JPS62234117A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents

光ビ−ム走査装置

Info

Publication number
JPS62234117A
JPS62234117A JP6083386A JP6083386A JPS62234117A JP S62234117 A JPS62234117 A JP S62234117A JP 6083386 A JP6083386 A JP 6083386A JP 6083386 A JP6083386 A JP 6083386A JP S62234117 A JPS62234117 A JP S62234117A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wave
hologram lens
scanning
hologram
semiconductor laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6083386A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0617950B2 (ja
Inventor
Shinya Hasegawa
信也 長谷川
Fumio Yamagishi
文雄 山岸
Hiroyuki Ikeda
池田 弘之
Yushi Inagaki
雄史 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP61060833A priority Critical patent/JPH0617950B2/ja
Priority to CA000515003A priority patent/CA1320855C/en
Priority to DE86401720T priority patent/DE3689344T2/de
Priority to EP86401720A priority patent/EP0214018B1/en
Publication of JPS62234117A publication Critical patent/JPS62234117A/ja
Priority to US07/269,412 priority patent/US4957336A/en
Publication of JPH0617950B2 publication Critical patent/JPH0617950B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概  要〕 本発明は、半導体レーザ、収差補正用ホログラムレンズ
、及び走査用ホログラムレンズの構成からなる光ビーム
走査装置において、前記走査用ホログラムレンズと前記
収差補正用ホログラムレンズの設定を適切にさせること
を、ホログラム設計時に行い、また必要に応じて前記半
導体レーザと前記収差補正用ホログラムレンズの間隔を
最適化することにより、半導体レーザのロフト毎に対す
る発振波長のバラツキによる走査ビームのビーム径の劣
化を抑え、安価かつ高精度の走査を実現するものである
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体レーザのロフト毎に対する発振波長の
バラツキによる走査ビーム径の劣化の影響を抑えること
のできる光ビーム走査装置に関する。
〔従来の技術〕
レーザプリンタなどにおけるレーザ光の高精度の直線走
査において、複雑で高価な回転多面鏡を用いたポリゴン
に代わって、小型、軽量、風損が小、安価、複製可能で
あり、構造が簡単でi造が容易なホログラムレンズを用
いた光ビーム装置が注目されている。
これは、第5図に示すように、円板上にインターフェロ
メトリックゾーンプレート(IZP)と呼ばれる位置的
に周波数の分布の異なるホログラムレンズを複数個設け
たホログラムスキャナを有する。このホログラムスキャ
ナ55に再生波として発散波である半導体レーザ光53
を照射すると、その回折光54はフォトコンドラム52
上に結像し、ホログラムスキャナ51の回転に従って1
回転あたり前記■ZPの数と同じ回数だけ該フォトコン
ドラム52上の所定領域を直線走査する。すなわち、ホ
ログラムスキャナ51は走査装置としての機能と、結像
レンズ、言い換えればビーム整形の機能を合わせもつも
のである。
この場合、フォトコンドラム52上での解像度を高める
ためには、そこでの回折光54の結像ビーノ、径をでき
る限り小さくする必要がある。そのためにはホログラム
スキャナ51上での照射ビーム径DHを太き(するのが
望ましい。
しかし、ビーム径D Hを大きくすると非点収差、及び
コマ収差が発生しフォトコンドラム52上での結像点が
1点に定まらなくなるという問題を生じてしまい、ビー
ム径DIIを大きくし前記フォトコンドラム52上での
結像ビーム径を小さくするという要求と相反するものと
なる。
一方、前記問題とは別に、レーザ光源としての半導体レ
ーザは、小型、軽量、直接変調可能かつ安価なためホロ
グラムスキャナに用いることが重要となってきている。
この場合、半導体レーザの縦モードは単一でないと走査
ビームが一点とならないので、シングルモードレーザが
必要である。
そのためには現在出回っている屈折率導波型半導体レー
ザが条件を満たす。しかし、DCバイアス時に例えシン
グルモードであっても、その発振波長が周囲温度、伝導
電流、及びパルス印加の変化などによって±0.3nm
はどずれるモードホッピングと呼ばれる現象を引き起こ
す。モードホッピングが起こるとホログラムスキャナ5
1で回折した回折光54は、第5図(a)及び同図(b
)の側面図の破線55で示すようにずれ、フォトコンド
ラム52上での走査結像位置がずれてしまい、レーザプ
リンタなどの高精度直線スキャナなどに用いるためには
、印字品質の劣化をまねくため大きな問題となる。
上記走査ビームの収差の問題と、モードホッピングによ
る問題とを同時に解決するために、本出願人らは特願昭
60−168830の既出願により、収差補正用ホログ
ラムレンズと走査用ホログラムレンズ(ホログラムスキ
ャナ)を用いた光ビーム走査装置を提案した。第6図に
その概観を示す。半導体レーザ63から出射した発散球
面波65は収差補正用のホログラムレンズ61に入射し
、ここで走査用ホログラムレンズであるホログラムディ
スク62上のホログラム621によって発生する走査光
の走査面上での非点、及びコマ収差を打ち消す収差を有
する波面に変換される。次に、このように変換された収
差補正用のホログラムレンズ61からの回折波66はモ
ークロ22により回転するホログラムディスク62上の
ホログラム621に入射し、そこからの回折波67は収
束球面波として被走査面であるフォトコンドラム64上
に走査結像する。この時、ホログラム621で発生する
非点、及びコマ収差は前記の収差波66により補正され
、被走査面上における非点及び、コマ収差は減少する。
また、収差補正用のホログラムレンズ61での回折角θ
dを、ホログラムディスク62からの回折波67による
フォトコンドラム63上での走査点の変化が半導体レー
ザ63における縦モードのホッピングに対して減少する
角度に設定することにより、走査光のジッタは減少させ
ることができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記光ビーム走査装置により、走査ビームの収差の問題
と、モードホッピングによる問題とを同時に解決するこ
とが可能になったが、前記の出願においては半導体レー
ザ63の発振波長のロフト毎のバラツキにより、設計波
長、例えば787nmから±10nmずれているとき、
走査ビーム径が劣化するという問題点があった。
この問題点を解決するために、ホログラムを、各波長に
応じて設計1作製することが考えられるが、実際的でな
い。特に、半導体レーザ63の発振波長のロット毎のバ
ラツキは、設計ホログラムを変えることなく吸収できる
ことが望ましく、特に、この調整は簡便なものが望まし
い。
本発明は上記問題点を除くために、走査用ホログラムレ
ンズと収差補正用ホログラムレンズの設定を適切にさせ
ることをホログラム設計時に行いさらに必要に応じて半
導体レーザと収差補正用ホログラムレンズの間隔も適正
比することより、走査ビーム径の劣化を防ぐことのでき
る光ビーム走査装置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記問題点を除くために、位置的に空間周波数
の分布が異なり半導体レーザ(13)から出射した再生
波(18)を回折させ該回折波(19)を被走査面(1
5)上で走査させる走査用ホログラムレンズ(12)と
、前記半導体レーザ(13)と前記走査用ホログラムレ
ンズ(12)の間の前記再生波(18)の光路上に配置
され前記再生波(18)の波面を前記回折波(19)の
収差が前記被走査面上で減少するような波面に変換する
収差補正用ホログラムレンズ(11又は21)を有し、
前記走査用ホログラムレンズ(12)と前記収差補正用
ホログラムレンズ(11又は21)の設定を適切にさJ
ることをホログラム設計時に行いまた必要に応じて前記
半導体レーザ(13)と前記収差補正用ホログラムレン
ズ(11又は21)の間隔は最適に設定されることを特
徴とする光ビーム走査装置を提供するものである。
〔作   用〕
上記手段により、走査用ホログラムレンズ(12)と収
差補正用ホログラムレンズ(11)の設定を適切にする
ことをホログラム設計時に行い±10nm100波しの
バラツキに対しても回折波(19)の被走査面(15)
上におけるビーム径の劣化を抑えることができる。
さらに、収差補正用ホログラムレンズ(11)に半導体
レーザ(13)からの発散波を直接入射させる場合には
、半導体レーザ(13)と収差補正用ホログラノ、レン
ズ(1−1)との間隔も最適に設定することにより、前
記ビーム径の劣化を防ぐことができる。
〔実  施  例〕
以下、本発明の実施例につき詳細に説明を行う。
(本発明による光ビーム走査装置の第1の実施例の構成
(第1図)) 第1図は、本発明による光ビーム走査装置の第1の実施
例の側面図を示す。半導体レーザ13からの発散球面波
16は、コリメートレンズ14により平行波17と変換
された後、ホログラムレンズ11に入射する。次に、ホ
ログラムレンズ11からの回折波18はホログラムディ
スク12上に有効半径Rで配置された複数枚のホログラ
ム121上に再生波として入射し、回折波である収束球
面波19に変換されてフォトコンドラム15上の結像点
Pに結像する。この構成は、第5図の本出願人らによる
既出側の特願昭60−168830の一実施例と同じで
ある。ただし、本発明においてはホログラムレンズ11
とホログラムディスク12との設定に限定条件が付され
る点で異なっている。
(第1の実施例の説明(第1図、第2図))上記構成に
おいて、ホログラムレンズ11はホログラムディスク1
2上のホログラム121で発生する収束球面波19のフ
ォトコンドラム15上の結像点Pでの非点及びコマ収差
を打ち消す収差を有する波面に変換される。これにより
、実際の収束球面波19の収差が補正され、フォトコン
ドラム15上における非点及びコマ収差は減少する。
一方、ホログラムレンズ11の回折波18の回折角θd
は、フォトコンドラム15上での結像点Pの変化が半導
体レーザ53における縦モードのホッピングに対して減
少する角度に設定されている。これにより、収束球面波
19のシックが減少する。これらの技術については、既
に前記特許出願により開示されている。
次に、ホログラム11の再生中心点とホログラムディス
ク12間の距離aには自由度があるが例えばa=59m
aとすれば、前記問題点の項で説明したように、半導体
レーザ13として設計波長787nmのものから±10
nmずれたものを用いると、結像点Pにおけるビーム径
は1〜2Hにも達し、ビームが絞れなくなる。ところが
、aの値を20鰭程度に近接させることにより、半導体
レーザ13の発振波長が±10nm程度ずれても結像点
Pにおけるビーム径はあまり変化しないことが光線追跡
によりわかった。これは、設計波長787nmのものか
ら、±10nmずれた半導体レーザを用いると、走査用
ホログラムレンズ121への光軸入射点が設計光軸入射
点Rからずれるためで、a=50mmのとき、この入射
点Rからのずれは±2m、又、a=20mmのときは、
ずれは±l mm程度である。
この設計入射点Rから、大きくずれると、ビーム1予が
太き(なることが原因であるため、このずれ■ΔRは小
さい方が望ましい。実用上は、通常、ずれ量ΔRはll
1以内であれば良い。そこで、このずれ量販下となるよ
うに走査用ホログラムレンズ12と収差補正用ホログラ
ムレンズ11を設計時に設定すれば良い。なお、この設
定の仕方は既出側の特願昭60−168830に基づけ
ば良い。−例として、ずれ量ΔRが、±600μmとな
る本方式スキャナを設計した。このときのビーム径を第
2図に示す。(a)が設計波長で再生したときであり、
(b)。
(C1はそれぞれ−10nm、 10nmずれていると
きのビーム径を示している。ここでは、回折像で150
μm程度のビームが得られるような、ビーム径を走査用
ホログラムレンズ12に入射している。これより、走査
用ホログラムレンズ12.収差補正用ホログラムレンズ
11の設定を変えることなく良好にビーム径の劣化を防
止していることがわかる。
なお、ずれ量ΔRを少なくとも±1wm以内におさえる
ためには、走査用ホログラムレンズ12と収差補正用ホ
ログラムレンズ11の間隔だけでな(、収差補正用ホロ
グラムレンズの空間周波数もパラメータとなる。
(本発明による光ビーム走査装置の第2の実施例の構成
と説明(第3図)) 次に、第3図に第2の実施例の構成を示す。第1図の第
1の実施例と異なる点は、ホログラムレンズ21に半導
体レーザ13からの発散球面波16を直接入射させ、ホ
ログラムレンズ21にレンズ作用(平行波への変換作用
)も持たせた点である。
上記実施例の場合には、上記設定を行うと共に、半導体
レーザ13とホログラムレンズ21の再生中心点の距離
f[(発散球面波16の焦点距離)を、半導体レーザ1
3の発振波長に応じて最適化すれば、フォトコンドラム
15上での結像点Pにおけるビーム径の劣化を抑えるこ
とができる。上記第1の実施例と異なってホログラムレ
ンズ21では、半導体レーザの発散波を、仮想的な平行
波に変換し、この仮想的な平行波を走査用ホログラムレ
ンズへの収差補正波である回折波18に変換する。しか
し、半導体レーザの発振波長が設計値よりΔλずれたと
きは、半導体レーザの発散波を仮想的な平行波にする機
能が弱まり、従って走査ビーム径が劣化することがわか
った。そこで、半導体レーザの発振波長のずれΔλに応
じて、前記flを最適化して、仮想的な平行波にするこ
とを考える。これは、該半導体レーザの発散波を仮想的
な平行波にするためには、この波面収差を0.07λ 
RMSにしなければならないが、各Δλ毎に、この条件
を達成するfj2を計算したのが第4図である。この設
計例では、既出側の特願昭60−168830による設
計例を用いている。こうして、半導体レーザの発振波長
の、ホログラム設計値からのずれΔλに対して、第4図
のflを設定すれば、半導体レーザの発散波は、波面収
差0.07λ RMS以内のほぼ完全な平行波に仮想的
に変換され、この平行波は、さらに第1の実施例に基づ
き、走査用ホログラムレンズへの収差補正波18となり
、走査ビーム径の劣化は防止できるのである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、走査用ホログラムレンズと収差補正用
ホログラムレンズの間隔を近接させ、また半導体レーザ
と収差補正用ホログラムレンズの間隔をta化させるこ
とにより、半導体レーザの発1辰波長のバラツキに対す
る走査ビーム径の劣化を防止することが可能となり、高
精度な光ビーム走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による光ビーム走査装置の第1の実施
例の構成図、 第2図(a)、 (b)、 (C)は、第1の実施例に
おけるビーム径のスポットダイアダラム、 第3図は、本発明による光ビーム走査装置の第2の実施
例の構成図、 第4図は、半導体レーザ13の設計波長からのずれΔλ
と、その時の半導体レーザ13とホログラムレンズ21
の再生中心点の距離flの関係図、第5図(a)、 (
b)は、従来の光ビーム走査装置の構成図、 第6図は、本発明の基本となる光ビーム走査装置の概観
図である。 11.21・・・ホログラムレンズ、 12・・・ホログラムディスク、 13・・・半導体レーザ、 15・・・フォトコンドラム、 18・・・回折波、 19・・・収束球面波。 特許出願人   富士通株式会社 オφ9月にJろ尤已゛−ム走」tむ!の冨lの大方函列
の構成図 第1図 オj6駅によろ光七′−ム走」1乱if>第2の大砲イ
クリの構A C?コ 第3図 87nm 第4図 (0)糾才亀図 (b) イル1 面 口?] 0のLビーム走査線りのMμ颯図 第5図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 位置的に空間周波数の分布が異なり半導体レーザ(13
    )から出射した再生波(18)を回折させ該回折波(1
    9)を被走査面(15)上で走査させる走査用ホログラ
    ムレンズ(12)と、前記半導体レーザ(13)と前記
    走査用ホログラムレンズ(12)の間の前記再生波(1
    8)の光路上に配置され前記再生波(18)の波面を前
    記回折波(19)の収差が前記被走査面上で減少するよ
    うな波面に変換する収差補正用ホログラムレンズ(11
    又は21)を有し、 前記半導体レーザ(13)の発振波長がホログラム設計
    値より最大で±10nmずれているとき、前記走査用ホ
    ログラムレンズ(12)に入射する前記再生波(18)
    の光軸の入射点が設計時の入射点より最大で±1mm以
    下となるように前記走査用ホログラムレンズ(12)と
    収差補正用ホログラムレンズ(11又は21)を設計の
    段階で設定し、前記半導体レーザ(13)の発振波長の
    設計値からのずれ(Δλ)に対して、前記収差補正用ホ
    ログラムレンズ(11または21)と前記半導体レーザ
    (13)の間隔を、走査ビーム径の劣化を吸収するよう
    に定めることを特徴とする光ビーム走査装置。
JP61060833A 1985-07-31 1986-03-20 光ビーム走査装置 Expired - Fee Related JPH0617950B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61060833A JPH0617950B2 (ja) 1986-03-20 1986-03-20 光ビーム走査装置
CA000515003A CA1320855C (en) 1985-07-31 1986-07-30 Laser beam scanner and its fabricating method
DE86401720T DE3689344T2 (de) 1985-07-31 1986-07-31 Laserstrahlscanner und Herstellungsverfahren.
EP86401720A EP0214018B1 (en) 1985-07-31 1986-07-31 Laser beam scanner and its fabricating method
US07/269,412 US4957336A (en) 1985-07-31 1988-11-10 Laser beam scanner and its fabricating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61060833A JPH0617950B2 (ja) 1986-03-20 1986-03-20 光ビーム走査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62234117A true JPS62234117A (ja) 1987-10-14
JPH0617950B2 JPH0617950B2 (ja) 1994-03-09

Family

ID=13153753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61060833A Expired - Fee Related JPH0617950B2 (ja) 1985-07-31 1986-03-20 光ビーム走査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0617950B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1991004519A1 (en) * 1989-09-19 1991-04-04 Fujitsu Limited Achromatic hologram optical system
WO1992017808A1 (en) * 1991-03-27 1992-10-15 Fujitsu Limited Optical beam scanning apparatus, and method for manufacturing stationary hologram plate, and hologram rotor, and optical wiring apparatus

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59201017A (ja) * 1983-04-30 1984-11-14 Fujitsu Ltd 光ビ−ム走査装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59201017A (ja) * 1983-04-30 1984-11-14 Fujitsu Ltd 光ビ−ム走査装置

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5477348A (en) * 1989-09-19 1995-12-19 Fujitsu Limited Achromatic hologram optical system
WO1991004519A1 (en) * 1989-09-19 1991-04-04 Fujitsu Limited Achromatic hologram optical system
US5861964A (en) * 1991-03-27 1999-01-19 Fujitsu Limited Method of manufacturing light beam scanning apparatus and fixed hologram plate and rotatable hologram and light distributing apparatus
AU681784B2 (en) * 1991-03-27 1997-09-04 Fujitsu Limited Optical beam scanning apparatus, and method for manufacturing stationary hologram plate, and hologram rotor,and optical wiring apparatus
US5680253A (en) * 1991-03-27 1997-10-21 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus comprising a first and second diffraction grating plate
US5861989A (en) * 1991-03-27 1999-01-19 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus
WO1992017808A1 (en) * 1991-03-27 1992-10-15 Fujitsu Limited Optical beam scanning apparatus, and method for manufacturing stationary hologram plate, and hologram rotor, and optical wiring apparatus
US5940195A (en) * 1991-03-27 1999-08-17 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus
US5973837A (en) * 1991-03-27 1999-10-26 Fujitsu Limited Light distributing apparatus for dividing the light from a light source into a plurality of lights
US5978111A (en) * 1991-03-27 1999-11-02 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus
US6020999A (en) * 1991-03-27 2000-02-01 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus
US6020984A (en) * 1991-03-27 2000-02-01 Fujitsu Ltd. Light beam scanning apparatus using a rotating hologram and a fixed hologram plate
US6040929A (en) * 1991-03-27 2000-03-21 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus
US6091544A (en) * 1991-03-27 2000-07-18 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus
US6124955A (en) * 1991-03-27 2000-09-26 Fujitsu Limited Light beam scanning apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0617950B2 (ja) 1994-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7154651B2 (en) Optical scanning device and imaging apparatus implementing the same
US8014051B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus
JPH1068903A (ja) 走査光学装置
JPH02115814A (ja) 光ビーム走査装置
JP3559711B2 (ja) 走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置
JP3397638B2 (ja) 光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
JP3104618B2 (ja) 光学走査装置及び光学レンズ
JPS62234117A (ja) 光ビ−ム走査装置
US5008686A (en) Optical scanning device for scanning a predetermined surface with a plurality of light beams
JPH0521210B2 (ja)
JPH0524490B2 (ja)
EP0435662B1 (en) Hologram scanner and method of recording and reproducing hologram in the hologram scanner
JP3937305B2 (ja) 光記録装置
JPH10260371A (ja) 走査光学装置
JP3334488B2 (ja) 光走査装置
JPH04289814A (ja) 光走査装置
JPS6350814A (ja) 面倒れ補正走査光学系
JPS6353511A (ja) 面倒れ補正走査光学系
JP4652506B2 (ja) 走査光学装置
JP2791449B2 (ja) ホログラムスキャナ
JPH05313091A (ja) ホログラムスキャナ
JPH1144854A (ja) 光走査光学装置
JPS6321619A (ja) 面倒れ補正走査光学系
JPS6350813A (ja) 面倒れ補正走査光学系
JPH10221625A (ja) 光走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees