JP3334488B2

JP3334488B2 - 光走査装置

Info

Publication number: JP3334488B2
Application number: JP11675196A
Authority: JP
Inventors: 徹久野
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd; Fujifilm Business Innovation Corp
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1996-05-10
Filing date: 1996-05-10
Publication date: 2002-10-15
Anticipated expiration: 2016-05-10
Also published as: JPH09304712A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に係
り、より詳しくは、光源から出射される光ビームを被走
査面に対して主走査することによって該被走査面を走査
する光走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、内蔵した光走査装置によっ
て、記録すべき画像に基づく光ビームを記録面に対して
主走査及び副走査することによって該記録面に画像を露
光するプリンタが知られている。このようなプリンタに
おいては、記録面に照射する光ビームの１画素あたりの
点灯時間（パルス幅）を変え、露光される画像の面積を
変えることにより階調表現を行う方法が知られている
（ＰｕｌｓｅＷｉｄｔｈＭｏｄｕｌａｔｉｏｎ＝
ＰＷＭ方式）。

【０００３】このＰＷＭ方式においては、光走査装置で
のビーム径の設定を主走査方向について画素サイズより
も小さくすると階調表現の幅が広がることが知られてい
る。即ち、主走査方向のビーム径を画素サイズに対し小
さく設定することにより、濃度の低い領域を再現するこ
とが可能となり、かつ中・高濃度域の階調表現に関して
もその再現のばらつきが小さくなり一様性が増す。例え
ば、特開平３−２７７３号公報によると、主走査方向の
ビーム径を画素サイズに対し７０％以下に設定すると、
極めて高い効果があると示されている。これは４００線
のＰＷＭ方式の階調画像では約４４μｍ以下に、６００
線のＰＷＭ方式の階調画像では約３０μｍ以下に相当す
る。

【０００４】しかしながら、通常のレンズを用いた光学
系の光走査装置においては、主走査方向のビーム径を極
端に絞ることは困難である。即ち、レーザ光等の光ビー
ムをレンズを用いて結像させたビーム（ガウシアンビー
ム）の場合、ビーム径を小さくしていくと、該ビームの
焦点深度が浅くなってしまう。その一方で、光走査装置
においては、結像した光ビームの深度方向の中心位置
（ビームウエスト）が必ずしも被走査面に一致せず、若
干ずれるのが通例であり、また光源として用いることの
多いレーザダイオード素子は、周囲の温度変化に伴っ
て、出射する光ビームの波長が変動するため、ビームウ
エストの位置も変動してしまう。

【０００５】これらの制約、さらには設計公差などを考
えると、一般的な光走査装置の主走査方向のビーム径
は、７８０ｎｍの赤外光光源を用いた場合には４０μｍ
程度が、６７０ｎｍの可視光光源を用いた場合には３５
μｍ程度が、その限界であると考えられる。

【０００６】一方、近年では、コンパクトディスク、光
磁気ディスク、光走査装置等において、超解像現象を利
用して形成されるベッセルビームの適用が提案されてい
る。このベッセルビームは、第１種０次ベッセル関数の
２乗にほぼ比例する強度分布を示す光ビームであり、非
回折性ビームとも呼ばれる。

【０００７】上記超解像現象とは、光の干渉を利用した
ビーム径形成手法である。即ち、光軸上に同波長・同位
相の光を集光あるいは交差させ光の干渉域を形成する。
この干渉域において光軸上では光は常に強め合い、そこ
から外れた所では常に弱め合うため、結果としてレンズ
で光を結像する場合に似たビームスポットが得られる。
このようにして形成されるベッセルビームは、ビーム径
を極めて細く絞りつつ同時に深い焦点深度が得られると
いう特性を有する。

【０００８】しかしながら、このベッセルビームでは、
被走査面上で光軸中心に対し同心円状に大きな副極大
（サイドローブ）が発生すること、また光の干渉を利用
するため光の位相のオーダーで光学部材を調整取付けす
る必要があることなどから、実際の産業分野への適用は
困難であった。

【０００９】また、従来提案されているベッセルビーム
の光学系は、主走査・副走査といった方向性の区別な
く、円形ビームを小径化することに主眼が置かれてお
り、代表的なものとして、円形開口を通過した光の回折
光を干渉させてベッセルビームを発生させるもの（非回
折性レーザービーム／上原喜代治／応用物理５９巻６
号所載）、アキシコンプリズムを用いるもの（特開平４
−１７１４１５号公報参照）などが知られている。とこ
ろが、前者は、円形開口部での光量損失が極めて大き
く、その実用には極めて強力なレーザ光源を必要とする
ことなどから、産業分野への適用は困難であり、後者
は、光学部材の部分的なばらつき（例えば硝材の厚さ・
屈折率の部分的なばらつきなど）があった場合には、そ
れを補正することができず、やはり良好なベッセルビー
ムを実現するのは困難である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解消するために成されたものであり、超解像現象の利点
を活用し、サイドローブの悪影響を少なく抑えつつ主走
査方向のビーム径を画素サイズに比べごく小さく絞るこ
とができる光走査装置を提供することを第１の目的と
し、光学部材の位置精度出しを容易に行うことができる
光走査装置を提供することを第２の目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために、請求項１記載の光走査装置は、光源から出射
される光ビームを被走査面に対して主走査することによ
って該被走査面を走査する光走査装置であって、前記光
ビームを一方向について複数の光路に分割する分光光学
系と、前記分光光学系により複数の光路に分割された光
ビームを前記被走査面上に収束させる収束光学系と、を
有し、前記収束光学系で光ビームを収束させる際に、光
の干渉を発生させ、前記一方向についてベッセルビーム
を形成させる、ことを特徴とする。

【００１２】なお、上記一方向としては、主走査方向
や、被走査面において主走査方向に垂直な方向（以下、
副走査方向と称す）、或いはこれら以外の任意の１つの
方向を適用できる。

【００１３】この請求項１記載の光走査装置では、分光
光学系によって光ビームを一方向について複数の光路に
分割し、収束光学系によって、前記複数の光路に分割さ
れた光ビームを被走査面上に収束させる。この収束の際
に、光の干渉を発生させ、前記一方向についてベッセル
ビームを形成させる。このようにして一方向についての
みベッセルビームを形成する。

【００１４】例えば、一方向として主走査方向にのみ図
３（Ａ）に示すようなベッセルビームを形成し、それに
対し副走査方向は従来のように図３（Ｂ）に示すような
ガウシアンビームを形成する。このとき、主走査方向に
は１０μｍ程度の極端に小さなビーム径が、副走査方向
には通常の結像光学系で得られるクラスのビーム径が、
それぞれ実現でき、同時にサイドローブの発生も主走査
方向のみに限定される。

【００１５】このように請求項１記載の光走査装置によ
れば、サイドローブの悪影響を少なく抑えつつ主走査方
向のビーム径を画素サイズに比べごく小さく絞ることが
でき、階調表現の幅を広げることができる。

【００１６】次に、上記第２の目的を達成するために、
請求項２記載の光走査装置は、請求項１記載の光走査装
置において、前記複数の光路のうち少なくとも一方の光
路上に、光路長を調整する光路長調整手段を設けたこと
を特徴とする。

【００１７】また、上記第２の目的を達成するために、
請求項３記載の光走査装置は、請求項１又は請求項２に
記載の光走査装置において、前記分光光学系の傾きを補
正する傾き補正手段をさらに有することを特徴とする。

【００１８】上記請求項２記載の光走査装置のように、
複数の光路のうち少なくとも一方の光路上に、光路長を
調整する光路長調整手段を設けることにより、該光路長
調整手段によって光路長を微調整し、複数の光路に分割
された光ビームの波面調整を容易に行うことができ、好
適にベッセルビームを発生させる光の干渉状態を得るこ
とができる。

【００１９】また、上記請求項３記載の光走査装置のよ
うに、分光光学系の傾きを補正する傾き補正手段を具備
することにより、該補正手段によって分光光学系の傾き
補正を容易に行うことができ、好適にベッセルビームを
発生させる光の干渉状態を得ることができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る光走査装置の各種実施形態を順に説明する。

【００２１】［第１実施形態］図１に示す第１実施形態
の光走査装置１０には、光源としてのレーザダイオード
１２が設置されており、このレーザダイオード１２の出
射側近傍には、レーザダイオード１２からの光ビーム
を、拡散光から平行光に変換するためのコリメータレン
ズ１４が配置されている。

【００２２】コリメータレンズ１４で波面（位相）の揃
った平行光とされた光ビームは、シリンドリカルレンズ
１６を介して、２枚組の三角プリズム１８に入射し、こ
れら２枚組の三角プリズム１８によって主走査方向にみ
て２つの光路に分割され、波面の揃った２本の平行な光
ビームに変換される。２本の平行な光ビームはミラー２
０で反射された後、回転多面鏡２２の側面に設けられた
反射面２２Ｃ上に収束するようになっている。

【００２３】回転多面鏡２２は、その側面に反射面２２
Ｃを８面有すると共に、図示しないスキャナモータによ
って軸２２Ｂを中心に矢印Ｑ１方向に等角速度で回転し
ており、各反射面２２Ｃへの光ビームの入射角を連続的
に変化させ偏向する役割を有している。即ち、回転多面
鏡２２は、光ビームを偏向して矢印Ｍで示す主走査方向
に沿って走査させる。

【００２４】回転多面鏡２２によって偏向された光ビー
ムの進行方向には、該光ビームを被走査体２８における
被走査面２８Ａ上に主走査方向に収束させ且つ該収束点
を矢印Ｍで示す主走査方向に等速度移動させるためのｆ
θレンズ２４が配置されている。ｆθレンズ２４を透過
した光ビームは、シリンドリカルレンズ２６を介して被
走査面２８Ａ上に結像する。

【００２５】一方、ドラム状の被走査体２８は軸Ｖを中
心として矢印Ｑ２方向に回転している。即ち、被走査面
２８Ａは図１において紙面垂直方向に（副走査方向に）
スクロールしている。

【００２６】よって、上記ｆθレンズ２４の作用による
被走査面２８Ａ上の結像点の主走査方向に沿った等速度
移動と、被走査面２８Ａの副走査方向へのスクロール
と、によって、被走査面２８Ａは光ビームにより走査さ
れる。

【００２７】ところで、被走査面２８Ａ上に収束する光
ビームは、主走査方向については、２枚組の三角プリズ
ム１８によって一旦２つの光路に分割されるものの、ｆ
θレンズ２４によって被走査面２８Ａ上に収束すること
となる。このとき、光路が交差して光の干渉が発生し、
結果として主走査方向の断面を見るとベッセルビームが
形成される。

【００２８】一方、この光ビームは、副走査方向につい
ては、シリンドリカルレンズ１６によって回転多面鏡２
２の反射面２２Ｃ上に一旦収束する。反射面２２Ｃで偏
向されると同時に再度発散した光ビームは、シリンドリ
カルレンズ２６によって被走査面２８Ａ上に収束する。
このような構成とすることにより、光走査装置１０で
は、副走査方向において、反射面２２Ｃと被走査面２８
Ａとが光学的に共役の関係となり、反射面２２Ｃの面精
度のバラツキを補正する、いわゆる面倒れ補正光学系が
実現されている。このとき被走査面２８Ａ上に収束する
ビームプロファイルを副走査方向から見ると、ガウシア
ンビームとなる。

【００２９】以上説明した本第１実施形態の光走査装置
１０において、被走査面２８Ａ上に収束する光ビームの
ビームプロファイルについて、さらに説明を加える。

【００３０】まず、主走査方向成分のビームプロファイ
ルに関しては次の式（１）でその形状が表されること
が、特開平５−３０７１５１号公報に示されている。

【００３１】Ｉ₀(r)＝Ａ・Ｊ₀ ²（αｒ）・・・（１）但し、Ａ：定数、ｒ：光軸からの距離、α：定数、
Ｊ₀：１種０次ベッセル関数であり、実際の光学系に適
用する場合は、これにガウス関数を乗じた形に近似でき
ることが同文献に示されている。より具体的には、ビー
ムプロファイルの主走査方向の断面が図３（Ａ）に示す
ように中心部で急激に立ち上がる曲線となる。

【００３２】また、特開平６−１３９６１４号公報に
は、ベッセルビームを適用した場合に得られるビーム径
の大きさＤが次の式（２）で示されている。

【００３３】Ｄ＝０．８２λ／ＮＡ・・・（２）但し、λは使用する光の波長、ＮＡはその光学系の開口
数を示す。

【００３４】ここで、一例として波長λを７８０ｎｍ、
開口数ＮＡを０．０６２とした場合の光学系を想定する
と、この光学系によって形成されるビーム径は１０μｍ
となる。焦点深度は光学系の設定によるが、同程度のガ
ウシアンビームに比べて非常に深い深度が得られる。

【００３５】なお、特開平５−３０７１５１号公報に示
されるビーム径を１０μｍに絞った光走査装置の例で
は、ガウシアンビームを用いた光走査装置の焦点深度は
０．３ｍｍ程度しかないのに対し、ベッセルビームを用
いた光走査装置の焦点深度は１０ｍｍ程度となることが
示されている。即ち、像面湾曲の大きさ、温度変化に起
因した光ビームの波長変化による焦点位置のずれを考慮
すると、ガウシアンビームで１０μｍのビーム径を実現
するのは極めて困難であるが、ベッセルビームを用いれ
ば１０μｍ程度のビーム径を達成することが可能とな
る。

【００３６】但し、図２に示すように、ベッセルビーム
における主ビームの主走査方向両隣には、ガウシアンビ
ームに比べて大きなサイドローブが発生する。その大き
さは、メインビームに比べて、１次のサイドローブが１
５％程度、２次も１０％程度に及ぶ。ガウシアンビーム
の場合は大きくとも５％程度である。

【００３７】次に、本第１実施形態の光走査装置による
副走査方向のビーム径のプロファイルに注目する。これ
に関しては、図３（Ｂ）に示すように通常の結像光学系
で得られるガウシアンビームとなる。そのビーム径の大
きさは解像密度によって決まり、例えば６００ｄｐｉで
は４２μｍ以上に、４００ｄｐｉでは６３．５μｍ以上
に設定される。この副走査方向に関してはサイドローブ
の発生は小さく、大きくとも５％程度である。

【００３８】以上の説明から明らかなように、本第１実
施形態の光走査装置によれば、主走査方向に極めて細い
ビーム径の光ビームを被走査面に収束させることができ
る。計算の結果として、図４の線図には、３００ｄｐｉ
のＰＷＭ変調の階調画像を形成する際に、本構成の光走
査装置で主走査方向１０μｍのビーム径のベッセルビー
ムにより形成した場合の階調特性曲線Ｌ２と、従来のガ
ウシアンビームで主走査方向５０μｍのビーム径の光ビ
ームにより形成した場合の階調特性曲線Ｌ１とを示す。
なお、副走査方向は共に５０μｍのガウシアンビームと
する。

【００３９】図４の階調特性曲線Ｌ１、Ｌ２を比較した
場合、矢印Ｕ１部において階調特性曲線Ｌ２の方が立ち
上がりが良いことから、本第１実施形態の光走査装置に
よれば、再現開始濃度がより淡い側に移り、より淡い色
の再現が可能となる。また、階調特性曲線Ｌ２では、中
高濃度域のリニアリティが非常にフラットになるため、
従来リニアリティが悪かったときに必要であった複雑な
補正が不要となり、中間階調の再現を容易に行うことが
できる。

【００４０】［第２実施形態］次に、第２実施形態を説
明する。この第２実施形態は、請求項２記載の発明に対
応しており、光走査装置に光路長調整手段を設けた例を
示す。

【００４１】即ち、図５に示すように、第２実施形態の
光走査装置１０Ｓでは、図１に示す第１実施形態の光走
査装置１０において、ミラー２０と回転多面鏡２２との
間の分割された光路のうち一方の光路上に光路長調整手
段３０が設置されている。この光路長調整手段３０は、
図６（Ａ）に示すように、対向させて配置した２枚のく
さび型プリズム３０Ａ、３０Ｂによって構成されてい
る。さらに、この光路長調整手段３０では、一方のくさ
び型プリズム３０Ｂが矢印Ｇ１方向又は矢印Ｇ２方向に
移動できるよう構成されている。その移動手段としては
ピエゾ素子などが望ましい。なお、図５の例では、分割
された光路のうち一方の光路上に光路長調整手段３０を
設置しているが、分割された光路の各々に光路長調整手
段を設置しても良い。

【００４２】ここで、一方の光路にのみ上記光路長調整
手段３０を設置した場合の作用を説明する。なお、光路
長調整手段３０が設置されていない光路を光路Ａ、光路
長調整手段３０が設置された光路を光路Ｂとする。

【００４３】光路長調整手段３０（２枚組のくさび型プ
リズム３０Ａ、３０Ｂ）の中の光路長をＬ＋ΔＬ（ΔＬ
は調整のしろ）とすると、それぞれの光路を光が通過す
る時間は次のようになる。

【００４４】光路Ａ：（Ｌ＋ΔＬ）／ｃ・・・（３）光路Ｂ：（Ｌ＋ΔＬ）／ｖ＝ｎ・（Ｌ＋ΔＬ）／ｃ・・・（４）但し、ｃは真空中の光の速度、ｖはくさび型プリズム媒
質中の光の速度、ｎは三角プリズム媒質の屈折率、をそ
れぞれ示す。

【００４５】ここで、光ビームが光路Ｂを通過した直後
では、光ビームが光路Ｂに入射した時に同じ波面であっ
た光路Ａ側の光ビームの波面位置は、以下の式（５）で
示される。

【００４６】ｎ・（Ｌ＋ΔＬ）／ｃ×ｃ＝ｎ・（Ｌ＋ΔＬ）・・・（５）よって、光路Ａ側の光ビームと光路Ｂ側の光ビームと
は、以下のΔｘだけ波面位置がずれることになる。

【００４７】 Δｘ＝ｎ・（Ｌ＋ΔＬ）−（Ｌ＋ΔＬ）＝（ｎ−１）（Ｌ＋ΔＬ）・・・（６）ここで波長７８０ｎｍの光源に対し、その１／２０程度
の精度で波面調整を行う場合を考える。光路長調整手段
の調整量は前述の式（６）より、調整のしろΔＬ及びプ
リズムの屈折率ｎにより決まる。光路長調整手段の駆動
手段として分解能５μｍのピエゾ素子、くさび型プリズ
ムの頂角を１°とすると、その調整のしろΔＬは０．０
８７μｍピッチで動く。

【００４８】一方、くさび型プリズムの屈折率ｎを１．
５２（対波長７８０ｎｍ）とすると、式（６）より波
面位置のずれ量Δｘは、以下の式（７）で示される。

【００４９】 Δｘ＝（１．５２−１）（Ｌ＋８７ａ）＝０．５２Ｌ＋４５ａ・・・（７）（但し、単位はｎｍとし、ａは整数の定数とする）この式（７）より、ほぼ波長の５％ピッチで（４５／７
８０より）、波面調整が可能であることがわかる。実際
には、図６（Ａ）に示す矢印Ｇ１又は矢印Ｇ２方向にく
さび型プリズム３０Ｂを移動させることにより調整する
ことができる。

【００５０】上記のような波面調整は、図６（Ｂ）に示
すように、光路長調整手段としてウィンドウガラス３２
を使用し該ウィンドウガラス３２を矢印Ｊ方向に回転さ
せることによって実行しても良く、同様の作用・効果を
得ることができる。

【００５１】また、図６（Ｃ）に示すように、光路上に
１つの二等辺三角形プリズム３４Ａを配置し、該二等辺
三角形プリズム３４Ａによる光ビームの反射方向にもう
１つの二等辺三角形プリズム３４Ｂを配置することによ
り、光路長調整手段３４を構成しても良い。この図６
（Ｃ）の光路長調整手段３４では、二等辺三角形プリズ
ム３４Ｂを矢印Ｆ１又は矢印Ｆ２方向に移動させること
によって光路長を調整することができる。なお、図６
（Ｃ）の例では、プリズムに拘わらず組合せミラーなど
を用いても構わない。

【００５２】ところで、上記光走査装置１０Ｓにおいて
波面にずれが生じた状態で被走査面を走査した場合、光
路が分割された光ビーム同志の干渉に不具合が生じ、ビ
ーム径が細いベッセルビームは形成されない。そこで、
干渉に不具合が生じた状態を検知するために、実際に走
査する光ビームをＣＣＤカメラなどに導光して検知した
り、被走査面としての感光材料上に細線画像を露光・現
像しそのトナー像を調べたりすることが望ましい。

【００５３】［第３実施形態］次に、第３実施形態を説
明する。この第３実施形態は、請求項３記載の発明に対
応しており、光走査装置において分光光学系の傾きを補
正する例を説明する。

【００５４】この第３実施形態における光走査装置は、
第１実施形態の光走査装置と同様に図７に示すように２
枚組の三角プリズム１８Ａ、１８Ｂによって分光光学系
を構成しているものとする。

【００５５】これら三角プリズム１８Ａ、１８Ｂのうち
の一方、例えば三角プリズム１８Ａが、何らかの原因に
よって主走査方向に倒れ図７の点線Ｚ１の位置に変位し
た場合、該三角プリズム１８Ａの光軸中心は設計値から
ずれることになる。

【００５６】そこで、もう一方のプリズム１８Ｂを同じ
角度だけ矢印Ｗ１方向に沿って倒し、図７の点線Ｚ２の
位置に変位させる。これにより、該もう一方のプリズム
１８Ｂの光軸中心は同じ変位量だけ変位し、光路が光軸
設計値に水平となるよう補正される。さらに、分光光学
系１８よりも光の進行方向下流側に配置され主走査方向
にパワーを持つ光学部材（例えば、図１、図７に示すｆ
θレンズ２４など）への入射位置が変位するため、これ
ら主走査方向にパワーを持つ光学部材も同時に主走査方
向に水平移動させるよう補正する。

【００５７】これらの補正により、三角プリズムが主走
査方向に倒れた場合でも、目的とするビーム径及びビー
ムプロファイルの光ビームを形成することができる。

【００５８】一方、図８に示すように三角プリズム１８
Ａ、１８Ｂのうちの一方が何らかの原因によって副走査
方向に倒れた場合には、上記主走査方向に倒れた場合と
同様に、もう一方のプリズムを同じ副走査方向に同じ角
度だけ倒してやれば良い。

【００５９】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、サイドロ
ーブの悪影響を少なく抑えつつ主走査方向のビーム径を
画素サイズに比べごく小さく絞ることができ、階調表現
の幅を広げることができる、という効果が得られる。

【００６０】また、請求項２記載の発明によれば、複数
の光路に分割された光ビームの波面調整を容易に行うこ
とができ、好適にベッセルビームを発生させる光の干渉
状態を得ることができる、という効果が得られる。

【００６１】また、請求項３記載の発明によれば、補正
手段によって分光光学系の傾き補正を容易に行うことが
でき、好適にベッセルビームを発生させる光の干渉状態
を得ることができる、という効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１、第３実施形態における光走査装置の概略
構成図である。

【図２】第１実施形態の光走査装置によるビーム収束点
におけるビームプロファイルを示す図である。

【図３】（Ａ）は図２のビームプロファイルにおける主
走査方向の断面図であり、（Ｂ）は図２のビームプロフ
ァイルにおける副走査方向の断面図である。

【図４】従来のガウシアンビームによる光走査装置及び
本発明に係るベッセルビームによる光走査装置の各々の
階調性を示す線図である。

【図５】第２実施形態における光走査装置の概略構成図
である。

【図６】（Ａ）は光路長補正手段を２枚組のくさび型プ
リズムで構成した例を示す図であり、（Ｂ）はウインド
ウガラスの回転によって光路長を補正する例を示す図で
あり、（Ｃ）は２枚組の二等辺三角形プリズムのうちの
一方を移動させて光路長を補正する例を示す図である。

【図７】第３実施形態における光走査装置で、対向する
三角プリズムのうちの一方が主走査方向に倒れた場合の
補正例を示す図である。

【図８】図７の対向する三角プリズムのうちの一方が副
走査方向に倒れた場合の補正例を示す図である。

【符号の説明】

１０光走査装置１２レーザダイオード（光源）１８分光光学系１８Ａ、１８Ｂ三角プリズム２２回転多面鏡２４ｆθレンズ２８Ａ被走査面３０光路長補正手段３０Ａ、３０Ｂくさび型プリズム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＨ０４Ｎ 1/113

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光源から出射される光ビームを被走査面
に対して主走査することによって該被走査面を走査する
光走査装置であって、前記光ビームを一方向について複数の光路に分割する分
光光学系と、前記分光光学系により複数の光路に分割された光ビーム
を前記被走査面上に収束させる収束光学系と、を有し、前記収束光学系で光ビームを収束させる際に、光の干渉
を発生させ、前記一方向についてベッセルビームを形成
させる、ことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】前記複数の光路のうち少なくとも一方の
光路上に、光路長を調整する光路長調整手段を設けたこ
とを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】前記分光光学系の傾きを補正する傾き補
正手段をさらに有する請求項１又は請求項２に記載の光
走査装置。