JPS6222219A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS6222219A JPS6222219A JP16168385A JP16168385A JPS6222219A JP S6222219 A JPS6222219 A JP S6222219A JP 16168385 A JP16168385 A JP 16168385A JP 16168385 A JP16168385 A JP 16168385A JP S6222219 A JPS6222219 A JP S6222219A
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- film
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〕
本発明は、Ｐ ＣＭ （Ｐｕｌｓｅ Ｃｏｄｅ Ｍｏｃ
ｌｕｌａｔｉｏｎ）記録再生装置等に用いられる薄膜磁
気ヘッドに関し、特に磁気ギヤングのデプス長を検出す
るためのデプスマーカー膜の改良に関する。
ｌｕｌａｔｉｏｎ）記録再生装置等に用いられる薄膜磁
気ヘッドに関し、特に磁気ギヤングのデプス長を検出す
るためのデプスマーカー膜の改良に関する。
本発明は、下部磁性体上に形成されるコイル導体と、上
記下部磁性体との共働によって磁気回路を構成する上部
磁性体よりなる薄膜磁気ヘッドにおけるデプス長を検出
するに際し、 上記下部磁性体上に磁気ギャップのデプス長を検出する
ための主マーカー膜と、磁気記録媒体対接面で幅が一定
な副マーカー膜とを形成することにより、 上記各マーカー膜のパターニング誤差に影響されること
なく、デプス長が精度良く検出され、かつデプス長の制
御が容易に行えるようにしたものである。
記下部磁性体との共働によって磁気回路を構成する上部
磁性体よりなる薄膜磁気ヘッドにおけるデプス長を検出
するに際し、 上記下部磁性体上に磁気ギャップのデプス長を検出する
ための主マーカー膜と、磁気記録媒体対接面で幅が一定
な副マーカー膜とを形成することにより、 上記各マーカー膜のパターニング誤差に影響されること
なく、デプス長が精度良く検出され、かつデプス長の制
御が容易に行えるようにしたものである。
一般に、薄膜磁気ヘッドは、ヘッドを構成する下部磁性
体、コイル導体及び上部磁性体等がスパッタリング等の
真空薄膜形成技術で形成されるため、量産性に優れ、か
つ特性の均一なヘッドが得られるとともに、フォトリソ
グラフィ技術でパターンニングを行っているため、狭ト
ラツク、狭ギャップ等の微小寸法化が容易である。
体、コイル導体及び上部磁性体等がスパッタリング等の
真空薄膜形成技術で形成されるため、量産性に優れ、か
つ特性の均一なヘッドが得られるとともに、フォトリソ
グラフィ技術でパターンニングを行っているため、狭ト
ラツク、狭ギャップ等の微小寸法化が容易である。
このため、上記薄膜磁気ヘッドは、記録に関与するヘッ
ド磁界が急峻となり、高記録密度の記録が可能となると
ともに、高分解能の記録ができ、さらに小型化が可能で
ある。
ド磁界が急峻となり、高記録密度の記録が可能となると
ともに、高分解能の記録ができ、さらに小型化が可能で
ある。
ところが、上記薄膜磁気ヘッドは、その構造上コイル導
体の巻回数を増やすことが困難であり、したがってヘッ
ドの記録効率等を上げるためにデプス長を１０μｍ程度
の極めて小さな値にせざるを得なくなっている。
体の巻回数を増やすことが困難であり、したがってヘッ
ドの記録効率等を上げるためにデプス長を１０μｍ程度
の極めて小さな値にせざるを得なくなっている。
したがって、この種の薄膜磁気ヘッドにおいては、デプ
ス長を的確に判断することが重要な課題となっている。
ス長を的確に判断することが重要な課題となっている。
そこで従来は、薄膜磁気ヘッドにデプス長を検出するマ
ーカー膜を形成しておき、磁気記録媒体対接面でこのマ
ーカー膜の長さを測定しデプス長に換算することにより
、デプス長を検出するという方法が採られている。
ーカー膜を形成しておき、磁気記録媒体対接面でこのマ
ーカー膜の長さを測定しデプス長に換算することにより
、デプス長を検出するという方法が採られている。
ところが、上記マーカー膜は、コイル導体をパターンエ
ツチングする際に、磁気ギャップ近傍部に残存する如く
形成しなるので、レジストのパターニング精度、あるい
は上記マーカー膜のエツチング精度等に大きく左右され
る。したがって、磁気記録媒体対接面に表れるマーカー
膜の長さに誤差を生じ、精度良くデプス長を検出するこ
とが困難であるという問題があった。
ツチングする際に、磁気ギャップ近傍部に残存する如く
形成しなるので、レジストのパターニング精度、あるい
は上記マーカー膜のエツチング精度等に大きく左右され
る。したがって、磁気記録媒体対接面に表れるマーカー
膜の長さに誤差を生じ、精度良くデプス長を検出するこ
とが困難であるという問題があった。
そこで、本発明は上記問題点を解決するために提案され
たものであって、レジストのパターニング誤差や上記マ
ーカー膜のエツチング誤差に関係なく、精度良くデプス
長を検出でき、かっデプス長の制御が容易な薄膜磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。
たものであって、レジストのパターニング誤差や上記マ
ーカー膜のエツチング誤差に関係なく、精度良くデプス
長を検出でき、かっデプス長の制御が容易な薄膜磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。
この目的を達成するために、本発明の薄膜磁気ヘッドは
、下部磁性体上に形成されるコイル導体と、上記下部磁
性体との共働によって磁気回路を構成する上部磁性体よ
りなる薄膜磁気ヘッドにおいて、上記下部磁性体上に磁
気ギャップのデプス長を検出するための主マーカー膜が
形成されるとともに、磁気記録媒体対接面で幅が一定な
副マーカー膜が形成されていることを特徴とするもので
ある。
、下部磁性体上に形成されるコイル導体と、上記下部磁
性体との共働によって磁気回路を構成する上部磁性体よ
りなる薄膜磁気ヘッドにおいて、上記下部磁性体上に磁
気ギャップのデプス長を検出するための主マーカー膜が
形成されるとともに、磁気記録媒体対接面で幅が一定な
副マーカー膜が形成されていることを特徴とするもので
ある。
このように、下部磁性体上に磁気ギャップのデプス長を
検出するための主マーカー膜と、磁気記録媒体対接面で
幅が一定な副マーカー膜とを形成することにより、上記
主マーカー膜によるデプス長の検出誤差が上記副マーカ
ー膜で補正される。
検出するための主マーカー膜と、磁気記録媒体対接面で
幅が一定な副マーカー膜とを形成することにより、上記
主マーカー膜によるデプス長の検出誤差が上記副マーカ
ー膜で補正される。
以下、本発明を適用したｉ！膜磁気ヘッドの一実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。
ついて図面を参照しながら説明する。
本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、第１図（Ａ）及び
第１図（Ｂ）に示すように、下部磁性体（１）の一平面
上にフロントギャップ部Ｇやバンクギャップ部Ｇ′を除
いて５ｉＱ２等よりなる第１絶縁層（２）が形成されて
いる。
第１図（Ｂ）に示すように、下部磁性体（１）の一平面
上にフロントギャップ部Ｇやバンクギャップ部Ｇ′を除
いて５ｉＱ２等よりなる第１絶縁層（２）が形成されて
いる。
上記下部磁性体（１）としては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライ
トやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物基板、ま
たは、セラミック等の非磁性基板上にＦｅ−Ｎｉ系合金
（パーマロイ）やＦｅ−Ａｊ！−３ｉ系合金（センダス
ト）等の強磁性金属材料を積層した複合基板、あるいは
上記強磁性酸化物基板上にパーマロイやセンダスト等の
強磁性金属材料を積層した複合基板、等が使用される。
トやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物基板、ま
たは、セラミック等の非磁性基板上にＦｅ−Ｎｉ系合金
（パーマロイ）やＦｅ−Ａｊ！−３ｉ系合金（センダス
ト）等の強磁性金属材料を積層した複合基板、あるいは
上記強磁性酸化物基板上にパーマロイやセンダスト等の
強磁性金属材料を積層した複合基板、等が使用される。
また、上記第１絶縁層（２）上にはＣｕあるいはＡ１等
の金属導体よりなる第１コイル導体（３）が所定の間隔
をもって渦巻状（本実施例では３ターン）にパターンエ
ツチングされている。
の金属導体よりなる第１コイル導体（３）が所定の間隔
をもって渦巻状（本実施例では３ターン）にパターンエ
ツチングされている。
ここで、本発明においては、上記第１コイル導体（３）
のパターンエツチング時に、デプスの近傍にデプス長を
検出するための主マーカー膜（４）及び副マーカー膜（
５）が残存する如くフォトリソグラフィ技術によりエツ
チングが施されている。
のパターンエツチング時に、デプスの近傍にデプス長を
検出するための主マーカー膜（４）及び副マーカー膜（
５）が残存する如くフォトリソグラフィ技術によりエツ
チングが施されている。
さらに、上記第１コイル導体（３）を被覆するように第
２絶縁層（７）が被着形成され、上記第１コイル導体（
３）と同一の巻回方向を有し、上記第２絶縁層（７）に
形成されたコンタクト窓部（８）を介して、上記第１コ
イル導体（３）と電気的に接続される渦巻状（本実施例
では３ターン）の第２コイル導体（９）が形成されてい
る。すなわち、本実施例のコイル導体はスパイラル２層
重ね６ターンの巻線構造となる。また、この第２コイル
導体（９）上には、後述の上部磁性体（１２）との絶縁
を図るために第３絶縁層（１０）が形成されている。
２絶縁層（７）が被着形成され、上記第１コイル導体（
３）と同一の巻回方向を有し、上記第２絶縁層（７）に
形成されたコンタクト窓部（８）を介して、上記第１コ
イル導体（３）と電気的に接続される渦巻状（本実施例
では３ターン）の第２コイル導体（９）が形成されてい
る。すなわち、本実施例のコイル導体はスパイラル２層
重ね６ターンの巻線構造となる。また、この第２コイル
導体（９）上には、後述の上部磁性体（１２）との絶縁
を図るために第３絶縁層（１０）が形成されている。
上記コイル導体（３） 、 （９） としては、スパイ
ラル多層型に限られず、ヘリカル型あるいはジグザグ型
環如何なる巻線構造であっても良い。
ラル多層型に限られず、ヘリカル型あるいはジグザグ型
環如何なる巻線構造であっても良い。
さらにまた、フロントギャップ部のＴａ２０５等よりな
るギャップスペーサ（１１）や上記第３絶縁層（１０）
を被覆する如くセンダストやパーマロイ等強磁性金属材
料よりなる上部磁性体（１２）が所定のトランク幅とな
るように形成されている。したがって、上記コイル導体
（３） 、 （９）に駆動電流を供給することにより、
下部磁性体と上部磁性体（１２）との共働により磁気回
路を構成し、記録・再生が行われるように構成されてい
る。
るギャップスペーサ（１１）や上記第３絶縁層（１０）
を被覆する如くセンダストやパーマロイ等強磁性金属材
料よりなる上部磁性体（１２）が所定のトランク幅とな
るように形成されている。したがって、上記コイル導体
（３） 、 （９）に駆動電流を供給することにより、
下部磁性体と上部磁性体（１２）との共働により磁気回
路を構成し、記録・再生が行われるように構成されてい
る。
さらにまた、図示してないが、上記上部磁性体（１２）
等を覆うように、５ｉ０２等よりなる保護膜が形成され
、アニール処理を施した後、上記保護膜上にガラス等の
接着材を溶融充愼することにより平坦化され、さらに、
デプスの摩耗対策としてセラミックの非磁性材よりなる
保護板が上記接着材上に融着接合されている。
等を覆うように、５ｉ０２等よりなる保護膜が形成され
、アニール処理を施した後、上記保護膜上にガラス等の
接着材を溶融充愼することにより平坦化され、さらに、
デプスの摩耗対策としてセラミックの非磁性材よりなる
保護板が上記接着材上に融着接合されている。
このように構成される薄膜磁気ヘッドにおいては、上記
主マーカー膜（４）及び副マーカー膜（５）を設けるこ
とより、デプス長を設定するための研磨加工の加工精度
が大幅に向上する。
主マーカー膜（４）及び副マーカー膜（５）を設けるこ
とより、デプス長を設定するための研磨加工の加工精度
が大幅に向上する。
以下、本発明の薄膜磁気ヘッドに形成される主マーカー
膜（４）及び副マーカー膜（５）について詳述する。
膜（４）及び副マーカー膜（５）について詳述する。
第２図に、上記主マーカー膜（４）及び上記副マーカー
膜（５）の拡大平面図を示す。この第２図において、破
線は理想状！！３（各マーカー膜にレジストのパターニ
ング誤差や第１コイル導体（３）のエツチング誤差等の
誤差がない状態）の各マーカー膜（４ａ） 、 （５ａ
）を示し、実線は上記誤差により実際に得られた各マー
カーｉｌ？！ （４） 、 （５）を示す。
膜（５）の拡大平面図を示す。この第２図において、破
線は理想状！！３（各マーカー膜にレジストのパターニ
ング誤差や第１コイル導体（３）のエツチング誤差等の
誤差がない状態）の各マーカー膜（４ａ） 、 （５ａ
）を示し、実線は上記誤差により実際に得られた各マー
カーｉｌ？！ （４） 、 （５）を示す。
上記主マーカー膜（４）は、例えば直角２等辺三角形形
状をしており、この頂点Ｓが磁気ギャップ後端縁（ｌａ
） （デプス長Ｄｐ＝０）より、レジストのパターニン
グや第１コイル導体（３）のエツチングの精度上の検出
誤差Ｂを有して形成されている。
状をしており、この頂点Ｓが磁気ギャップ後端縁（ｌａ
） （デプス長Ｄｐ＝０）より、レジストのパターニン
グや第１コイル導体（３）のエツチングの精度上の検出
誤差Ｂを有して形成されている。
この主マーカー膜（４）の形状は、上記直角２等辺三角
形に限られず、磁気記録媒体対接面方向Ｘの長さＥと磁
気記録媒体対接面（６）に表れる長さＡとの関係が１対
１で対応する形状であれば如何なる形状であっても良い
。
形に限られず、磁気記録媒体対接面方向Ｘの長さＥと磁
気記録媒体対接面（６）に表れる長さＡとの関係が１対
１で対応する形状であれば如何なる形状であっても良い
。
一方、上記副マーカー膜（５）は、例えば、長方形形状
をなしこの一辺が磁気ギャップ後端縁（１ａ）より、検
出誤差Ｂを有して形成されている。この副マーカーＤｉ
（５）は、磁気記録媒体対接面（６）に表れる長さＣが
常に一定であるような形状であれば、長方形、正方形、
平行四辺形等如何なる形状であっても良い。本実施例で
は長方形の短冊状に形成されている。
をなしこの一辺が磁気ギャップ後端縁（１ａ）より、検
出誤差Ｂを有して形成されている。この副マーカーＤｉ
（５）は、磁気記録媒体対接面（６）に表れる長さＣが
常に一定であるような形状であれば、長方形、正方形、
平行四辺形等如何なる形状であっても良い。本実施例で
は長方形の短冊状に形成されている。
したがって、磁気記録媒体対接面（６）を切削研磨する
と、この磁気記録媒体対接面（６）に露出する上記主マ
ーカー膜（４）の長さＡはデプス長Ｄｐの減少とともに
小さくなるが、上記副マーカー膜（５）の長さＣはデプ
ス長Ｄｐの減少に対して不変である。
と、この磁気記録媒体対接面（６）に露出する上記主マ
ーカー膜（４）の長さＡはデプス長Ｄｐの減少とともに
小さくなるが、上記副マーカー膜（５）の長さＣはデプ
ス長Ｄｐの減少に対して不変である。
そして、デプス長Ｄｐを検出するには、先ず、磁気記録
媒体対接面（６）に露出する主マーカー膜（４）の長さ
Ａ及び副マーカー膜（５）の長さＣを測定する。次いで
、以下の手法によりデプス長Ｄｐを算出する。
媒体対接面（６）に露出する主マーカー膜（４）の長さ
Ａ及び副マーカー膜（５）の長さＣを測定する。次いで
、以下の手法によりデプス長Ｄｐを算出する。
すなわち、これら主マーカー膜（４）及び副マーカー膜
（５）は、フォトリソグラフィ技術で同時に形成される
ため、これらマーカー膜（４） 、 （５）の誤差が磁
気記録媒体対接面（６）で等しくなり、Ｆ＝Ｇ＝Ｈ＝
１ となる。同様に、デプス長ｐｐの誤差Ｂも上記誤差と等
しくなり、 Ｂ＝Ｆ＝Ｇ＝Ｈ＝ Ｉ となる。ここで、副マーカー膜（５）においては、デプ
ス長Ｄｐが減少しても、長さＣが不変である。
（５）は、フォトリソグラフィ技術で同時に形成される
ため、これらマーカー膜（４） 、 （５）の誤差が磁
気記録媒体対接面（６）で等しくなり、Ｆ＝Ｇ＝Ｈ＝
１ となる。同様に、デプス長ｐｐの誤差Ｂも上記誤差と等
しくなり、 Ｂ＝Ｆ＝Ｇ＝Ｈ＝ Ｉ となる。ここで、副マーカー膜（５）においては、デプ
ス長Ｄｐが減少しても、長さＣが不変である。
そこで、誤差Ｈ及び誤差Ｉは、
Ｈ＝Ｉ＝ （Ｃ′−Ｃ）／２
で表すことができる。ここで、Ｃ′は設計時に設定され
る副マーカー１１ｆｆ（５ａ）の長さ、すなわちエツチ
ング誤差等がない状態で作成される副マーカー膜（５ａ
）の−辺（５ｃ）の長さであり、既知である。ゆえに、
デプス長Ｄｐの検出誤差Ｂは、 Ｂ＝ （Ｃ’−Ｃ）／２ で示される。
る副マーカー１１ｆｆ（５ａ）の長さ、すなわちエツチ
ング誤差等がない状態で作成される副マーカー膜（５ａ
）の−辺（５ｃ）の長さであり、既知である。ゆえに、
デプス長Ｄｐの検出誤差Ｂは、 Ｂ＝ （Ｃ’−Ｃ）／２ で示される。
一方、主マーカー膜（４）で検出されるデプス長Ｅは、
Ｅ＝Ａ／２
で表される。
したがって、デプス長Ｄｐは、
Ｄｐ＝Ｅ＋Ｂ
＝ （Ａ／２）＋ （Ｃ’−Ｃ）／２
で算出することができる。
すなわち、デプス長Ｄｐは、主マーカー膜（４）で検出
されるＡ／２と、副マーカー膜（５）の補正値（Ｃ’−
Ｃ）／２との和で検出することができる。
されるＡ／２と、副マーカー膜（５）の補正値（Ｃ’−
Ｃ）／２との和で検出することができる。
したがって、レジストのパターニング誤差や主マーカー
膜（４）のエツチング誤差によるデプス長Ｄｐの検出誤
差は副マーカー膜（５）により補正されるで、正確にデ
プス長Ｄｐを検出することができる。
膜（４）のエツチング誤差によるデプス長Ｄｐの検出誤
差は副マーカー膜（５）により補正されるで、正確にデ
プス長Ｄｐを検出することができる。
このように、高加工精度を要する上記切削研磨において
、本発明の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録媒体対接面（６
）に表れる主マーカー膜（４）の長さＡ及び副マーカー
膜（５））の長さＢを測定することより、デプスＤｐを
正確に検出することができるとともに、デプス長の制御
が容易に行える。
、本発明の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録媒体対接面（６
）に表れる主マーカー膜（４）の長さＡ及び副マーカー
膜（５））の長さＢを測定することより、デプスＤｐを
正確に検出することができるとともに、デプス長の制御
が容易に行える。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
例えば第３図に示すように、磁気ギャップのデプス長Ｄ
ｐを検出するための主マーカー膜（４）の近傍部に、上
記主マーカー１５１！（４）で検出されるデプス長Ｄｐ
の検出誤差を補正するための副マーカー膜（２２）とし
て、磁気記録媒体対接面（６）で長さＣが一定であり、
かつ磁気記録媒体対接面でも良い。
例えば第３図に示すように、磁気ギャップのデプス長Ｄ
ｐを検出するための主マーカー膜（４）の近傍部に、上
記主マーカー１５１！（４）で検出されるデプス長Ｄｐ
の検出誤差を補正するための副マーカー膜（２２）とし
て、磁気記録媒体対接面（６）で長さＣが一定であり、
かつ磁気記録媒体対接面でも良い。
上記マーカー膜（４） 、 （２２）でデプス長Ｄｐを
検出するには、先の実施例の如く、 Ｄｐ＝ （Ａ／２）＋ （Ｃ′−Ｃ）／２で算出して求
めることができる。
検出するには、先の実施例の如く、 Ｄｐ＝ （Ａ／２）＋ （Ｃ′−Ｃ）／２で算出して求
めることができる。
さらに、磁気記録媒体対接面（６）に露呈する各マーカ
ー膜（４） 、 （２２）間距離りは、デプス長Ｄｐが
減少しても常に一定であるので、 Ｂ＝ （Ｄ−Ｄ′）／２ で示される。ここで、Ｄ′はエツチング誤差等がない状
態で作成される各マーカー膜（４ａ） 、 （２２ａ）
間距離であるので、既知である。したがって、デプス長
Ｄｐは、 Ｄｐ＝Ｅ＋Ｂ ＝ （Ａ／２）＋ （Ｄ−Ｄ’）／２ でも算出することができる。
ー膜（４） 、 （２２）間距離りは、デプス長Ｄｐが
減少しても常に一定であるので、 Ｂ＝ （Ｄ−Ｄ′）／２ で示される。ここで、Ｄ′はエツチング誤差等がない状
態で作成される各マーカー膜（４ａ） 、 （２２ａ）
間距離であるので、既知である。したがって、デプス長
Ｄｐは、 Ｄｐ＝Ｅ＋Ｂ ＝ （Ａ／２）＋ （Ｄ−Ｄ’）／２ でも算出することができる。
すなわち、上記副マーカー膜（２２）を用いれば、磁気
記録媒体対接面（６）に露呈する主マーカー膜（４）の
長さＡ、副マーカー膜（２２）の長さＣ及び各マーカー
膜（４） 、 （２２）間距離りを測定することにより
、デプス長Ｄｐを正確に検出することができる。
記録媒体対接面（６）に露呈する主マーカー膜（４）の
長さＡ、副マーカー膜（２２）の長さＣ及び各マーカー
膜（４） 、 （２２）間距離りを測定することにより
、デプス長Ｄｐを正確に検出することができる。
また、本実施例では主マーカー膜（４）及び副マーカー
膜（５） 、 （２２）を第１コイル導体（３）の形成
と同時に形成したが、第２コイル導体（９）と同時に形
成しても良いことはいうまでもない。
膜（５） 、 （２２）を第１コイル導体（３）の形成
と同時に形成したが、第２コイル導体（９）と同時に形
成しても良いことはいうまでもない。
以上の説明から明らかなように、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドにおいては、デプス長を検出する際に、主マーカー膜
のパターニング誤差を磁気記録媒体対接面で幅が一定な
副マーカー膜で補正しているので、デプス長の検出精度
が向上するとともに、デプス長の制御が容易となる。
ドにおいては、デプス長を検出する際に、主マーカー膜
のパターニング誤差を磁気記録媒体対接面で幅が一定な
副マーカー膜で補正しているので、デプス長の検出精度
が向上するとともに、デプス長の制御が容易となる。
第１図（Ａ）は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一例”を
示す概略的な平面図、第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のａ
−ａ線における断面図である。 第２図は主マーカー膜及び副マーカー膜を拡大して示す
平面図であり、第３図は副マーカー膜の他の例を示す平
面図である。 １・・・・下部磁性体 ３・・・・第１コイル導体 ４・・・・主マーカー膜 ５・・・・副マーカー膜 ６・・・・磁気記録媒体対接面 ９・・・・第２コイル導体 １２・・・上部磁性体
示す概略的な平面図、第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のａ
−ａ線における断面図である。 第２図は主マーカー膜及び副マーカー膜を拡大して示す
平面図であり、第３図は副マーカー膜の他の例を示す平
面図である。 １・・・・下部磁性体 ３・・・・第１コイル導体 ４・・・・主マーカー膜 ５・・・・副マーカー膜 ６・・・・磁気記録媒体対接面 ９・・・・第２コイル導体 １２・・・上部磁性体
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下部磁性体上に形成されるコイル導体と、上記下部磁性
体との共働によって磁気回路を構成する上部磁性体より
なる薄膜磁気ヘッドにおいて、上記下部磁性体上に磁気
ギャップのデプス長を検出するための主マーカー膜が形
成されるとともに、 磁気記録媒体対接面で幅が一定な副マーカー膜が形成さ
れていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16168385A JPS6222219A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16168385A JPS6222219A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6222219A true JPS6222219A (ja) | 1987-01-30 |
Family
ID=15739860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16168385A Pending JPS6222219A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6222219A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0336395A2 (en) * | 1988-04-06 | 1989-10-11 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head |
| JPH02159499A (ja) * | 1988-12-10 | 1990-06-19 | Fanuc Ltd | 加工液供給装置 |
| JP2011060419A (ja) * | 2005-08-22 | 2011-03-24 | Headway Technologies Inc | 磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物 |
-
1985
- 1985-07-22 JP JP16168385A patent/JPS6222219A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0336395A2 (en) * | 1988-04-06 | 1989-10-11 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head |
| US5056353A (en) * | 1988-04-06 | 1991-10-15 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head |
| JPH02159499A (ja) * | 1988-12-10 | 1990-06-19 | Fanuc Ltd | 加工液供給装置 |
| JP2011060419A (ja) * | 2005-08-22 | 2011-03-24 | Headway Technologies Inc | 磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ヘッド用基礎構造物 |
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