JPS62229202A - 集中したエネルギ−を用いて材料を処理する装置 - Google Patents
集中したエネルギ−を用いて材料を処理する装置Info
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- JPS62229202A JPS62229202A JP62027428A JP2742887A JPS62229202A JP S62229202 A JPS62229202 A JP S62229202A JP 62027428 A JP62027428 A JP 62027428A JP 2742887 A JP2742887 A JP 2742887A JP S62229202 A JPS62229202 A JP S62229202A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B13/00—Machines and apparatus for drying fabrics, fibres, yarns, or other materials in long lengths, with progressive movement
- F26B13/001—Drying and oxidising yarns, ribbons or the like
- F26B13/002—Drying coated, e.g. enamelled, varnished, wires
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
- B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
- B05D3/065—After-treatment
- B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/20—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to wires
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はコーティング(coaLiB)材料を硬化する
装置に関し、そして更に詳細にはコートした7アイパ又
はワイヤの如き妥素を照射する装置に関する。
装置に関し、そして更に詳細にはコートした7アイパ又
はワイヤの如き妥素を照射する装置に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする問題点通信を含
む種々の適用において伝導するのに使用される如き尤フ
ァイバ(optical fibers)は典型的に
は1又はそれ以上の重合体の層でコートされており、こ
れ等の層は尤ファイバを水分及び摩111から防止して
ミクロベンディング(旧er・obendi口g)損失
を減少し、そしてファイバの容易な収扱いを許容してい
る。
む種々の適用において伝導するのに使用される如き尤フ
ァイバ(optical fibers)は典型的に
は1又はそれ以上の重合体の層でコートされており、こ
れ等の層は尤ファイバを水分及び摩111から防止して
ミクロベンディング(旧er・obendi口g)損失
を減少し、そしてファイバの容易な収扱いを許容してい
る。
光ファイバをコーティングする典型的な方法に於いて、
液体光硬化(pl+otocurable)重合体材料
がファイバの表面に塗布され、それは次に例えば、紫外
籾の如き放射エネルギーを用いてコートされたファイバ
を照射することによって硬化される。
液体光硬化(pl+otocurable)重合体材料
がファイバの表面に塗布され、それは次に例えば、紫外
籾の如き放射エネルギーを用いてコートされたファイバ
を照射することによって硬化される。
重合体配合物及び/又はコーティング方法を変更するこ
と、及び硬化放射線の最適波長を選択することの如き技
法によってコーティング及び硬化プロセスの効率を改良
しようとする試みが従来の技術において行なわれて米だ
、硬化プロセスにおいて改良が行われることが出来るよ
うに思われた1つの領域は重合体を硬化するのに使Jl
される放射エネルギーのより有効な使用にある。
と、及び硬化放射線の最適波長を選択することの如き技
法によってコーティング及び硬化プロセスの効率を改良
しようとする試みが従来の技術において行なわれて米だ
、硬化プロセスにおいて改良が行われることが出来るよ
うに思われた1つの領域は重合体を硬化するのに使Jl
される放射エネルギーのより有効な使用にある。
従って本発明の1つの目的は放射エネルギーをこのよう
なエネルギーで処理される材料上に集中する装置を提供
することである。
なエネルギーで処理される材料上に集中する装置を提供
することである。
他の目的は光フアイバ上にコートされた液体重合体を冶
史化する改良された装置を提供することである。
史化する改良された装置を提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明によれば、源から、照射されるべき材料上に放射
される放射エネルギーを集中する3つの(3)反射鏡を
1支備する集中した放射エネルギーを用いて材料を処理
する装置が提供される。
される放射エネルギーを集中する3つの(3)反射鏡を
1支備する集中した放射エネルギーを用いて材料を処理
する装置が提供される。
本発明では楕円の反射鏡と呼ばれる第1及び第2の反射
鏡の組合わせは第1の、又は源焦点と、f:tfJ2の
、又は物体(oh、1ect)焦点とを有している楕円
の表1n1を具備している。本発明では補助反射鏡と呼
ばれている第3の反射鏡は凹面の反射面を備えており、
且つ物体焦点の近くに位置されていて、楕円の反射鏡の
双方の焦ズ、r、の方に面している凹面の反射面をもっ
ている。
鏡の組合わせは第1の、又は源焦点と、f:tfJ2の
、又は物体(oh、1ect)焦点とを有している楕円
の表1n1を具備している。本発明では補助反射鏡と呼
ばれている第3の反射鏡は凹面の反射面を備えており、
且つ物体焦点の近くに位置されていて、楕円の反射鏡の
双方の焦ズ、r、の方に面している凹面の反射面をもっ
ている。
本装置dは楕円の反射鏡の1つの焦点に、又はその近く
に放射され、そして他力の焦点番こ達する光拭を実質的
な程度まで増加する。
に放射され、そして他力の焦点番こ達する光拭を実質的
な程度まで増加する。
楕円形状をイ1する反射鏡の場合1こ、粁;円の1万の
焦点から放射されるすべての光線は、源が点前ノ、′1
.である限り他方の焦点に達する;しかし乍ら光線が点
の源ではなく、事実、容積(yglu+ae)の源であ
れば、光源から放射される光の主部分はj、i 、eA
において生ずるのではなく、その代りに焦点から間隔を
へだてられている源の容積内の点から生ずる。
焦点から放射されるすべての光線は、源が点前ノ、′1
.である限り他方の焦点に達する;しかし乍ら光線が点
の源ではなく、事実、容積(yglu+ae)の源であ
れば、光源から放射される光の主部分はj、i 、eA
において生ずるのではなく、その代りに焦点から間隔を
へだてられている源の容積内の点から生ずる。
容積の源かC)の光線の大部分は、それ等はほば第2の
焦、1.“ヱの近くを通過するが、第2の焦点を通過し
ない0本発明において、硬化(curing)装置は物
体焦点の近くに配置されている凹面の反射面を具備して
いる補助反射鏡を含む。この補助反射鏡は、物体焦点の
近くを通過する光線が凹面に当たりそして物体焦点の近
く、又はそれを通過するラインに向きを変えられるよう
に方向づけされている。
焦、1.“ヱの近くを通過するが、第2の焦点を通過し
ない0本発明において、硬化(curing)装置は物
体焦点の近くに配置されている凹面の反射面を具備して
いる補助反射鏡を含む。この補助反射鏡は、物体焦点の
近くを通過する光線が凹面に当たりそして物体焦点の近
く、又はそれを通過するラインに向きを変えられるよう
に方向づけされている。
物体焦点内又はその近くで材料に当たる増加した放射線
は意外に大きな程度まで増加される。
は意外に大きな程度まで増加される。
実施例
本発明の装置は、ワイヤ状又はロンド状の材料が放射エ
ネルギーで処理されるべき材料でコートされる種々のプ
ロセスに使用されることかて赤きる。
ネルギーで処理されるべき材料でコートされる種々のプ
ロセスに使用されることかて赤きる。
例えば、ワイヤ又はロッド上のペンキ又はインキを硬化
(cure)又は乾燥するのに使用されることがでさる
;しかし乍ら、本発明はここでは光フアイバ上にコート
され、そして紫外線で処理される光硬化(pbotoc
urable)材料を硬化する場合の使用によって詳細
に説明する。
(cure)又は乾燥するのに使用されることがでさる
;しかし乍ら、本発明はここでは光フアイバ上にコート
され、そして紫外線で処理される光硬化(pbotoc
urable)材料を硬化する場合の使用によって詳細
に説明する。
本発明の装置は放射エネルギー源と反射鏡とを共備して
おり、この反射鏡は未硬化重合体でコートされるガラス
ファイバ上に源から放射される光線を集中するようにな
っている。コーティングとして有用である配合物、コー
ティング塗布方法、及び紫外縁放射の使用による如きコ
ーティングの硬化方法は当技術において公知であり、且
つ、例えば、ヴアジラニイ(Vaziruni)に対す
る米国特許第4,099,837号、マーチン(Mar
tin)に対する米じ1特許fjS4,115,087
号、レビイ(Levy)にメ1jt′る米国時、?’F
#4,324.575号泣ゾビショップ(B 1Sho
p)等に対する米国第4,514.037号に記載され
ている。コーティング材料の組成及びガラスファイバへ
のコーティング材料の塗布方法は本発明の部分を構成し
ておらず、そしコーティング材料の組成及びガラスファ
イバのコーティング材料の塗布方法に関する上述の特許
のこれ等の部分は引用によってここに組入れられている
。
おり、この反射鏡は未硬化重合体でコートされるガラス
ファイバ上に源から放射される光線を集中するようにな
っている。コーティングとして有用である配合物、コー
ティング塗布方法、及び紫外縁放射の使用による如きコ
ーティングの硬化方法は当技術において公知であり、且
つ、例えば、ヴアジラニイ(Vaziruni)に対す
る米国特許第4,099,837号、マーチン(Mar
tin)に対する米じ1特許fjS4,115,087
号、レビイ(Levy)にメ1jt′る米国時、?’F
#4,324.575号泣ゾビショップ(B 1Sho
p)等に対する米国第4,514.037号に記載され
ている。コーティング材料の組成及びガラスファイバへ
のコーティング材料の塗布方法は本発明の部分を構成し
ておらず、そしコーティング材料の組成及びガラスファ
イバのコーティング材料の塗布方法に関する上述の特許
のこれ等の部分は引用によってここに組入れられている
。
本発明は硬化放射#il(curingradiati
on)の性質によって限定されず、そして、例えば、赤
外又は紫外放射線を用いて使用されることが′cbる。
on)の性質によって限定されず、そして、例えば、赤
外又は紫外放射線を用いて使用されることが′cbる。
紫外放射線使用の好ましい実施態様において、マイクロ
波によって付勢されるWc電極放′屯ランプが利用され
る、従って本発明は好ましい′A施態様の記載によって
より詳細に例示されている。
波によって付勢されるWc電極放′屯ランプが利用され
る、従って本発明は好ましい′A施態様の記載によって
より詳細に例示されている。
第1図はハウジング54内に取イ・1けられており、且
つマグネトロン50がら導波管52を通りマイクロ波エ
ネルギーを供給される本発明の装置を示している。無電
極放電ランプを付勢する装置は当技術において公知であ
り、そして1犬施想様がウリイ([Jry)に対する米
国特許ttS4,359.(568号に記載されている
。
つマグネトロン50がら導波管52を通りマイクロ波エ
ネルギーを供給される本発明の装置を示している。無電
極放電ランプを付勢する装置は当技術において公知であ
り、そして1犬施想様がウリイ([Jry)に対する米
国特許ttS4,359.(568号に記載されている
。
!ll’s1図及び第2しIにおいて、マイクロ波エネ
ルギーによって付勢される管状の無電極紫外m源30が
、本発明では源焦点(!Iource forcus
)と呼ばれている、反射鏡20の内部焦ノ、χ26に中
心を合わされ、そしてガラスファイバ44が、本発明で
は物体焦点(ob、1ccL t’orcus)と呼
ばれている、反射鏡20の外部焦点に示されている。反
射鏡10はその焦点が反射鏡20の焦点に一致するよう
に配置される。好ましくは実質的に純粋な石英で作られ
ている透明な管40が反射鏡20の物体焦点にその軸線
力向に実質的に一致し′C配置されている。
ルギーによって付勢される管状の無電極紫外m源30が
、本発明では源焦点(!Iource forcus
)と呼ばれている、反射鏡20の内部焦ノ、χ26に中
心を合わされ、そしてガラスファイバ44が、本発明で
は物体焦点(ob、1ccL t’orcus)と呼
ばれている、反射鏡20の外部焦点に示されている。反
射鏡10はその焦点が反射鏡20の焦点に一致するよう
に配置される。好ましくは実質的に純粋な石英で作られ
ている透明な管40が反射鏡20の物体焦点にその軸線
力向に実質的に一致し′C配置されている。
組合わせて、楕円形の反射鏡を形成している反射鏡1(
)及び20は、反射鏡10のリップ(tip)12及び
14と、反射鏡20のリップ22及び24とを一緒に固
定している。本発明の好ましい天施想様シこす5いて、
反射鏡20及び]()け各々杼1円の半分の[り肖n1
を有している桶(L r a uビ1−)状の411I
造体である。反射鏡のこのような配置6は新規ではなく
、且つ例えば1 !380年11月271]に発行され
たH木特許rj′S55−152567 号1.:m示
3レ−(イル。
)及び20は、反射鏡10のリップ(tip)12及び
14と、反射鏡20のリップ22及び24とを一緒に固
定している。本発明の好ましい天施想様シこす5いて、
反射鏡20及び]()け各々杼1円の半分の[り肖n1
を有している桶(L r a uビ1−)状の411I
造体である。反射鏡のこのような配置6は新規ではなく
、且つ例えば1 !380年11月271]に発行され
たH木特許rj′S55−152567 号1.:m示
3レ−(イル。
本発明によれば、本装置6は、管40の外面」−にある
ように第2図に示されている補助反射鏡42を含んでい
る。この実施態様において、反射面42は17の内方部
分上にあるか又は管の外方部分にあることができるが;
しかし乍ら、反射面が管40上にある実施態様では、反
射面は好ましくは図示の如く管の外側上にある。
ように第2図に示されている補助反射鏡42を含んでい
る。この実施態様において、反射面42は17の内方部
分上にあるか又は管の外方部分にあることができるが;
しかし乍ら、反射面が管40上にある実施態様では、反
射面は好ましくは図示の如く管の外側上にある。
第2〆1に示された如く、円筒状本体の表面に配置され
る代りに、補助反射鏡は第4図に示された42aの如く
独立本体であることができる。補助反射鏡42uは支持
手段43によって所定の位置に保持されており、この支
持−j−1¥i4:)は反射鏡10uとIObとの闇の
Iaj 閤41を通ってKびている。
る代りに、補助反射鏡は第4図に示された42aの如く
独立本体であることができる。補助反射鏡42uは支持
手段43によって所定の位置に保持されており、この支
持−j−1¥i4:)は反射鏡10uとIObとの闇の
Iaj 閤41を通ってKびている。
この装置4は管40uが不存在のとき補助反射鏡の使用
を許容することは明らかである。
を許容することは明らかである。
補助反射鏡42に対する反射材料は紫外線を反射し、そ
してマイクロ波エネルギーを吸収しない任意の物質であ
ることができる。公知の技術の技法によって塗布される
アルミニウムで処理したコーティングが適している。
してマイクロ波エネルギーを吸収しない任意の物質であ
ることができる。公知の技術の技法によって塗布される
アルミニウムで処理したコーティングが適している。
補助反則面42によって占められている弧の形状及びそ
の方向においていくつかの変形があるが、好ましい実施
態様では、この弧は円の1部分であり、その中心は楕円
形の反射鏡の2つの焦点間に延びているライン」二にあ
って、そしてそれは約80度乃JA100度、好ましく
は約90度の角度に則している1本発明の好ましい形式
において、管40は実質的に物体焦点」―にその軸線を
有している円筒状の本体である。。
の方向においていくつかの変形があるが、好ましい実施
態様では、この弧は円の1部分であり、その中心は楕円
形の反射鏡の2つの焦点間に延びているライン」二にあ
って、そしてそれは約80度乃JA100度、好ましく
は約90度の角度に則している1本発明の好ましい形式
において、管40は実質的に物体焦点」―にその軸線を
有している円筒状の本体である。。
公知の如く、楕円の1方の焦点から放射する光線は楕円
の他方の焦点上に当たる、第2図の実施態様にJjいて
、焦点26を通過するフィン上の諒30から放射される
aによって表わされた光線は直接物体焦点の方に反射鏡
20の内面から反射される。しかし乍ら、例えば、ライ
ンI】によって表わされたような悉3()の表面32に
対しタンジエンI−で放射される光線の如く、焦点26
以外の点(°源から放射される光線は、それ等が他力の
焦点の近くを通過rるが、他方の焦点に当らない。しか
し乍ら、物体用)、、1.1こIf接当たらないこれ等
の光線の実質的な部分は反射鏡42によってさえぎられ
′C1そして物体焦点の力に1111反射される。反射
鏡42の不存在の場合には、これ等の光線は反射鏡10
に当たり、そしてまた反射されるが;しかじ午C)、一
般的に、焦点26を通過するライン」二で生じたのでは
なく、且つ反射鏡10から反射されるこれ等の光線は物
体焦点を通過しない。
の他方の焦点上に当たる、第2図の実施態様にJjいて
、焦点26を通過するフィン上の諒30から放射される
aによって表わされた光線は直接物体焦点の方に反射鏡
20の内面から反射される。しかし乍ら、例えば、ライ
ンI】によって表わされたような悉3()の表面32に
対しタンジエンI−で放射される光線の如く、焦点26
以外の点(°源から放射される光線は、それ等が他力の
焦点の近くを通過rるが、他方の焦点に当らない。しか
し乍ら、物体用)、、1.1こIf接当たらないこれ等
の光線の実質的な部分は反射鏡42によってさえぎられ
′C1そして物体焦点の力に1111反射される。反射
鏡42の不存在の場合には、これ等の光線は反射鏡10
に当たり、そしてまた反射されるが;しかじ午C)、一
般的に、焦点26を通過するライン」二で生じたのでは
なく、且つ反射鏡10から反射されるこれ等の光線は物
体焦点を通過しない。
本発明による補助反射鏡の使用が物体焦点を通過する光
の強さを変化する程度を決定するために、光プローブ(
optical probe)が0′s1図及1t5
2図に従って構成されたシステムにおける石英管内に取
付けられた。その石英管は直径約1.9cn+であり、
そして楕円の反射鏡は長さ約6インチ(約152.5m
u+)の長軸及び長さ約4インチ(約101゜6+*m
)の短軸を有している。プローブは回転i+ff1li
であり、且つ360度の弧内の任意の方向からの物体の
焦点の方に向けられた光を集光するようになっていた。
の強さを変化する程度を決定するために、光プローブ(
optical probe)が0′s1図及1t5
2図に従って構成されたシステムにおける石英管内に取
付けられた。その石英管は直径約1.9cn+であり、
そして楕円の反射鏡は長さ約6インチ(約152.5m
u+)の長軸及び長さ約4インチ(約101゜6+*m
)の短軸を有している。プローブは回転i+ff1li
であり、且つ360度の弧内の任意の方向からの物体の
焦点の方に向けられた光を集光するようになっていた。
プローブに当たる尤腺の相対的強さは補助反射鏡のない
システムと、90度の弧を占めている反射鏡を備えてい
て第1図及び第2図に従って配置された補助反射鏡を備
えた同じシステムとに対して測定された。
システムと、90度の弧を占めている反射鏡を備えてい
て第1図及び第2図に従って配置された補助反射鏡を備
えた同じシステムとに対して測定された。
得られたデータが第3図のグツ7にプロットされた。
rAJで示されているド方の線は補助反射鏡なしのシス
テムの場合であり、l’13.Iで示された上方の線は
補助反射鏡を備えたシステムの場合である。
テムの場合であり、l’13.Iで示された上方の線は
補助反射鏡を備えたシステムの場合である。
横座標の関連する角度は第2図の石英管に示された如く
である。
である。
明らかな如く、補助反射鏡は物体j、t% )αの方に
向けC)れな尤の強さは0度から約90度及び約270
度から約360度に者しく増加している。この強さの増
加はく)度から45反及び:4 l 5度から1360
度の弧において約18.5%であり、そして強さの全体
の増加は約14%であった。
向けC)れな尤の強さは0度から約90度及び約270
度から約360度に者しく増加している。この強さの増
加はく)度から45反及び:4 l 5度から1360
度の弧において約18.5%であり、そして強さの全体
の増加は約14%であった。
本発明に尼戟された実施態様は本発明を例示するのみを
、白1図しており、そして添イ・1の特許11+’l求
の範囲によってのみ限定されるべきである本発明の範囲
内に入るすべ′Cの変更を含むのが本出願人の意図であ
る。
、白1図しており、そして添イ・1の特許11+’l求
の範囲によってのみ限定されるべきである本発明の範囲
内に入るすべ′Cの変更を含むのが本出願人の意図であ
る。
第1図は本発明の実施態様の概略的立面図である。
第2図は第1図の実施態様の平面図である。
第3図は補助反射鏡があるとさ及びないときのf51図
及V第2図の実施態様にM似の装置の物体用、―、″t
の方に種々の方向から米る光の相対的強さのグ″77的
表現である。 第4図は本発明の他の実施態様のヅ1n1し1である。 10.20・・・・反射鏡 40・・・・・・・管 42a ・・・・・・補助反射鏡 43・・・・・・・支持手段 44・・・・拳・・ガラスファイバ 50・・・・・・・マグネトロン 52・・・・・・・導波管
及V第2図の実施態様にM似の装置の物体用、―、″t
の方に種々の方向から米る光の相対的強さのグ″77的
表現である。 第4図は本発明の他の実施態様のヅ1n1し1である。 10.20・・・・反射鏡 40・・・・・・・管 42a ・・・・・・補助反射鏡 43・・・・・・・支持手段 44・・・・拳・・ガラスファイバ 50・・・・・・・マグネトロン 52・・・・・・・導波管
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、集中した放射エネルギーを用いて材料を処理する装
置において、 (a)源焦点と、物体焦点とを有している楕円の反射鏡
を具備している第1及び第2の反射鏡と;(b)該源焦
点に位置づけされた放射エネルギー源と; (c)該物体焦点に放射エネルギーで処理されるべき物
体を位置づけする手段と; (d)凹面の反射面を有している補助反射鏡とを具備し
、 該補助反射鏡が該物体焦点の近くに位置づけされており
、且つ楕円の反射鏡の双方の焦点に面しているその凹面
を有していて、光源において生じ、且つ該補助反射鏡に
当たる放射線の少くとも1部分を該物体焦点の方に向け
るようになつていることを特徴とする装置。 2、該第1及び第2の反射鏡の各々が断面において半楕
円形である桶状の反射鏡であり、そして該源焦点及び該
物体焦点が実質的に平行線を具備している特許請求の範
囲第1項記載の装置。 3、該光源が無電極光源で付勢される管状マイクロ波で
ある特許請求の範囲第1項記載の装置。 4、該補助反射鏡が、実質的に該物体焦点上に軸線を有
している光を透過する円筒状の管の源の部分を具備して
いる特許請求の範囲第1項記載の装置。 5、該補助反射鏡が実質的に該物体焦点上に軸線を有し
ている円筒状の石英管の内面の部分を具備している特許
請求の範囲第1項記載の装置。 6、該補助反射鏡が実質的に該物体焦点上に軸線を有し
ている円筒状の石英管の外面の部分上に配置された反射
材料を具備している特許請求の範囲第1項記載の装置。 7、該反射面が80度から約100度の円筒状の管上の
弧を占めている特許請求の範囲第6項記載の装置。 8、該円筒状の石英管上の反射材料が約90度の弧を占
めている特許請求の範囲第6項記載の装置。 9、該装置が実質的に該物体焦点上に軸線を有している
光を透過する円筒状の管を含み、そして該補助反射鏡の
凹面の反射面が該円筒状の管の外面から間隔をへだてら
れていて、該円筒状の管を通り該物体焦点の方に反射光
を向けるようになつている特許請求の範囲第1項記載の
装置。
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JPH067204B2 JPH067204B2 (ja) | 1994-01-26 |
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