JPS62226974A - テトラヒドロピラン誘導体の製造法 - Google Patents
テトラヒドロピラン誘導体の製造法Info
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- JPS62226974A JPS62226974A JP6853786A JP6853786A JPS62226974A JP S62226974 A JPS62226974 A JP S62226974A JP 6853786 A JP6853786 A JP 6853786A JP 6853786 A JP6853786 A JP 6853786A JP S62226974 A JPS62226974 A JP S62226974A
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Landscapes
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- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、工業薬品、医薬として有用なアルブチン又は
その関連化合物の改良した製造方法に関する。
その関連化合物の改良した製造方法に関する。
［従来の技術〕
従来、下記構造式：
で表されるアルブチン（Ａｒｂｕｔｉｎ ）は、カラー
写真像の安定剤、利尿剤、尿路殺菌剤として有用な化合
物であることが知られている〔ザ メルク インデック
ス（Ｔｈｅ Ｍｅｒｃｋ工ｎｄｅｘ ）第１０版第１１
２頁第７９２項（１９８３）参照〕。
写真像の安定剤、利尿剤、尿路殺菌剤として有用な化合
物であることが知られている〔ザ メルク インデック
ス（Ｔｈｅ Ｍｅｒｃｋ工ｎｄｅｘ ）第１０版第１１
２頁第７９２項（１９８３）参照〕。
従来、アルブチンの製造方法としては各種の方法が知ら
れているが、そのいずれの方法においても、当該グルコ
ピラノシド環の水酸基がアシル化された中間体から、加
水分解によりアシル基を除去する処理を行うことを必要
とする。
れているが、そのいずれの方法においても、当該グルコ
ピラノシド環の水酸基がアシル化された中間体から、加
水分解によりアシル基を除去する処理を行うことを必要
とする。
その加水分解の方法としては、ナトリウムとメタノール
を直接作用させる方法、水酸化バリウムの存在下で行う
方法力どが知られている。
を直接作用させる方法、水酸化バリウムの存在下で行う
方法力どが知られている。
しかしながら、従来の方法では、アルブチンが水に易溶
性のため、該加水分解→中和の過程で生成する無機塩と
の分離が困難なことに基づき、収率が低い、ヒドロキシ
フェニル基を保護し、加水分解後脱離するために工程数
が増え煩雑となる、あるいは水酸化バリウムの場合には
、それがかさ高で取扱いが困難で、しかも高価である、
というような各種の問題点があった。
性のため、該加水分解→中和の過程で生成する無機塩と
の分離が困難なことに基づき、収率が低い、ヒドロキシ
フェニル基を保護し、加水分解後脱離するために工程数
が増え煩雑となる、あるいは水酸化バリウムの場合には
、それがかさ高で取扱いが困難で、しかも高価である、
というような各種の問題点があった。
本発明の目的は、従来のような問題点がなく、容易にア
ルブチン又はその関連化合物を製造する方、法を提供す
ることＫある。
ルブチン又はその関連化合物を製造する方、法を提供す
ることＫある。
本発明を概説すれば、本発明け、下記一般式：
：
（式中 Ｒ１−Ｒ１は同−又は異なシ、水素、水酸基、
低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基又はアラルキル
オキシ基 Ｒ４は水素、低級アルキル基、ヒドロキシメ
チル基、低級アルコキシメチル基、低級アシルオキシメ
チル基又はアラルキルオキシメチル基を示すが Ｒ１−
Ｒ４のうちの少なくとも１つは該低級アシル基を含有す
る基である）で表される化合物を、塩基の存在下で加水
分解し、次いで陽イオン交換樹脂で処理することを特徴
とする下記一般式ｎ：（式中、ｚ！〜ｚ４は、式■中の
Ｒ１〜Ｒ４に対応する基であるが、低級アシルオキシ部
分が水酸基に転換された基を示す。すなわち ｚ １．
、 Ｚ ４は Ｒ１−Ｒ４のいずれかが低級アシルオキ
シ部分を含有する基である場合には、該低級アシルオキ
シ部分が水酸基に転換された基であシ、Ｒ１−Ｒ４の中
で低級アシルオキシ部分を含有する基でない基は、その
ままＲ１−Ｒ４と同一の基であることを示す）で表され
るテトラヒドロピラン誘導体の製造法に関する。
低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基又はアラルキル
オキシ基 Ｒ４は水素、低級アルキル基、ヒドロキシメ
チル基、低級アルコキシメチル基、低級アシルオキシメ
チル基又はアラルキルオキシメチル基を示すが Ｒ１−
Ｒ４のうちの少なくとも１つは該低級アシル基を含有す
る基である）で表される化合物を、塩基の存在下で加水
分解し、次いで陽イオン交換樹脂で処理することを特徴
とする下記一般式ｎ：（式中、ｚ！〜ｚ４は、式■中の
Ｒ１〜Ｒ４に対応する基であるが、低級アシルオキシ部
分が水酸基に転換された基を示す。すなわち ｚ １．
、 Ｚ ４は Ｒ１−Ｒ４のいずれかが低級アシルオキ
シ部分を含有する基である場合には、該低級アシルオキ
シ部分が水酸基に転換された基であシ、Ｒ１−Ｒ４の中
で低級アシルオキシ部分を含有する基でない基は、その
ままＲ１−Ｒ４と同一の基であることを示す）で表され
るテトラヒドロピラン誘導体の製造法に関する。
一般式■において Ｒ１，、、Ｒ４で示される基のうち
、低級アルキル基の例としては、メチル及びエチルなど
の基、その他共通する基の例としては、メトキシ、エト
キシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ及びベンジルオ
キシなどの基が挙げられる。その中では、Ｒ１−Ｒ５が
低級アシルオキシ基で Ｒ４が低級アシルオキシメチル
基である化合物が好適である。
、低級アルキル基の例としては、メチル及びエチルなど
の基、その他共通する基の例としては、メトキシ、エト
キシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ及びベンジルオ
キシなどの基が挙げられる。その中では、Ｒ１−Ｒ５が
低級アシルオキシ基で Ｒ４が低級アシルオキシメチル
基である化合物が好適である。
本発明で使用可能な塩基の例としては、従来方法のよう
な高価又は取扱いに注意を要するものと異なり、水酸化
ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。本発明方
法によれば、このような安価な塩基の使用が可能となっ
た。もちろん、その他ナトリウムメチラート及びカワウ
Ａｔ−７’チラートなども使用可能である。
な高価又は取扱いに注意を要するものと異なり、水酸化
ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。本発明方
法によれば、このような安価な塩基の使用が可能となっ
た。もちろん、その他ナトリウムメチラート及びカワウ
Ａｔ−７’チラートなども使用可能である。
本発明で使用可能な陽イオン交換樹脂の例としては、ス
ルホン酸基及び／又はカルボン酸基を有するイオン交換
樹脂があシ、例えばアンバー’７ス）（ムｍｂｅｒｌｙ
ｓｔ ）が挙げられる。これらイオン交換樹脂は、加水
分解で副成する無機陽イオンを保持するので、無機イオ
ンが目的化合物中に混入するのを防止できる。そして、
これら樹脂は、回収、再生して再使用が可能である本発
明方法では溶媒を使用しても、使用しなくてもよく、溶
媒の例としては、メタノール、エタノール及びエチレン
グリコールなどが挙げられ、これらは混用してもよい。
ルホン酸基及び／又はカルボン酸基を有するイオン交換
樹脂があシ、例えばアンバー’７ス）（ムｍｂｅｒｌｙ
ｓｔ ）が挙げられる。これらイオン交換樹脂は、加水
分解で副成する無機陽イオンを保持するので、無機イオ
ンが目的化合物中に混入するのを防止できる。そして、
これら樹脂は、回収、再生して再使用が可能である本発
明方法では溶媒を使用しても、使用しなくてもよく、溶
媒の例としては、メタノール、エタノール及びエチレン
グリコールなどが挙げられ、これらは混用してもよい。
反応温度は、エステル加水分解の常法である０〜１００
℃程度でよく、還流下の反応温度が好ましい。
℃程度でよく、還流下の反応温度が好ましい。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１
４−ヒドロキシフェニルβ−クーグルコピラノシド（１
）の合成 ４−ヒドロキシフェニルテトラ−０−アセチル−β−Ｄ
−グルコピラノシド（２） １． Ｏｆ （２３ミリモ
ル）と水酸化ナトリウム０．５５Ｐ（ＩＫ８ミリモル）
とを、水３−とメタノール７ｄの混液に加え、６０℃で
０．５時間加熱かくはんした。
）の合成 ４−ヒドロキシフェニルテトラ−０−アセチル−β−Ｄ
−グルコピラノシド（２） １． Ｏｆ （２３ミリモ
ル）と水酸化ナトリウム０．５５Ｐ（ＩＫ８ミリモル）
とを、水３−とメタノール７ｄの混液に加え、６０℃で
０．５時間加熱かくはんした。
反応終了後、５℃に冷却して、アンバーリスト−１５の
３１を加え、同温度でα５時間かくはンシた。次いでア
ンバーリスト−１５を戸別後、炉液を減圧下で濃縮して
、化合物（１）を０．６１Ｆ得た。収率９８係、融点１
９８〜２００℃（エタ゛ノールより再結晶） 核磁気共鳴スペクトラム（ジメチルスルホキシド−ｄ６
中） ５．１〜１５（４ＨＳｍ）Ａ４７（ＩＨ，ｔｉｃＬｄ、
Ｊ＝１２、２ＨｚＳ＆ＯＨｚ、 ６．０Ｈｚ）五６９
（ＩＨｌｄａｄ、 Ｊ＝１２．２ＨＩ！、 ６．０ＩＩ
Ｉｚ、 １２１ｇ ）’４．３８（ＩＨ，ｔ、 、ｒ＝
６Ｈｚ） ４．６３（１，Ｈ１ｄ１Ｊ＝７．６Ｈｇ）
”４．７９（１ＴｌＳｌ、；ｆ＝５．５ＨＭ）札Ｌ
８４（ＩＨＳ（１，Ｊ＝４．８Ｈｚ）’５．０５（ＩＨ
。
３１を加え、同温度でα５時間かくはンシた。次いでア
ンバーリスト−１５を戸別後、炉液を減圧下で濃縮して
、化合物（１）を０．６１Ｆ得た。収率９８係、融点１
９８〜２００℃（エタ゛ノールより再結晶） 核磁気共鳴スペクトラム（ジメチルスルホキシド−ｄ６
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８４（ＩＨＳ（１，Ｊ＝４．８Ｈｚ）’５．０５（ＩＨ
。
（１，Ｊ＝５．０ＩＩＩＺ） Ａ６５（２Ｈ，（１％
、７−４４Ｈ２）６．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ａ４Ｈｚ）
”Ａ８６（ＩＨ。
、７−４４Ｈ２）６．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ａ４Ｈｚ）
”Ａ８６（ＩＨ。
脣 水酸基
実施例２及び３
実施例１における化合物（２）の代ＤＫ、３−ヒドロキ
シフェニルテトラ−０−アセチル−β−Ｄ−グルコピラ
ノシド（３）又は２−ヒドロキシフェニルｆ ） ラ−
ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（４）を用い
た以外は実施例１と同様な操作を行って、それぞれ相当
する、３−ヒドロキシフェニルβ−クーグルコピラノシ
ド（５） ヲ９５憾の収率、２−ヒドロキシフェニルβ
−クーグルコピラノシド（６）を９２％の収率で得た。
シフェニルテトラ−０−アセチル−β−Ｄ−グルコピラ
ノシド（３）又は２−ヒドロキシフェニルｆ ） ラ−
ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（４）を用い
た以外は実施例１と同様な操作を行って、それぞれ相当
する、３−ヒドロキシフェニルβ−クーグルコピラノシ
ド（５） ヲ９５憾の収率、２−ヒドロキシフェニルβ
−クーグルコピラノシド（６）を９２％の収率で得た。
以上説明したように、本発明方法によれば、従来方法よ
シも容易に、Ｌかも高収率でアルブチン及びその関連化
合物が得られるという顕著な効果が葵せられる。
シも容易に、Ｌかも高収率でアルブチン及びその関連化
合物が得られるという顕著な効果が葵せられる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 （式中、Ｒ＾１〜Ｒ＾３は同一又は異なり、水素、水酸
基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基又はアラル
キルオキシ基、Ｒ＾４は水素、低級アルキル基、ヒドロ
キシメチル基、低級アルコキシメチル基、低級アシルオ
キシメチル基又はアラルキルオキシメチル基を示すが、
Ｒ＾１〜Ｒ＾４のうちの少なくとも１つは該低級アシル
基を含有する基である）で表される化合物を、塩基の存
在下で加水分解し、次いで陽イオン交換樹脂で処理する
ことを特徴とする下記一般式II： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 （式中、Ｚ＾１〜Ｚ＾４は、式 I 中のＲ＾１−Ｒ＾４
に対応する基であるが、低級アシルオキシ部分が水酸基
に転換された基を示す）で表されるテトラヒドロピラン
誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61068537A JPH0745489B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | テトラヒドロピラン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61068537A JPH0745489B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | テトラヒドロピラン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62226974A true JPS62226974A (ja) | 1987-10-05 |
| JPH0745489B2 JPH0745489B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=13376587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61068537A Expired - Lifetime JPH0745489B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | テトラヒドロピラン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH0745489B2 (ja) |
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-
1986
- 1986-03-28 JP JP61068537A patent/JPH0745489B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0745489B2 (ja) | 1995-05-17 |
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