JPS62234539A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空処理装置に係り、特にスパッタ装置、Ｃ
ＶＤ装置等の真空処理装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来の真空処理装置では、例えば、特開昭６０−７６１
１５号公報に記載のように、試料の処理時に試料を加熱
する赤外線ヒータを試料ホルダーに内蔵させたものが知
られている。

一方、例えば、スパッタ装置においては、例えば、特開
昭６０−５２５７４号公報に記載のように、スパッタ成
膜処理前に試料は、ベーク処理やプラズマエッチ処理さ
れる。この場合、このような処理は、試料を保持する試
料ホルダーな各処理室に順次移動させて連続的に実施さ
れる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記特開昭６０−５２５７４号公報に記載のスバ、り装
置において、上記に記載のように試料ホルダーに赤外線
ヒータな単１こ内蔵させただけでは、試料の加熱の要、
不要によって赤外線ヒータへの通電を外部の電源の切替
えを行わなければならず、このため、処理操作が複雑に
なり、場合によっては、誤操作を生じる危険性がある。

本発明の目的は、試料を保持する試料ホルダーと各処理
室とを相対移動させて試料の加熱を要する処理と試料の
加熱を要しない処理とを連続して実施する場合の処理操
作を簡単化できる真空処理袋；Ｎを提供することにある
。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、複数の処理室と、試料を保持する複数の試
料ホルダーとを有し該ホルダーと前記処理室とを相対移
動させ前記試料の加熱要不要を含み連続して処理する真
空処理装置で、前記試料ホルダーに加熱手段を設け、該
加熱手段を磁気感応形スイッチを介して電源に並列接続
し、前記試料の加熱要部に対応して前記スイッチの作動
用の磁気手段を設けたものとすることにより、達成され
る。

〔作　　　用〕

磁気感応形スイッチは、磁気手段により作動する。この
作動によって加熱手段には電源より通電が開始され、こ
れにより試料は加熱される。したがって、加熱して試料
を処理する必要がある処理室に対応してのみ磁気手段を
設けることで、外部の電源の切替操作が不要になる。

〔実　施　例〕

以下、本発明の一実施例を第１図、第２図により説明す
る。

第１図で、バッファ室１０は、縦断面に？ＳＵ字形の空
間を有している。バッフ１室１０には、その円周方向で
試料着脱室銀、処理室■（図示省略）、処理室■（図示
省略）、処理室■２１．処理室■（図示省略）、処理室
■（図示省略）がバッフ１室１０と連通して設けられて
いる。バッファ室ｌＯの底部空間醤こは、回転テーブル
Ｉが回転可能に設けられている。回転軸３１は、下端部
をバッファ室１０の底部空間に突出しバッファ室１０の
気密を保持してバッファ室１０に回転自在に設けられて
いる。回転テーブル加は、回転軸３１の下端に略水平に
設けられている。回転軸３１の上端には、駆動歯車翌が
設けられている。駆動歯車諺には、駆動歯車おが噛合さ
れている。駆動歯車間は、駆動袋＠３４に設けられてい
る。回転ドラムには、各室に対応する面を有しバッファ
室１０内で回転テーブル諺に設けられている。試料ホル
ダー菊は、回転ドラムあの各室に対応する面に各室と対
応する位置で回転ドラム３５に設けられている。したが
って、この場合、試料ホルダー栃は、被処理面垂直姿勢
で試料間を保持する。また、試料ホルダー４０の個数は
、この場合、６個でみる。加熱手段は、この場合、赤外
線放射ヒータωであり、赤外線放射ヒータωは、試料ホ
ルダー切に内蔵されている。なお、試料ホルダー旬の試
料特許面には、透明石英板（図示省略）が設けられてい
る。磁気感応形リードスイッチ６１は、この場合、回転
ドラムあの頂部に設けられている。磁気感応形リードス
イッチ６１の作動用の磁気手段は、この場合、永久磁石
６２である。永久磁石６２は、試料（資）を加熱して処
理する必要のある室。

この場合、処理室ｎ〜処理室■に対応した位置で。

磁気感応形リードスイッチ６１に対応可能にバッファ室
ｌＯに設けられている。

第１図、第２図で、６個の試料ホルダー切にそれぞれ内
蔵された赤外線放射ヒータωは、磁気感応形リードスイ
ッチ６１を介して電源６３に並列接続されている。即ち
、各赤外線放射ヒータωの一端は、導入端子−に接続さ
れ、他端は、それぞれ対応する磁気感応形リードスイッ
チ６１に接続されている。また、各函気感応リードスイ
ッチ６１は、導入端子−に接続されている。電源臼と導
入端子例とは、スリップリング６を介して接続されてい
る。

スリップリング６は、回転軸３１の上端に設けられてい
る。′ａ＆源６３は、電圧調整機能を有している。

なお、第１図で、バッフ１室ｌＯ内は真空排気され、各
室は、それぞれ独立に真空排気可能である。

第１図、第２図で、試料間は、搬送手段（図示省略）に
より試料着脱室田に搬入されて試料ホルダー切に渡され
試料保持面に保持される。その後、駆動装置具を作動さ
せることで試料間を保持した試料ホルダー員はバッファ
室１０内ヲ１７６回転させられ、これにより、試料部を
保持した試料ホルダー切は、処理室Ｉに対応した位置に
至る。処理室Ｉでの試料間の処理中に試料着脱室（９）
と対応した位置にある試料ホルダー句には、別の試料間
が保持される。このように、駆動装置あの作動で試料ゆ
／ｌ／　９’　−４０ヲ’／６毎回転させることで、試
料ホルダー伯には、順次試料男が保持され、保持された
試料間は、処理室１〜処理室Ｖで順次処理される。

この場合、永久磁石６２は、処理室■〜処理室■に対応
して設けられているため、処理室「〜処理室■に対応し
た位置（こ試料ホルダー４０が至った時点で、各磁気感
応形リードスイッチ６１が作動し各赤外線放射ヒータω
に通電が開始される。これにより試料ホルダー切に保持
された試料間は所定温度に加熱されて処理室ｎ〜処理室
■で所定処理される。

本実施例では、次のような効果が得られる。

（１）永久磁石を設けた位置でのみ赤外線放射ヒータの
点灯が行えるため、外部の電源の切替操作が不要となり
、試料ホルダーを各処理室に対して順次移動させて試料
の加熱を要する処理室と試料加熱を要しない処理とを連
続して実施する場合の処理操作る簡単化できる。

（２）　　永久磁石を設た位置でのみ赤外線放射ヒータ
の点灯が行えるため、誤操作を生じる危険性がない。

なお、上記実施例では、永久磁石を固定して設けている
が、磁気感応形リードスイッチを作動。

不作動選択可能に永久磁石を設けても良い。即ち、永久
磁石を取外し可能に設けるとか、磁気感応形リードスイ
ッチに影響を及ぼさないような位置に移動可能に設ける
とかは、その具体的な一例である。二のように永久磁石
を設けた場合は、例えば、同一処理室で加熱して試料を
処理するとか、加熱しないで試料を処理するとかの処理
の変更にフレキシビリティに対応することができる。ま
た、磁気手段としては、二の他に電磁石を用いても良い
。

〔発明の効果〕

本発明によれば、磁気手段な設けた位置でのみ加熱手段
を作動させることができるので、外部の電源の切替操作
が不要となり、試料ホルダーと各処理室とを相対移動さ
せて試料の加熱、を要する処理と試料の加熱を要しない
処理とを連続して実施する場合の処理操作を簡単化でき
るという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の真空処理装置の縦断面図
、第２図は、第１図の電気回路図である。 １０・・・・・・バッファ室、囚・・・・・・試料着脱
室、４・・・・・・処理室ＩＳ罪・・・・・・回転テー
ブル、３１・・曲回転軸、諺、３３・・・・・・駆動歯
車、あ・・開駆動装置、あ・・・・・・回転ドラム、頑
・・・・・・試料ホルダー、ω・・・・・・赤外線放射
ヒータ、６１・・・・・・磁気感応形リードスイッチ、
６２・・・・・・永久磁石、８・・・・・・電源、８・
・・・・・導入端子、蒔才１凹

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、複数の処理室と、試料を保持する複数の試料ホルダ
   ーとを有し該ホルダーと前記処理室とを相対移動させ前
   記試料の加熱要不要を含み連続して処理する真空処理装
   置において、前記試料ホルダーに加熱手段を設け、該加
   熱手段を磁気感応形スイッチを介して電源に並列接続し
   、前記試料の加熱要部に対応して前記スイッチの作動用
   の磁気手段を設けたことを特徴とする真空処理装置。