JPS59201017A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents
光ビ−ム走査装置Info
- Publication number
- JPS59201017A JPS59201017A JP58076509A JP7650983A JPS59201017A JP S59201017 A JPS59201017 A JP S59201017A JP 58076509 A JP58076509 A JP 58076509A JP 7650983 A JP7650983 A JP 7650983A JP S59201017 A JPS59201017 A JP S59201017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hologram
- conversion element
- facet
- wave surface
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/106—Scanning systems having diffraction gratings as scanning elements, e.g. holographic scanners
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ）発明の技術分野
本発明は光ビーム走査装置に係り、とくにホログラムに
よる回折効果を用いる光ビーム走査装置に関する。
よる回折効果を用いる光ビーム走査装置に関する。
（ｂ）技術の背景
近年、Ｐ ＯＳ （Ｐａｉｎｔ−ｏｆ−ｓａｌｅ ）シ
ステムにおけるバーコード読取装置、あるいはレーザプ
リンタ等においてボログラムによる回折効果を利用した
光ビーム走査方式が用いられている。
ステムにおけるバーコード読取装置、あるいはレーザプ
リンタ等においてボログラムによる回折効果を利用した
光ビーム走査方式が用いられている。
この方式によれば、従来の回転ミラーを用いる光ビーム
走査方式に比して高速の走査が可能であり、また広い走
査幅を得るための光学系の構成が比較的小型かつ簡単に
なる等の利点を得ることができる。
走査方式に比して高速の走査が可能であり、また広い走
査幅を得るための光学系の構成が比較的小型かつ簡単に
なる等の利点を得ることができる。
上記のようなホログラムを利用した光ビーム走査方式を
用いる装置においては、例えばレーザプリンタ等に見ら
れるように、一般に走査面における光ビームに高い解像
度が要求され、走査光ビーム径を可及的に小さくするこ
とが必要とされるのであるが、広い走査幅を得るために
該走査面とポログラムディスクとの間の距離を大き（す
ると解像度が低下する伸開がある。
用いる装置においては、例えばレーザプリンタ等に見ら
れるように、一般に走査面における光ビームに高い解像
度が要求され、走査光ビーム径を可及的に小さくするこ
とが必要とされるのであるが、広い走査幅を得るために
該走査面とポログラムディスクとの間の距離を大き（す
ると解像度が低下する伸開がある。
（Ｃ）従来技術と問題点
本発明者等は、ポログラムの作成時に感光面に入射する
平面波を垂直方向からすらすことによって上記解像度の
低下を改善可能なことを見出した（特開昭５３−７５９
５０）。さらに本発明らは、走査面上における光ビーム
結像点を点光源とする発散波を走査用ホログラムに逆方
向に照射して得られる回折波と、別の波面との干渉によ
って形成されたホログラムを波面変換素子として用い、
光ビームを該波面変換素子を介して走査用ホログラムに
対して入射させることによって非点収差を低減する方法
を提案したく特願昭５７−５４４４８）。
平面波を垂直方向からすらすことによって上記解像度の
低下を改善可能なことを見出した（特開昭５３−７５９
５０）。さらに本発明らは、走査面上における光ビーム
結像点を点光源とする発散波を走査用ホログラムに逆方
向に照射して得られる回折波と、別の波面との干渉によ
って形成されたホログラムを波面変換素子として用い、
光ビームを該波面変換素子を介して走査用ホログラムに
対して入射させることによって非点収差を低減する方法
を提案したく特願昭５７−５４４４８）。
一方、光源として半導体レーザを用いた場合、該半導体
レーザ素子の温度変化によって出力光の波長が変動し、
その結果、走査面上での光ビーム位置が変動し、走査精
度が低下する点が問題とされ、その解決方法として、ホ
ログラムディスクによる光ビーム回折方向と逆傾向の方
向に光ビームを回折する機能を付されたホログラム板を
該レーザ光源と該ホログラムディスクの間に定置する方
法が提案されている（特公昭５６−７０５１７）。
レーザ素子の温度変化によって出力光の波長が変動し、
その結果、走査面上での光ビーム位置が変動し、走査精
度が低下する点が問題とされ、その解決方法として、ホ
ログラムディスクによる光ビーム回折方向と逆傾向の方
向に光ビームを回折する機能を付されたホログラム板を
該レーザ光源と該ホログラムディスクの間に定置する方
法が提案されている（特公昭５６−７０５１７）。
上記従来の方法においては、前記波面変換素子の作成お
よびごれを用いた走査において特別な光学系を用怠する
必要があること、あるいは前記ホログラム板に対して光
ビームを垂直に入射させるように走査装置を構成する必
要があること等のために、装置がニス１−高になり、ま
た、使用条件に対する制約を生しる等、実用化上障害と
なる欠点を有していた。
よびごれを用いた走査において特別な光学系を用怠する
必要があること、あるいは前記ホログラム板に対して光
ビームを垂直に入射させるように走査装置を構成する必
要があること等のために、装置がニス１−高になり、ま
た、使用条件に対する制約を生しる等、実用化上障害と
なる欠点を有していた。
＋ｄ＋発明の目的
本発明は上記従来の方法における問題点を解決し、かつ
走査面における収差の発生および半導体レーザ光源の波
長変動に基づく走査位置変動の双方が防止された光ビー
ム走査装置を提供可能とすることを目的とする。
走査面における収差の発生および半導体レーザ光源の波
長変動に基づく走査位置変動の双方が防止された光ビー
ム走査装置を提供可能とすることを目的とする。
（ｅ）発明の構成
本発明は、ホログラムファセットから構成されるホログ
ラムディスクを用いる光ビーム走査装置において、該ホ
ログラムファセットと同一のホログラムが形成された波
面変換素子を光源と該ホログラムディスクとの間に固定
して設け、該波面変換素子を介して該ポログラムディス
クに走査用光ビームを入射させることを主たる特徴とし
、この場合、ホログラムディスクと該波面変換素子とを
平行かつ近接させ、かつまた該波面変換素子に対する入
射ビームを該ホログラムディスクからの出射ビームの方
向から微少角ずらして入射させることによって、あるい
は該波面変換素子に対する入射ビームをホログラムディ
スクからの出射ビームの照射点近傍に集束するビームと
するか、あるいはまたホログラムディスクと該波面変換
素子との間にその透過率が入射角に対して依存性を有す
るフィルタを設けることによって、透過光（０次回折光
）を分離可能とすることを特徴とする。
ラムディスクを用いる光ビーム走査装置において、該ホ
ログラムファセットと同一のホログラムが形成された波
面変換素子を光源と該ホログラムディスクとの間に固定
して設け、該波面変換素子を介して該ポログラムディス
クに走査用光ビームを入射させることを主たる特徴とし
、この場合、ホログラムディスクと該波面変換素子とを
平行かつ近接させ、かつまた該波面変換素子に対する入
射ビームを該ホログラムディスクからの出射ビームの方
向から微少角ずらして入射させることによって、あるい
は該波面変換素子に対する入射ビームをホログラムディ
スクからの出射ビームの照射点近傍に集束するビームと
するか、あるいはまたホログラムディスクと該波面変換
素子との間にその透過率が入射角に対して依存性を有す
るフィルタを設けることによって、透過光（０次回折光
）を分離可能とすることを特徴とする。
（ｆ）発明の実施例
以下に本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本発明に係る光ビーム走査装置の概要構成を示
す図であって、例えば半導体レーザ等の光源（図示省略
）から出射され、レンズ（図示省略）によって集束され
た光ビーム１が軸Ｘ−Ｘを中心として矢印方向に回転す
るホログラムディスク２に入射し、ここで走査面３、例
えばレーザプリンタにおける静電記録用ドラム方向に回
折され、符号３１で示したように走査線上を移すノする
。一般に光ビーム走査装置においては、走査面上で光ビ
ームを高速度で反復走査する必要から、該諧ロクラムデ
ィスク２は符号２１で示したようなファセ・ノドと称さ
れる部分から構成されており、ホログラムディスク２の
回転にともなって光ビーム１の照射位置を該ファセット
２１が通過するごとに１走査が行われる。なお、レーザ
プリンタにおけるように、光ビームが走査面３上で同一
方向の直線上を反復走査される場合には、ホログラムデ
ィスク２上に同一のファセット２１が配置されることに
なる。
す図であって、例えば半導体レーザ等の光源（図示省略
）から出射され、レンズ（図示省略）によって集束され
た光ビーム１が軸Ｘ−Ｘを中心として矢印方向に回転す
るホログラムディスク２に入射し、ここで走査面３、例
えばレーザプリンタにおける静電記録用ドラム方向に回
折され、符号３１で示したように走査線上を移すノする
。一般に光ビーム走査装置においては、走査面上で光ビ
ームを高速度で反復走査する必要から、該諧ロクラムデ
ィスク２は符号２１で示したようなファセ・ノドと称さ
れる部分から構成されており、ホログラムディスク２の
回転にともなって光ビーム１の照射位置を該ファセット
２１が通過するごとに１走査が行われる。なお、レーザ
プリンタにおけるように、光ビームが走査面３上で同一
方向の直線上を反復走査される場合には、ホログラムデ
ィスク２上に同一のファセット２１が配置されることに
なる。
本発明の光ビーム走査装置においては、ホログラムディ
スク２に平行かつ近接して波面変換素子４が設けられて
いる。該波面変換素子４は前記ファセット２１と同一の
ホログラムが形成されており、光ビーム１の光路上に固
定されている。第２図は波面変換素子４近傍を中心とし
た断面における光ビーム１の光路を示した図であって、
入射光ビーム１は波面変換素子４で回折され、回折光１
１となる。μ回折光１１はホログラムディスク２上のフ
ァセット２１に入射してさらに回折され、回折光１２と
なる。このように波面変換素子４が存在することによっ
て、走査面上における光ビームの非点収差および該光ビ
ームの波長変動に基づく走査位置の変動が防止されるの
である。以下にその原理を詳細に説明する。
スク２に平行かつ近接して波面変換素子４が設けられて
いる。該波面変換素子４は前記ファセット２１と同一の
ホログラムが形成されており、光ビーム１の光路上に固
定されている。第２図は波面変換素子４近傍を中心とし
た断面における光ビーム１の光路を示した図であって、
入射光ビーム１は波面変換素子４で回折され、回折光１
１となる。μ回折光１１はホログラムディスク２上のフ
ァセット２１に入射してさらに回折され、回折光１２と
なる。このように波面変換素子４が存在することによっ
て、走査面上における光ビームの非点収差および該光ビ
ームの波長変動に基づく走査位置の変動が防止されるの
である。以下にその原理を詳細に説明する。
第３図に示すように、一般に球面波Ｓをホログラムディ
スク２のファセット２１に入射させると、走査面３上に
おける投射ビームＲには収差ＤＳを生じる。これを避け
るためには、第４図に示すようなくその回折光が走査面
上の一点Ｐに集束するような波面Ｑをファセット２１に
入射すればよい。このような波面Ｑを得るには、ファセ
ット２１に対して出射光波面Ｒと共役な波面Ｒｃを入射
すると、前記波面Ｑと共役な波面Ｑｃが得られること゛
を利用すればよい。すなわち前記波面変換素子４として
ファセット２１と同一のホログラムを該ファセット２１
の前に近接して配置し、これに対して前記波面Ｒｃの光
束を入射すると、ファセット２１に対して前記波面ＯＣ
が入射され、該波面Ｏｃを波面Ｑに等しいと見なすと、
収差のない波面Ｒが出射されるのである。なお、波面Ｒ
ｅとしては通常のレンズ等により得られる集束光を用い
ればよい。
スク２のファセット２１に入射させると、走査面３上に
おける投射ビームＲには収差ＤＳを生じる。これを避け
るためには、第４図に示すようなくその回折光が走査面
上の一点Ｐに集束するような波面Ｑをファセット２１に
入射すればよい。このような波面Ｑを得るには、ファセ
ット２１に対して出射光波面Ｒと共役な波面Ｒｃを入射
すると、前記波面Ｑと共役な波面Ｑｃが得られること゛
を利用すればよい。すなわち前記波面変換素子４として
ファセット２１と同一のホログラムを該ファセット２１
の前に近接して配置し、これに対して前記波面Ｒｃの光
束を入射すると、ファセット２１に対して前記波面ＯＣ
が入射され、該波面Ｏｃを波面Ｑに等しいと見なすと、
収差のない波面Ｒが出射されるのである。なお、波面Ｒ
ｅとしては通常のレンズ等により得られる集束光を用い
ればよい。
ところで、波面変換素子４を通過したＯ次回折光Ｐａが
現れるが、ファセット２１と波面変換素子４との間隔ｄ
、ファセｙ）２１と波面変換素子４の平行度、もしくは
波面Ｒｃの入射角のいずれかを微少量変化させることに
よって走査面上における投射ビームＰ（通常１次回折光
）と前記Ｏ次回折光ＰＯとを分離することができるので
、第５図に示すようにスリット５を設けることによって
容易にＰｏを除去できる。
現れるが、ファセット２１と波面変換素子４との間隔ｄ
、ファセｙ）２１と波面変換素子４の平行度、もしくは
波面Ｒｃの入射角のいずれかを微少量変化させることに
よって走査面上における投射ビームＰ（通常１次回折光
）と前記Ｏ次回折光ＰＯとを分離することができるので
、第５図に示すようにスリット５を設けることによって
容易にＰｏを除去できる。
つぎに、上記波面変換素子４を設けることによる、半導
体レーザを光源に用いた場合の出射光の波長変動に基づ
（走査位置ずれ防止効果の原理を第６図を用いて説明す
る。
体レーザを光源に用いた場合の出射光の波長変動に基づ
（走査位置ずれ防止効果の原理を第６図を用いて説明す
る。
同図において、いま簡単のためにファセット２１と波面
変換素子４とが平行であるとし、波面変換素子４に対す
る入射光■の波長をλ１および入射角をθｉ、波面変換
素子４による回折光の出射角をθｑ１、ファセット２１
に対する入射角をθｊ１、またその回折光Ｒの出射角を
θｒ１、また波面変換素子４およびファセット２１のボ
ログラムの空間周波数をそれぞれｆｉおよびｆｊとする
と、これらの間には次式の関係がある。 ゛ ｓｉｎ θｑｌ＝ｆｉλ１ −５ｉｎ θｉ・・・
・・・（１）ｓｉｎ θｒｌ＝ｆｊλ１ −５ｉｎ
θｊ■ ・ ・ ・ ・ ・ ・（２）波面変換素
子４とファセット２１とは平行であるから、 ｓ
ｉｎ θｑｌ＝ｓｉｎ θｊ１ ・ ・ ・・・
（３）したがって、 ｓｉｎ θｒｌ＝ （ｆｉ−ｆｊ） λＩ ＋ｓｉｎ
θｉ・・・（４１人入射光の波長がλ２となった場合
に、それぞれの添字を２で表すとすると、上記と同様に
して、ｓｉｎ θｒ２＝ （ｆｉ−ｆｊ） λ２ ＋
ｓｉｎ θｉ・・１５）式（４）および（５）から、 ｓｉｎ θｒ２−ｓｉｎ θｒｌ＝ （ｆｉ−ｆｊ）
（λ２−λ１）＝Δｆ ・Δλ ・・・・（６） 波面変換素子４とファセット２１とは同一のホログラム
であるからΔｆは極めて小さい。したがって、
θｒ２＃θｒｌ ・・・・・・（７）を得る。
変換素子４とが平行であるとし、波面変換素子４に対す
る入射光■の波長をλ１および入射角をθｉ、波面変換
素子４による回折光の出射角をθｑ１、ファセット２１
に対する入射角をθｊ１、またその回折光Ｒの出射角を
θｒ１、また波面変換素子４およびファセット２１のボ
ログラムの空間周波数をそれぞれｆｉおよびｆｊとする
と、これらの間には次式の関係がある。 ゛ ｓｉｎ θｑｌ＝ｆｉλ１ −５ｉｎ θｉ・・・
・・・（１）ｓｉｎ θｒｌ＝ｆｊλ１ −５ｉｎ
θｊ■ ・ ・ ・ ・ ・ ・（２）波面変換素
子４とファセット２１とは平行であるから、 ｓ
ｉｎ θｑｌ＝ｓｉｎ θｊ１ ・ ・ ・・・
（３）したがって、 ｓｉｎ θｒｌ＝ （ｆｉ−ｆｊ） λＩ ＋ｓｉｎ
θｉ・・・（４１人入射光の波長がλ２となった場合
に、それぞれの添字を２で表すとすると、上記と同様に
して、ｓｉｎ θｒ２＝ （ｆｉ−ｆｊ） λ２ ＋
ｓｉｎ θｉ・・１５）式（４）および（５）から、 ｓｉｎ θｒ２−ｓｉｎ θｒｌ＝ （ｆｉ−ｆｊ）
（λ２−λ１）＝Δｆ ・Δλ ・・・・（６） 波面変換素子４とファセット２１とは同一のホログラム
であるからΔｆは極めて小さい。したがって、
θｒ２＃θｒｌ ・・・・・・（７）を得る。
すなわち、光源として半導体レーザを用いた場合にその
出射光に波長変動Δλが生じても、ファセット２１から
の光ビームＲの出射方向の変動（θｒ１〜θｒ２）は極
めて小さく、走査面上における走査位置ずれを低減でき
ることになる。
出射光に波長変動Δλが生じても、ファセット２１から
の光ビームＲの出射方向の変動（θｒ１〜θｒ２）は極
めて小さく、走査面上における走査位置ずれを低減でき
ることになる。
第４図の説明において波面Ｑと波面Ｑｃとがほぼ等しい
と見なしており、第６図における波面変換素子４とファ
セット２１との間の距離ｄが小さいはど本発明の効果が
大きくなることを意味する。
と見なしており、第６図における波面変換素子４とファ
セット２１との間の距離ｄが小さいはど本発明の効果が
大きくなることを意味する。
第７図は本発明の他の実施例を示し、波面変換素子４と
ファセット２１との間に第８図に示すような透過率−入
射角特性を有するフィルタ６を設けることにより、波面
変換素子４の透過光（０次回折光）を減衰させる方法で
あり、フィルタ６は図示のように波面変換素子４の出射
側に接着された構造としてもよい。また、該フィルタ６
としては干渉フィルタの適当なものを用いることができ
る。
ファセット２１との間に第８図に示すような透過率−入
射角特性を有するフィルタ６を設けることにより、波面
変換素子４の透過光（０次回折光）を減衰させる方法で
あり、フィルタ６は図示のように波面変換素子４の出射
側に接着された構造としてもよい。また、該フィルタ６
としては干渉フィルタの適当なものを用いることができ
る。
本発明の従来の方法に対する主な利点は、ホログラムを
用いた光ビーム走査装置における非点収差ならびに光源
波長の変動に基づく走査精度の低下をともに減少させる
ことが可能であること、波面変換素子４として、ファセ
ット２１とまったく同一のホログラムを用いるのでその
製造が容易であること、光ビームは波面変換素子４に対
して垂直に入射させる必要はなく、かつ波面変換素子４
とファセット２１とをほぼ平行に設けるために光ビーム
走査系を小型できかつ構成が容易になること、さらに以
上により光ビーム走査装置の製造コストを低減できるこ
と等である。
用いた光ビーム走査装置における非点収差ならびに光源
波長の変動に基づく走査精度の低下をともに減少させる
ことが可能であること、波面変換素子４として、ファセ
ット２１とまったく同一のホログラムを用いるのでその
製造が容易であること、光ビームは波面変換素子４に対
して垂直に入射させる必要はなく、かつ波面変換素子４
とファセット２１とをほぼ平行に設けるために光ビーム
走査系を小型できかつ構成が容易になること、さらに以
上により光ビーム走査装置の製造コストを低減できるこ
と等である。
（ｇ）発明の効果
本発明によれば、高走査精度ならびに高品質の光ビーム
走査を可能な、かつ低コストの光ビーム走査装置を提供
できる効果がある。
走査を可能な、かつ低コストの光ビーム走査装置を提供
できる効果がある。
第１図および第２図は本発明に係る光ビーム走査装置の
構成概要を示す図および部分断面における光路を示す図
、第３図から第６図は本発明により非点収差および光源
波長変動に基づ（走査位置ずれの発生が防止される原理
を説明するための図、第７図および第８図は本発明の他
の実施例を示す図である。 図において、１は光ビーム、２はホログラムディスク、
３ば走査面、４は波面変換素子、５はスリット、６はフ
ィルタ、１１および１２は回折光、２１はファセット、
３１走査線である。 晃２ 図 、（−１，Ｌ−
構成概要を示す図および部分断面における光路を示す図
、第３図から第６図は本発明により非点収差および光源
波長変動に基づ（走査位置ずれの発生が防止される原理
を説明するための図、第７図および第８図は本発明の他
の実施例を示す図である。 図において、１は光ビーム、２はホログラムディスク、
３ば走査面、４は波面変換素子、５はスリット、６はフ
ィルタ、１１および１２は回折光、２１はファセット、
３１走査線である。 晃２ 図 、（−１，Ｌ−
Claims (4)
- （１）ホログラムファセットから構成されるホログラム
ディスクを用いる光ビーム走査装置において、該ホログ
ラムファセットと同一のホログラムが形成された波面変
換素子を光源と該ホログラムディスクとの間に固定して
設け、該波面変換素子を介して該ホログラムディスクに
走査用光ビームを入射させることを特徴とする光ビーム
走査装置。 - （２）ホログラムディスクと該波面変換素子とを平行か
つ近接させ、かつまた該波面変換素子に対する入射ビー
ムを該ホログラムディスク−がらの出射ビームの方向か
ら微少角ずらして入射させることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の光ビーム走査装置。 - （３）該波面変換素子に対する入射ビームをホログラム
ディスクからの出射ビームの照射点近傍に集束するビー
ムとすることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
光ビーム走査装置。 - （４）ホ・グラムディ妥りと該波面変換素子との間にそ
の透過率が入射角に対して依存性を有するフィルタを設
けることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３
項記載の光ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58076509A JPS59201017A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光ビ−ム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58076509A JPS59201017A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光ビ−ム走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59201017A true JPS59201017A (ja) | 1984-11-14 |
| JPH0371691B2 JPH0371691B2 (ja) | 1991-11-14 |
Family
ID=13607218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58076509A Granted JPS59201017A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光ビ−ム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59201017A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62234118A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-10-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 |
| JPS62234117A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-10-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
| US4957336A (en) * | 1985-07-31 | 1990-09-18 | Fujitsu Limited | Laser beam scanner and its fabricating method |
| US5471326A (en) * | 1993-04-30 | 1995-11-28 | Northrop Grumman Corporation | Holographic laser scanner and rangefinder |
| CN109188585A (zh) * | 2018-10-18 | 2019-01-11 | 华北水利水电大学 | 一种用于光学扫描的双结构光栅器件与制作方法 |
-
1983
- 1983-04-30 JP JP58076509A patent/JPS59201017A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4957336A (en) * | 1985-07-31 | 1990-09-18 | Fujitsu Limited | Laser beam scanner and its fabricating method |
| JPS62234118A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-10-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 |
| JPS62234117A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-10-14 | Fujitsu Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
| JPH0524490B2 (ja) * | 1986-03-20 | 1993-04-08 | Fujitsu Ltd | |
| US5471326A (en) * | 1993-04-30 | 1995-11-28 | Northrop Grumman Corporation | Holographic laser scanner and rangefinder |
| CN109188585A (zh) * | 2018-10-18 | 2019-01-11 | 华北水利水电大学 | 一种用于光学扫描的双结构光栅器件与制作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0371691B2 (ja) | 1991-11-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4701005A (en) | Light beam combining method and apparatus | |
| EP0132956B1 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| US5724334A (en) | Optical head device utilizing super-resolution technique | |
| JPH0554184B2 (ja) | ||
| JPH11219529A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPS59201017A (ja) | 光ビ−ム走査装置 | |
| JPH09282699A (ja) | ２焦点光ヘッド装置 | |
| KR0133497B1 (ko) | 편광 검출기 | |
| JPH1058743A (ja) | アレイ状光源を備えたスキャナー装置および画像記録装置 | |
| JP2684781B2 (ja) | 光ヘッド装置 | |
| JP3162969B2 (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPH0712104B2 (ja) | 半導体レ−ザ | |
| JPS6228708A (ja) | 光ビ−ム走査装置及びその製造方法 | |
| JP3172360B2 (ja) | ビーム３分割用反射型回折格子およびこれを用いた光ピックアップ | |
| JPS6244332Y2 (ja) | ||
| JPH0560997A (ja) | 光走査装置 | |
| JPS6093643A (ja) | 光学ヘツド | |
| JPH04248134A (ja) | 光ピックアップ | |
| JPH03292644A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| KR0165334B1 (ko) | 광픽업장치 | |
| JPH04241234A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JP3294092B2 (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPS6093642A (ja) | 光学ヘツド | |
| JPH04204413A (ja) | 光走査装置 | |
| JPS5827890B2 (ja) | ビデオデイスク再生装置における光ビ−ム分岐装置 |