡ毛［よ、無電解メツ
Ａ等の湿式メンキル段で設けたちのとして構成されてい
る。 そして、このような磁気記録媒体の基板としては、初期
に４ｂっではＭｎ及びＣｒを添加したへｌ！−Ｍｇ系ａ
金が用いられていたものの、このアルミニウム合金は、
Ｍｎ、Ｃｒ等が！！１体で又は全α間１ヒ会物として表
面にわｉ出し、この為そのに面に設けられるメッキ膜に
ビットが発生するといった致命的な欠点が指摘されてお
り、そこでこれに代わるものとして、例えば特開昭５９
−１９３５３７号公報又は特開昭６（１１９４０４０号
公報で提案されているようなＺｎ、Ｃｕ。 Ｆ、！を含有する＾ｆ’−Ｍｇ系合金が提案されている
。 すなわち、基板として用いられているアルミニウム合金
中のＨｎ？Ｃｒの成分が好ましくないことが究明され、
これに代わる元素としてＺｎ、Ｃｕ、Ｆｃ等か提案され
るに至っている。 つまり、アルミニウム合金の硬さ及び強度を向」ニさせ
る為に１Ｍｇ′５：Ｍｇ上ているのであり、又。 大きな金属間化き物を形成することなく−’＋ｘ＋ ：
ｉ＆の強度及び６１１Ｉさを向上さぜ、さらにはこの」
二に形成されるメツ；Ｖ膜の粗さ３小さく、かつ均一に
する為にＺｎ、Ｃｕ笠が添加されている。 しかし、本発明者の研究によると、 このようなアルミ
ニウム合金か用いられて製造された磁気ディスクであっ
ても、次第に欠点があることがわか−）できた。 １ｒなわぢ、上記のようなアルミニウム合金に対して所
定のに面処理を行ない、その後メッキ形成した磁性下地
膜であるＮ ｉ −ＰメッキＷ１表面には約１〜１０Ｂ
ｍ程度のミクロ欠陥が高密度で存在していることが判明
し、このミクロ欠陥はＮ１−Ｐメッキ膜を約５μｔＯ程
度研磨しても完全にはなくならず、こグ）／１この上に
メッキ処理して形成した磁性膜には欠陥が生じるように
なり、すなわちエラーが生じることになり、さらにはＮ
ｉ−！’メッキ膜がアルミニウノ、合金の基板から局所
的に脹れ上がり、この為この部分において磁性膜表面の
平坦性が失われ、健−）で記録再生に際してこのご分が
磁気ヘッドによって削り取られる等電磁変換特性及び走
行性の低下に千−）でしまうことに気１・１いたのであ
る。
気記録媒体は、アルミニウム合金等の非磁性の基板上に
、塗布等の手段で磁性膜を設けたちの、あるいは例えば
Ｎｉ−１’の非磁性の磁性下地膜な湿式メッキ手段によ
り所定ｆ′ｙ−設け、 そしてこの磁性下地膜」二にＦ
ａ＋１膜なスバンタ可の軟式メツＡ毛［よ、無電解メツ
Ａ等の湿式メンキル段で設けたちのとして構成されてい
る。 そして、このような磁気記録媒体の基板としては、初期
に４ｂっではＭｎ及びＣｒを添加したへｌ！−Ｍｇ系ａ
金が用いられていたものの、このアルミニウム合金は、
Ｍｎ、Ｃｒ等が！！１体で又は全α間１ヒ会物として表
面にわｉ出し、この為そのに面に設けられるメッキ膜に
ビットが発生するといった致命的な欠点が指摘されてお
り、そこでこれに代わるものとして、例えば特開昭５９
−１９３５３７号公報又は特開昭６（１１９４０４０号
公報で提案されているようなＺｎ、Ｃｕ。 Ｆ、！を含有する＾ｆ’−Ｍｇ系合金が提案されている
。 すなわち、基板として用いられているアルミニウム合金
中のＨｎ？Ｃｒの成分が好ましくないことが究明され、
これに代わる元素としてＺｎ、Ｃｕ、Ｆｃ等か提案され
るに至っている。 つまり、アルミニウム合金の硬さ及び強度を向」ニさせ
る為に１Ｍｇ′５：Ｍｇ上ているのであり、又。 大きな金属間化き物を形成することなく−’＋ｘ＋ ：
ｉ＆の強度及び６１１Ｉさを向上さぜ、さらにはこの」
二に形成されるメツ；Ｖ膜の粗さ３小さく、かつ均一に
する為にＺｎ、Ｃｕ笠が添加されている。 しかし、本発明者の研究によると、 このようなアルミ
ニウム合金か用いられて製造された磁気ディスクであっ
ても、次第に欠点があることがわか−）できた。 １ｒなわぢ、上記のようなアルミニウム合金に対して所
定のに面処理を行ない、その後メッキ形成した磁性下地
膜であるＮ ｉ −ＰメッキＷ１表面には約１〜１０Ｂ
ｍ程度のミクロ欠陥が高密度で存在していることが判明
し、このミクロ欠陥はＮ１−Ｐメッキ膜を約５μｔＯ程
度研磨しても完全にはなくならず、こグ）／１この上に
メッキ処理して形成した磁性膜には欠陥が生じるように
なり、すなわちエラーが生じることになり、さらにはＮ
ｉ−！’メッキ膜がアルミニウノ、合金の基板から局所
的に脹れ上がり、この為この部分において磁性膜表面の
平坦性が失われ、健−）で記録再生に際してこのご分が
磁気ヘッドによって削り取られる等電磁変換特性及び走
行性の低下に千−）でしまうことに気１・１いたのであ
る。
本発明菖は２前記の間ｍ点、すなわちメッキ膜の欠陥及
びメツ：′ｒ−膜がアルミニウノ、合金製の基板から局
所的に脹れ上がる原因についての研究を押し進めた結果
５これはメッキ膜形成前に行なわれる脱脂処理の作用と
アルミニウム合金の成分どによって大さな影響を受ける
ことが判明し、そこてこの知見に基いて、多くの種類の
アルミニウム３全につい”Ｃ幾通りかの脱脂処理を行な
い、そしてその後メッキ処理を行ない、このメッキ膜の
具りを観察した結果、Ｚｎ又はＣｕを少なくとも必須成
分として含イ１するへＮ−ＭＥ系α金の表面をノンエツ
チング型の脱脂処理したものである場合には、表面に形
成されるメッキ膜が優秀なものであることが判った。 尚、このアルミニウム合金におけるＭ８の１首りは、磁
気ディスク用の基板として用いる場合には約２．０〜５
．０ ’Ｊｉ ３１ ％であることが、又、Ｚｎのａイ
「量は約０１へ一１５重１％であることが、又、Ｃｕの
含存皿は約０．１〜１．０重量％であることか、ぞして
Ｚｎ及びＣｕを共に用いる場かには前記の条件のほかに
合計量が約０．１〜２．０重量％であることが望ましい
ものてあり、そしてその池例えば、Ｆｅ、Ｚｒ及び／又
はＭｌｌ等の成分がｉ蓋含まれていても良いものである
。 尚、これら微量成分のうち、Ｚｒに関しては、アルミニ
ウム含金基板の結晶粒及び金属間化合物を微細化する作
用が４するので、このような特性が要求される場合にあ
っては、Ｚｒを約０．０３〜０．２重通２１；かまぜて
おくと特に望ましいものである。 ぞして、本発明に言うノンエツチング型の脱脂り１！埋
とは、その脱脂処理に際しての溶解量が大きな、例えば
５％Ｎ ａ ＯＩｔ脱脂剤可によるエツチング型の脱脂
処理に対向して用いられたものであって、１！＋１１え
ばリン酸塩と界面活性剤と３３むノンエツチング型の脱
脂剤を用い、約４０〜７０℃で約２〜５分間の脱脂処理
を行なうことによって、その溶解量か約０１ｇ／ｄｌ１
１２以下、特に望ましくは約０．０００２〜０．０１２
ｇ／ｄ噛２程度のものを意味するしのである。
びメツ：′ｒ−膜がアルミニウノ、合金製の基板から局
所的に脹れ上がる原因についての研究を押し進めた結果
５これはメッキ膜形成前に行なわれる脱脂処理の作用と
アルミニウム合金の成分どによって大さな影響を受ける
ことが判明し、そこてこの知見に基いて、多くの種類の
アルミニウム３全につい”Ｃ幾通りかの脱脂処理を行な
い、そしてその後メッキ処理を行ない、このメッキ膜の
具りを観察した結果、Ｚｎ又はＣｕを少なくとも必須成
分として含イ１するへＮ−ＭＥ系α金の表面をノンエツ
チング型の脱脂処理したものである場合には、表面に形
成されるメッキ膜が優秀なものであることが判った。 尚、このアルミニウム合金におけるＭ８の１首りは、磁
気ディスク用の基板として用いる場合には約２．０〜５
．０ ’Ｊｉ ３１ ％であることが、又、Ｚｎのａイ
「量は約０１へ一１５重１％であることが、又、Ｃｕの
含存皿は約０．１〜１．０重量％であることか、ぞして
Ｚｎ及びＣｕを共に用いる場かには前記の条件のほかに
合計量が約０．１〜２．０重量％であることが望ましい
ものてあり、そしてその池例えば、Ｆｅ、Ｚｒ及び／又
はＭｌｌ等の成分がｉ蓋含まれていても良いものである
。 尚、これら微量成分のうち、Ｚｒに関しては、アルミニ
ウム含金基板の結晶粒及び金属間化合物を微細化する作
用が４するので、このような特性が要求される場合にあ
っては、Ｚｒを約０．０３〜０．２重通２１；かまぜて
おくと特に望ましいものである。 ぞして、本発明に言うノンエツチング型の脱脂り１！埋
とは、その脱脂処理に際しての溶解量が大きな、例えば
５％Ｎ ａ ＯＩｔ脱脂剤可によるエツチング型の脱脂
処理に対向して用いられたものであって、１！＋１１え
ばリン酸塩と界面活性剤と３３むノンエツチング型の脱
脂剤を用い、約４０〜７０℃で約２〜５分間の脱脂処理
を行なうことによって、その溶解量か約０１ｇ／ｄｌ１
１２以下、特に望ましくは約０．０００２〜０．０１２
ｇ／ｄ噛２程度のものを意味するしのである。
【実施例１−９】
表１に示す組成のアルミニウム合金のブランクｔｔ ｆ
、 、 ２ ＋１／リン酸すトリウ１１及び２５°≦界
面活性剤を禽む脱脂剤を用いて約６５°Ｃ，２，５分間
のノンエンチング型の脱脂処理（溶解量は表１に示す）
を行ない、そのＩＱ ノに洗した浚２０％ｆｉＰｉ １
８ｉＦｔ中に６０℃で２分間の酸浸漬を行ない、次いで
水洗を行なってスーパージンク−ｌ−液（キザイ製）を
用いて２３℃で６０秒間の第１回目のジンチー１〜処理
を行ない、この第１回日のジンケート処理後水洗を行な
いそして３３％硝酸（８液中に２３℃で３０秒間の酸浸
漬を行ない、そして水洗３行なった後スーパージンゲー
ト液を用いて２３°（−°で３０秒間の第２回目のりン
′ケート処理を行ない、その後水洗を行なってからナイ
コー１４ Ｅ Ｌ １． （＝Ｘ−デ１′・罠）と用い
て９０℃で２時間の月町′８−解メツキを行ない、Ｎ１
−Ｐメツ−１ｉ−膜を形成する。 このＮじ１１メツ；Ｖ膜形成後、従来のハードディス乏
製造の場合と同様な工程３経て、Ｎｉ−１’メツキ股上
に所定のメッキ型磁性膜を形成してハードディスクを得
る。
、 、 ２ ＋１／リン酸すトリウ１１及び２５°≦界
面活性剤を禽む脱脂剤を用いて約６５°Ｃ，２，５分間
のノンエンチング型の脱脂処理（溶解量は表１に示す）
を行ない、そのＩＱ ノに洗した浚２０％ｆｉＰｉ １
８ｉＦｔ中に６０℃で２分間の酸浸漬を行ない、次いで
水洗を行なってスーパージンク−ｌ−液（キザイ製）を
用いて２３℃で６０秒間の第１回目のジンチー１〜処理
を行ない、この第１回日のジンケート処理後水洗を行な
いそして３３％硝酸（８液中に２３℃で３０秒間の酸浸
漬を行ない、そして水洗３行なった後スーパージンゲー
ト液を用いて２３°（−°で３０秒間の第２回目のりン
′ケート処理を行ない、その後水洗を行なってからナイ
コー１４ Ｅ Ｌ １． （＝Ｘ−デ１′・罠）と用い
て９０℃で２時間の月町′８−解メツキを行ない、Ｎ１
−Ｐメツ−１ｉ−膜を形成する。 このＮじ１１メツ；Ｖ膜形成後、従来のハードディス乏
製造の場合と同様な工程３経て、Ｎｉ−１’メツキ股上
に所定のメッキ型磁性膜を形成してハードディスクを得
る。
【比 重２１列 １ 】
実施例１におけるアルミニウムｈ上の代りに、Ｊ［Ｓ
Ａ ５（１８Ｇアルミニウノ、ｈ金を用いて同様に１１
ない、ハートティスク分１４）る。
Ａ ５（１８Ｇアルミニウノ、ｈ金を用いて同様に１１
ない、ハートティスク分１４）る。
【比較例２〜１０】
実施例１へ−９において、２％リン酸すトリウム及び２
２ｔ？−面活性剤を含む脱脂剤によるノンエンチンク型
の脱脂処理の代りに、５％Ｎ ａ ＯＩｆによるエッチ
〉′グＩｕの脱脂処理を５０℃で２５分間行ない、その
他は同様に行なってハードディスクを得る。
２ｔ？−面活性剤を含む脱脂剤によるノンエンチンク型
の脱脂処理の代りに、５％Ｎ ａ ＯＩｆによるエッチ
〉′グＩｕの脱脂処理を５０℃で２５分間行ない、その
他は同様に行なってハードディスクを得る。
上記各間で得たハードディスクについて、そのジンゲー
ト処理性、Ｎ１−Ｐメッキ膜のミクロ欠陥、密着性及び
長面■さくＲａ）、Ｎ１−Ｐメッキ膜を３μデｎ１Ｊｉ
麿した場合のミクロ欠陥及び耐食性３調べると、表２に
示す通りである。 尚、ジンゲート処理性は、ダブルジンゲ−１−ｉ面分先
願微分干渉像とＳＥＭで観察し、析出粒子の均−性及び
緻密性を○、△、Ｘの三段附で評（直したものであり、
また、Ｎ１−Ｐメッキ膜のミクロ欠陥は、光題微分干渉
卯で１１１１察して１μｍφ以上の欠に１ｎの数をカウ
ントシ、単位面績当り３個以内力ものを○印で、４〜１
０個のものをΔ印て、１１ｍ以上のものを〕・、印で表
わしたものであり、Ｎ１−Ｐメッキ膜の富含性は、９０
’及び１８０゛の折り曲げ試験を行ない、ｊ！Ｉ＋離が
ないものを○印で５．＆１１ 離が多少、ちるもの？Δ
印で、剥離が多いものを・×印で表わしたものであり、
又、耐火性は、ｌ Ｑ Ｉ＋、；硫酸溶血中！二３０℃
で４８時間浸漬し、脹れがない場合念○叩て、軽度の脹
れく３輪部φ以下の脹れ）がある場合と、へ印で２強度
の脹れ（４＋ｎｍφ以」二の脹れ）かある場へ−念×印
で表わしたものである。 この表２かられかるように、本発明に係るハードディス
クにおけるジンゲート処理性は良いらめであり、又、Ｎ
１−Ｐメッキ膜のミクＹ７欠陥は著しく少なく、又、Ｎ
ｉ −Ｐメンキ膜の密着性は良く、さらにはＮ ｉ
−Ｐメンキ膜のに部平滑性が良く、シかも耐食性にも混
れている。 これに対して、ハードディスクの基板であるアノ［ミニ
ｒ゛７ム合金として本発明に係るものと同じアルミニ・
”７ム３金が用いられても、脱脂処理がエツチング型の
乙のである比較例２〜１０のものでは、ジンク−１−Ｒ
面が良くろ・＜、又、Ｎ１−Ｐメッキ膜のミクロ欠陥は
歩く、又、密着性についても良くなく、さらには耐食性
も悪いものであり、又、ハードディスクの基板であるア
ルミニウム合金としてＪＩＳ Ａ ５０８６アルミニウ
ム会金が用いられた場合には、脱脂処理がノンエツチン
グ型のものであってら、本発明のような効果は奏されな
いものである。
ト処理性、Ｎ１−Ｐメッキ膜のミクロ欠陥、密着性及び
長面■さくＲａ）、Ｎ１−Ｐメッキ膜を３μデｎ１Ｊｉ
麿した場合のミクロ欠陥及び耐食性３調べると、表２に
示す通りである。 尚、ジンゲート処理性は、ダブルジンゲ−１−ｉ面分先
願微分干渉像とＳＥＭで観察し、析出粒子の均−性及び
緻密性を○、△、Ｘの三段附で評（直したものであり、
また、Ｎ１−Ｐメッキ膜のミクロ欠陥は、光題微分干渉
卯で１１１１察して１μｍφ以上の欠に１ｎの数をカウ
ントシ、単位面績当り３個以内力ものを○印で、４〜１
０個のものをΔ印て、１１ｍ以上のものを〕・、印で表
わしたものであり、Ｎ１−Ｐメッキ膜の富含性は、９０
’及び１８０゛の折り曲げ試験を行ない、ｊ！Ｉ＋離が
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印で、剥離が多いものを・×印で表わしたものであり、
又、耐火性は、ｌ Ｑ Ｉ＋、；硫酸溶血中！二３０℃
で４８時間浸漬し、脹れがない場合念○叩て、軽度の脹
れく３輪部φ以下の脹れ）がある場合と、へ印で２強度
の脹れ（４＋ｎｍφ以」二の脹れ）かある場へ−念×印
で表わしたものである。 この表２かられかるように、本発明に係るハードディス
クにおけるジンゲート処理性は良いらめであり、又、Ｎ
１−Ｐメッキ膜のミクＹ７欠陥は著しく少なく、又、Ｎ
ｉ −Ｐメンキ膜の密着性は良く、さらにはＮ ｉ
−Ｐメンキ膜のに部平滑性が良く、シかも耐食性にも混
れている。 これに対して、ハードディスクの基板であるアノ［ミニ
ｒ゛７ム合金として本発明に係るものと同じアルミニ・
”７ム３金が用いられても、脱脂処理がエツチング型の
乙のである比較例２〜１０のものでは、ジンク−１−Ｒ
面が良くろ・＜、又、Ｎ１−Ｐメッキ膜のミクロ欠陥は
歩く、又、密着性についても良くなく、さらには耐食性
も悪いものであり、又、ハードディスクの基板であるア
ルミニウム合金としてＪＩＳ Ａ ５０８６アルミニウ
ム会金が用いられた場合には、脱脂処理がノンエツチン
グ型のものであってら、本発明のような効果は奏されな
いものである。
Claims (1)
- Ｚｎ又はＣｕを少なくとも必須成分として含有するＡ
ｌ−Ｍｇ系合金の表面をノンエッチング型の脱脂処理を
行ない、その後メッキ処理することを特徴とするメッキ
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61080205A JP2542188B2 (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61080205A JP2542188B2 (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62238392A true JPS62238392A (ja) | 1987-10-19 |
| JP2542188B2 JP2542188B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=13711881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61080205A Expired - Lifetime JP2542188B2 (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2542188B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59193537A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-11-02 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 磁気デイスク基板用Ａｌ合金 |
| JPS60194040A (ja) * | 1984-02-18 | 1985-10-02 | Kobe Steel Ltd | メツキ性に優れたデイスク用アルミニウム合金板 |
-
1986
- 1986-04-09 JP JP61080205A patent/JP2542188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59193537A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-11-02 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 磁気デイスク基板用Ａｌ合金 |
| JPS60194040A (ja) * | 1984-02-18 | 1985-10-02 | Kobe Steel Ltd | メツキ性に優れたデイスク用アルミニウム合金板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2542188B2 (ja) | 1996-10-09 |
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