JPS62220846A - 放射線による被測定物の測定方法 - Google Patents
放射線による被測定物の測定方法Info
- Publication number
- JPS62220846A JPS62220846A JP6463586A JP6463586A JPS62220846A JP S62220846 A JPS62220846 A JP S62220846A JP 6463586 A JP6463586 A JP 6463586A JP 6463586 A JP6463586 A JP 6463586A JP S62220846 A JPS62220846 A JP S62220846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measured
- measurement
- radiation
- measuring
- counter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 75
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002247 constant time method Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009658 destructive testing Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
r産業上の利用分野J
本発明は被測定物に係る所望の測定テ1(項、例えば組
Ik、e度、組成分、布、厚さ1形状等を放射線により
非破壊的に測定する方法に関する。
Ik、e度、組成分、布、厚さ1形状等を放射線により
非破壊的に測定する方法に関する。
r従来の技術1
不透明な物体の組成濃度、組成分布、厚さなどを放射線
照射により非破壊的に測定するとき、放射線照射系から
出射した放射線を被測定物に照射し、その透過線強度を
検出系で測定解析するようにしており、現状では測定精
度、工業化の易度、取り扱いの容易さから、X線を用い
る方法が普及している。
照射により非破壊的に測定するとき、放射線照射系から
出射した放射線を被測定物に照射し、その透過線強度を
検出系で測定解析するようにしており、現状では測定精
度、工業化の易度、取り扱いの容易さから、X線を用い
る方法が普及している。
かかる測定方法では、線源から測定用の放射線(照射線
)を取り出すほか、参照用の放射線(参照線)をも取り
出し、被測定物の測定時、参照線を介して線源の変動を
補正している。
)を取り出すほか、参照用の放射線(参照線)をも取り
出し、被測定物の測定時、参照線を介して線源の変動を
補正している。
一方、被測定物の厚さが均一でないとか、あるいは被測
定物が多成分系からなり、その組成分布が変化するもの
のように、透過線強度が被測定物の各部位により異なる
場合は、その透過線強度が最も小さくなる部位において
所望の精度が得られるよう、放射線の照射時間を設定す
るとか、あるいは測定精度との兼ね合いで照射時間を設
定している。
定物が多成分系からなり、その組成分布が変化するもの
のように、透過線強度が被測定物の各部位により異なる
場合は、その透過線強度が最も小さくなる部位において
所望の精度が得られるよう、放射線の照射時間を設定す
るとか、あるいは測定精度との兼ね合いで照射時間を設
定している。
ちなみに、第5図に示す従来例では、はじめ。
タイマTと二つのカウンタC1,C2に測定開始用のス
タート信号S1をへ送って被測定物の測定を開始し、つ
いで、あらかじめ設定した時間に達したとき、タイマT
から二つのカウンタC1、C2に停止信号S2を送って
L記測定を停止し、その後、被測定物を所定量だけ移動
させ、以下、これらを繰り返すことにより被測定物の測
定領域にわたる測定を行なう。
タート信号S1をへ送って被測定物の測定を開始し、つ
いで、あらかじめ設定した時間に達したとき、タイマT
から二つのカウンタC1、C2に停止信号S2を送って
L記測定を停止し、その後、被測定物を所定量だけ移動
させ、以下、これらを繰り返すことにより被測定物の測
定領域にわたる測定を行なう。
r発明が解決しようとする問題点j
一般に、透過線強度が被測定物の各部位ごとに変化する
場合、これらに応じてノイズの大きさが変化し、測定デ
ータの精度も変化する。
場合、これらに応じてノイズの大きさが変化し、測定デ
ータの精度も変化する。
これは主に検出器に起因したものであり、前記線源の補
正をしても回避することができない。
正をしても回避することができない。
この種の測定では、被測定物のどの測定部位においても
同様の精度が得られるのが望ましいが、例えばフーリエ
変換法、フィルタ補正逆投影法などを利用したコンピュ
ータトモグラフィ(ill:T)により測定データを処
理し、被測定物の組成分布を求める場合、透過線強度の
小さい測定部位において精度が悪化することがよくある
。
同様の精度が得られるのが望ましいが、例えばフーリエ
変換法、フィルタ補正逆投影法などを利用したコンピュ
ータトモグラフィ(ill:T)により測定データを処
理し、被測定物の組成分布を求める場合、透過線強度の
小さい測定部位において精度が悪化することがよくある
。
多くの場合、透過線強度の小さい測定部位、すなわち被
測定物の厚い部分、密度の高い部分はど高精度の測定結
果が望まれるが、現状の一技術レベルはこれに反してい
る。
測定物の厚い部分、密度の高い部分はど高精度の測定結
果が望まれるが、現状の一技術レベルはこれに反してい
る。
特に被測定物の組成分析を行なうとき、このような現象
が顕著となり、被測定物の測定部位によりノイズが変化
する場合は、ノイズ処理をも含めた測定データの処理が
より複雑となる。
が顕著となり、被測定物の測定部位によりノイズが変化
する場合は、ノイズ処理をも含めた測定データの処理が
より複雑となる。
なお、測定精度が測定時間の長さに比例することに基づ
き、被測定物の測定領域にわたる測定時間を長くした場
合、精度は確かに向上するが時間的犠牲が大きくなりす
ぎる。
き、被測定物の測定領域にわたる測定時間を長くした場
合、精度は確かに向上するが時間的犠牲が大きくなりす
ぎる。
本発明は上記の問題点に鑑み、放射線による被測定物の
測定方法において、被測定物に関する高精度の測定結果
が比較的短時間で得られる方法を提供しようとするもの
である。
測定方法において、被測定物に関する高精度の測定結果
が比較的短時間で得られる方法を提供しようとするもの
である。
r問題点を解決するための手段1
本発明は、放射線照射系から被測定物の測定領域に向け
て放射線を照射し、被測定物透過後の透過放射線量を放
射線検出系により検出して、その被測定物の測定事項を
測定する方法において、放射線検出系を介して被測定物
の測定領域にわたる測定五項を求めるとき、その測定領
域にわたる計数値が一定となる測定時間にて、上記透過
放射線量を測定することを特徴とし、これにより所期の
目的を達成する 「実 施 例1 以下1本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明
する。
て放射線を照射し、被測定物透過後の透過放射線量を放
射線検出系により検出して、その被測定物の測定事項を
測定する方法において、放射線検出系を介して被測定物
の測定領域にわたる測定五項を求めるとき、その測定領
域にわたる計数値が一定となる測定時間にて、上記透過
放射線量を測定することを特徴とし、これにより所期の
目的を達成する 「実 施 例1 以下1本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明
する。
第1図に示す本発明方法の一実施例では、被測定物の測
定手段として、その被測定物へ放射線を照射するための
放射線照射系Iと、その被測定物を透過した透過放射線
を検出するための放射線検出系■とを備え、放射線検出
系Hには分析系mが接続されている。
定手段として、その被測定物へ放射線を照射するための
放射線照射系Iと、その被測定物を透過した透過放射線
を検出するための放射線検出系■とを備え、放射線検出
系Hには分析系mが接続されている。
放射線照射系Iの放射線源lはX線源、γ線源など、適
宜の線源が採用できるが、第1図の実施例では放射線源
1としてX線源が用いられる。
宜の線源が採用できるが、第1図の実施例では放射線源
1としてX線源が用いられる。
かかる放射線源1は、−例として最大管電圧、電流が2
00kV、19■Aであり、これら管電圧、電流を14
0kV、10■Aとすることにより白色X線を出射する
ことができる。
00kV、19■Aであり、これら管電圧、電流を14
0kV、10■Aとすることにより白色X線を出射する
ことができる。
不透明な被測定物3は、主として通信用、光学用などの
多孔質ガラス母材からなり、断面円形の軸対称型である
。
多孔質ガラス母材からなり、断面円形の軸対称型である
。
より具体的には、被測定物3たる多孔質ガラス母材は、
VAD法を介して作製された光フアイバ用であり、S
i0?−Ge02の二成分からなるシングルモード型で
ある。
VAD法を介して作製された光フアイバ用であり、S
i0?−Ge02の二成分からなるシングルモード型で
ある。
第1図において、放射線源(X線源)lから出射された
白色X線は、被測定物3の前側に配置されたコリメータ
2を介してビーム状に絞られ、被測定物3に照射される
。
白色X線は、被測定物3の前側に配置されたコリメータ
2を介してビーム状に絞られ、被測定物3に照射される
。
照射された白色X線は被測定物3を透過し、その透過放
射線(透過X線)が被測定物後側のコリメータ4により
絞られた後、二つの分光結晶5a、5bにより回折され
て低エネルギE[の?i色x6、高エネルギEuの単色
X線に分光され、これらエネルギE1、Elの透過X線
が、例えばNaIからなる各検出器6a、6bへ入射さ
れる。
射線(透過X線)が被測定物後側のコリメータ4により
絞られた後、二つの分光結晶5a、5bにより回折され
て低エネルギE[の?i色x6、高エネルギEuの単色
X線に分光され、これらエネルギE1、Elの透過X線
が、例えばNaIからなる各検出器6a、6bへ入射さ
れる。
各検出器6a、6bにより光電変換されたL記EL、E
llの信号は、プリアンプ?a、 7b、アンプ8a、
8bを介して増幅され、それぞれ所定のカウンタ8a、
8bおよび計時カウンタ10を介してこれらの強度が所
定時間だけ測定される。
llの信号は、プリアンプ?a、 7b、アンプ8a、
8bを介して増幅され、それぞれ所定のカウンタ8a、
8bおよび計時カウンタ10を介してこれらの強度が所
定時間だけ測定される。
かかる測定時の測定領域は、被測定物3の一断面であり
、その測定領域にわたる測定は、つぎに述べる通りであ
る。
、その測定領域にわたる測定は、つぎに述べる通りであ
る。
第1図において、両カウンタ9a、 9bのいずれか一
方2例えばカウンタ9aは、初期化のためのプリセット
機能を有する。
方2例えばカウンタ9aは、初期化のためのプリセット
機能を有する。
第1図において、低エネルギE[、高エネルギEHの透
過x1ijが各検出器6a、6bへ入射されとき、両カ
ウンタ9a、9bおよび計時カウンタ10にはスタート
信号S1が入力され、一方のカウンタ9aがあらかじめ
設定された計数値となるまで、−測定部位のΔ11定が
行なわれる0、 このとき、両エネルギE1、Ellのカウント数とその
測定時間とが計時カウンタlOにより求められ、これら
測定データが分析系■の分析装置11を介して記憶され
る。
過x1ijが各検出器6a、6bへ入射されとき、両カ
ウンタ9a、9bおよび計時カウンタ10にはスタート
信号S1が入力され、一方のカウンタ9aがあらかじめ
設定された計数値となるまで、−測定部位のΔ11定が
行なわれる0、 このとき、両エネルギE1、Ellのカウント数とその
測定時間とが計時カウンタlOにより求められ、これら
測定データが分析系■の分析装置11を介して記憶され
る。
かくて被測定物3の一測定部位の測定が終わると、一方
のカウンタ9aから他方のカウンタ9bおよび計時カウ
ンタlOにストップ信号S2が入力され、これにより各
カウンタ9a、9b、 10が停止した後、測定手段と
被測定物との相対移動により、つぎの−測定部位へと移
行する。
のカウンタ9aから他方のカウンタ9bおよび計時カウ
ンタlOにストップ信号S2が入力され、これにより各
カウンタ9a、9b、 10が停止した後、測定手段と
被測定物との相対移動により、つぎの−測定部位へと移
行する。
以下はこれらの繰り返しにより、被測定物3の測定領域
にわたる測定が行なわれる。
にわたる測定が行なわれる。
このようにして被測定物3を測定するとき、その測定領
域Z^にわたる各測定部位の計数値Nが、N=一定とな
るように測定時間が費やされる。
域Z^にわたる各測定部位の計数値Nが、N=一定とな
るように測定時間が費やされる。
こうして求めた低エネルギE[、高エネルギEl+につ
いての計数値、これらの測定時間に基づき、被測定物3
を分析装Zi 11にて分析する。
いての計数値、これらの測定時間に基づき、被測定物3
を分析装Zi 11にて分析する。
例えば、アベル変換法、フーリエ変換法、フィルタ補正
逆投l#払、重畳積分法、既述のCT法など、適当な分
析手段を備えた分析装置11により、上記測定データ処
理を行なって、被測定物3の密度、屈折率分布等を求め
る。
逆投l#払、重畳積分法、既述のCT法など、適当な分
析手段を備えた分析装置11により、上記測定データ処
理を行なって、被測定物3の密度、屈折率分布等を求め
る。
つぎに、二成分系からなる被測定物の組成分布を測定す
る際の実験例を説明する。
る際の実験例を説明する。
試料Aとして5i(hからなるモ板、試料BとしてGe
07からなる平板を用意し、これらの質量吸収係数を別
々に測定しておく。
07からなる平板を用意し、これらの質量吸収係数を別
々に測定しておく。
試料A、Hの厚さが種々に変化した場合の試料厚さを下
記の一般式により求める。
記の一般式により求める。
lnI”/I”=g”P L +IL”P t ””
(1)〇へへ^OBB +orI/It−,LP t +JLLP t −−
−−−−(2)OA八へへBB (1)(2)式につき、行列を用いてあられすと、下記
のようになる。
(1)〇へへ^OBB +orI/It−,LP t +JLLP t −−
−−−−(2)OA八へへBB (1)(2)式につき、行列を用いてあられすと、下記
のようになる。
かかる連立方程式を解くことにより、試料A、Bの厚さ
t^、t8が求まる。
t^、t8が求まる。
このとき、従来法、では、特に質量吸収係数の大きい試
料Bが厚くなると、誤差が大きくなるが、本発明方法で
は、一定の精度でこれらの厚さが求まる。
料Bが厚くなると、誤差が大きくなるが、本発明方法で
は、一定の精度でこれらの厚さが求まる。
その−例として試料A、Hの厚さの和を一定にしておき
、試料Bの厚さを変化させたときの試料A、Hの厚さの
誤差を調べ、その結果を第2図に示した。
、試料Bの厚さを変化させたときの試料A、Hの厚さの
誤差を調べ、その結果を第2図に示した。
なお、この際の測定は一点の測定時間を120秒とし、
三点の平均で調べた。
三点の平均で調べた。
第2図を参照して明らかなように、従来法(O印)では
試料Bの厚さが3m■になると、誤差が102以上にも
なるのに対し、本発明方法(×印)では厚さの変化にか
かわらず、はぼ一定の精度が確保されている。
試料Bの厚さが3m■になると、誤差が102以上にも
なるのに対し、本発明方法(×印)では厚さの変化にか
かわらず、はぼ一定の精度が確保されている。
つぎに、本発明方法と従来法との具体的応用例における
比較結果を、第3図により説明する。
比較結果を、第3図により説明する。
この際の被測定物は、MAD法により作製したシングル
モード型の光フアイバ用母材(石英系透明ガラス)であ
り、その測定対象は当1核母材の屈折率分布である。
モード型の光フアイバ用母材(石英系透明ガラス)であ
り、その測定対象は当1核母材の屈折率分布である。
第3図において、実線は本発明方法による測定結果、点
線は従来法による測定結果、一点鎖線は真の分布である
。
線は従来法による測定結果、一点鎖線は真の分布である
。
なお、真の分布は既成のプリフォームアナライザを介し
て求めた高精度の測定結果である。
て求めた高精度の測定結果である。
第3図を参照して明らかなように、本発明方法は、従来
法の場合と比べ、5z以上精度が向上している。
法の場合と比べ、5z以上精度が向上している。
両方法とも、被測定物中心部の測定結果が悪いが、従来
法の場合、20%以上もの誤差が生じることがあるのに
対し、本発明方法ではこのような結果を招くことがなく
、再現性についても本発明方法は従来法より格段に優れ
ている。
法の場合、20%以上もの誤差が生じることがあるのに
対し、本発明方法ではこのような結果を招くことがなく
、再現性についても本発明方法は従来法より格段に優れ
ている。
その他、 S i02.−Ge02の二成分からなるG
l型の光フアイバ用多孔質母材について、上記と同様、
屈折率分布の測定精度を調べた。
l型の光フアイバ用多孔質母材について、上記と同様、
屈折率分布の測定精度を調べた。
ここで用いた真の分布は、化学的な破壊検査法により求
めた高精度の測定結果である。
めた高精度の測定結果である。
この場合も前記と同様1本発明方法は、従来法の場合と
比べ、10%以り精度が高く、再現性の点でも優れてい
た。
比べ、10%以り精度が高く、再現性の点でも優れてい
た。
本発明方法、従来法において、一定とする計数イ1(の
設定条件により両者の測定精度を同程度にする場合、本
発明方法では、従来法と比べ測定時間が25〜30%程
度短縮できる。
設定条件により両者の測定精度を同程度にする場合、本
発明方法では、従来法と比べ測定時間が25〜30%程
度短縮できる。
第4図を参照して明らかなように、検出される計数値が
減少すると、計数値の標準偏差が減少する。
減少すると、計数値の標準偏差が減少する。
放射線のエネルギ、放射線検出器などによっても大きく
変るが、光フアイバ母材に関する測定例で多々あるよう
に、計数値が一桁下がると、その標準偏差は5倍(デー
タ精度の約175)も大きくなり、これが測定精度を悪
くする最大の原因と考えられる。
変るが、光フアイバ母材に関する測定例で多々あるよう
に、計数値が一桁下がると、その標準偏差は5倍(デー
タ精度の約175)も大きくなり、これが測定精度を悪
くする最大の原因と考えられる。
本発明方法の場合、かかる影響が測定精度で補える。
なお、本発明方法は被測定物に関する屈折率分布のほか
、その組成濃度1組成分布、厚さ、形状などを非破壊的
に測定する場合にも応用でき、被測定物の断面形状も円
形のほか、多角形、異形であってもよい。
、その組成濃度1組成分布、厚さ、形状などを非破壊的
に測定する場合にも応用でき、被測定物の断面形状も円
形のほか、多角形、異形であってもよい。
「発明の効果1
以上説明した通り1本発明方法によるときは、放射線に
よる被測定物の測定時、前記所定の条件を満足させて透
過放射線量を測定するから、被測定物に関する高精度の
測定結果が短時間で得られる。
よる被測定物の測定時、前記所定の条件を満足させて透
過放射線量を測定するから、被測定物に関する高精度の
測定結果が短時間で得られる。
第1図は本発明方法の一実施例を略示した説明図、第2
図、第3図は本発明方法と従来法との測定精度を比較し
た図、第4図は計数値と標準偏差との関係を示した図、
第5図従来法における検出系を示した説明図である。 I・φ・争・放射線照射系 ■・拳・・拳放射線検出系 ■・・・・・分析系 l・・・・・放射線源 28.・、・コリメータ 3・・・・・被測定物 4 ・命・・・コリメータ 5a、5b・・・分光結晶 8a、6b−−・検出器 7a、7b・・・プリアンプ 8a、8b・・・アンプ 9a、9b−−−カウンタ 1011・喀φ・計時カウンタ 11・・・・・分析装置 ZA・・・拳・被測定物の測定領域 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 13 図 0 8 牛止第 5 図 14 図 計重り一イ直(偶) −「続ネ市11ミ書 ■′1¥件の表示 特願昭61−646352
発明の名称 放射線による被測定物の測定方法3
補i「をする者 “19件との関係 特許出願人 古河電気工業株式会社 4代理人〒100 (9043) 弁理士 斎 藤 義(゛−−5 負[
正命令の日イー1(自発 i
、’= 、−=“6 補正の対象 明細書の1発明の詳細な説明」の欄と図面。 7 補正の内容 別紙の通り ・・
6、「 18 ) 補IFの内容 1)明細書第3頁5行目のrsIをへJをrs、を」と
補正し、同頁15行目と16行目との間につぎの°文を
加入します。 rこれは測定された計数値(透過強度に相当)とall
l定データの標準偏差(測定精度に相昌)との関係より
明らかである。 第4図は、横軸に計数値、縦軸に標準偏差をとり、上記
の関係を示したものである。 この第4図から、計数値が減少すると測定精度が急激に
悪化していくことがわかる。J2)明細書第4頁13行
目の「長さに比例するJを1長さと密接な関係がある1
と補正します。 3)明細書第6頁7行目の1不透明なjを削除し、同頁
8行目、10行目のrガラス1をそれぞれ削除します。 4)明細書第7頁11行目の1面であり、Jを1面より
も多少広い領域であり、1と補正します。 5)明細書第8頁20行目〜第9頁1行目をつぎの通り
補正します。 r例えば、アベル変換法、あるいは既述のCT法(フー
リエ変換法、フィルタ補正逆投影法1重畳積分法)な1 6)明細書第9頁4行目と5行目との間につぎの文を加
入します。 rここでは、ハード的に計数値を一定とする方法につい
て説明したが、ソフト的にも、同様の測定が可能である
。」 7)明細書第9頁20行目のあとに、つぎの文を加入し
ます。 rなお上記式中、14−A I JABは試料A、Hの
質量、PA、Paは試料A、Bの密度、IO,Iは試料
がないときと、あるときの透過強度であり、上添字H・
しはそれぞれ高エネルギ、低エネルギを示す。J8)明
細書第12頁7〜9行目を削除し、同頁13行目の「精
度のJをr精度が1と補正し、ざらに同頁16〜17行
目をつぎの通り補正します。 r本発明方法の場合、各測定点で測定する計数値を一定
とすることにより、かかる影響をなくすことができる。 」 9)図面中、第1図を別紙の通り補正します。 以 4−
図、第3図は本発明方法と従来法との測定精度を比較し
た図、第4図は計数値と標準偏差との関係を示した図、
第5図従来法における検出系を示した説明図である。 I・φ・争・放射線照射系 ■・拳・・拳放射線検出系 ■・・・・・分析系 l・・・・・放射線源 28.・、・コリメータ 3・・・・・被測定物 4 ・命・・・コリメータ 5a、5b・・・分光結晶 8a、6b−−・検出器 7a、7b・・・プリアンプ 8a、8b・・・アンプ 9a、9b−−−カウンタ 1011・喀φ・計時カウンタ 11・・・・・分析装置 ZA・・・拳・被測定物の測定領域 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 13 図 0 8 牛止第 5 図 14 図 計重り一イ直(偶) −「続ネ市11ミ書 ■′1¥件の表示 特願昭61−646352
発明の名称 放射線による被測定物の測定方法3
補i「をする者 “19件との関係 特許出願人 古河電気工業株式会社 4代理人〒100 (9043) 弁理士 斎 藤 義(゛−−5 負[
正命令の日イー1(自発 i
、’= 、−=“6 補正の対象 明細書の1発明の詳細な説明」の欄と図面。 7 補正の内容 別紙の通り ・・
6、「 18 ) 補IFの内容 1)明細書第3頁5行目のrsIをへJをrs、を」と
補正し、同頁15行目と16行目との間につぎの°文を
加入します。 rこれは測定された計数値(透過強度に相当)とall
l定データの標準偏差(測定精度に相昌)との関係より
明らかである。 第4図は、横軸に計数値、縦軸に標準偏差をとり、上記
の関係を示したものである。 この第4図から、計数値が減少すると測定精度が急激に
悪化していくことがわかる。J2)明細書第4頁13行
目の「長さに比例するJを1長さと密接な関係がある1
と補正します。 3)明細書第6頁7行目の1不透明なjを削除し、同頁
8行目、10行目のrガラス1をそれぞれ削除します。 4)明細書第7頁11行目の1面であり、Jを1面より
も多少広い領域であり、1と補正します。 5)明細書第8頁20行目〜第9頁1行目をつぎの通り
補正します。 r例えば、アベル変換法、あるいは既述のCT法(フー
リエ変換法、フィルタ補正逆投影法1重畳積分法)な1 6)明細書第9頁4行目と5行目との間につぎの文を加
入します。 rここでは、ハード的に計数値を一定とする方法につい
て説明したが、ソフト的にも、同様の測定が可能である
。」 7)明細書第9頁20行目のあとに、つぎの文を加入し
ます。 rなお上記式中、14−A I JABは試料A、Hの
質量、PA、Paは試料A、Bの密度、IO,Iは試料
がないときと、あるときの透過強度であり、上添字H・
しはそれぞれ高エネルギ、低エネルギを示す。J8)明
細書第12頁7〜9行目を削除し、同頁13行目の「精
度のJをr精度が1と補正し、ざらに同頁16〜17行
目をつぎの通り補正します。 r本発明方法の場合、各測定点で測定する計数値を一定
とすることにより、かかる影響をなくすことができる。 」 9)図面中、第1図を別紙の通り補正します。 以 4−
Claims (2)
- (1)放射線照射系から被測定物の測定領域に向けて放
射線を照射し、被測定物透過後の透過放射線量を放射線
検出系により検出して、その被測定物の測定事項を測定
する方法において、放射線検出系を介して被測定物の測
定領域にわたる測定事項を求めるとき、その測定領域に
わたる計数値が一定となる測定時間にて、上記透過放射
線量を測定することを特徴とする放射線による被測定物
の測定方法。 - (2)被測定物が二組成からなるとき、透過放射線を高
エネルギと低エネルギとに分光する特許請求の範囲第1
項記載の放射線による被測定物の測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6463586A JPS62220846A (ja) | 1986-03-22 | 1986-03-22 | 放射線による被測定物の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6463586A JPS62220846A (ja) | 1986-03-22 | 1986-03-22 | 放射線による被測定物の測定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62220846A true JPS62220846A (ja) | 1987-09-29 |
Family
ID=13263923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6463586A Pending JPS62220846A (ja) | 1986-03-22 | 1986-03-22 | 放射線による被測定物の測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62220846A (ja) |
-
1986
- 1986-03-22 JP JP6463586A patent/JPS62220846A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3064931B1 (en) | Quantitative x-ray analysis | |
Pessen et al. | [9] Small-angle X-ray scattering | |
JPS62220846A (ja) | 放射線による被測定物の測定方法 | |
CN114641687A (zh) | 荧光x射线分析装置 | |
JPS62220847A (ja) | 放射線による被測定物の測定方法 | |
JPS60107551A (ja) | 光フアイバ母材の組成分析方法 | |
Robertson et al. | Photometry of X-ray crystal diffraction diagrams | |
JPH071311B2 (ja) | 蛍光x線スペクトルのピーク分離方法 | |
WO2022113481A1 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JPH06337252A (ja) | 蛍光x線分析方法 | |
Hasany et al. | Determination of traces of hafnium in zirconium oxide by wavelength dispersive X-ray fluorescence spectrometry | |
JPS60250225A (ja) | 光フアイバ母材の組成分析方法 | |
JPS5622925A (en) | Analytic measurement method for base material for optical fiber | |
JPS60113135A (ja) | 非破壊濃度測定装置 | |
JP3399861B2 (ja) | X線分析装置 | |
JP2599360B2 (ja) | X線による被測定物の非破壊測定方法 | |
JPS60107552A (ja) | 光フアイバ母材の組成分析方法 | |
John et al. | Determination of uranium isotopic composition in aqueous solutions by combined gamma-spectrometry and X-ray fluorescence | |
JPS61240148A (ja) | X線による被測定物の組成分析方法 | |
GB2080516A (en) | X-ray fluorescence analysis | |
Parus et al. | Determination of sulphur content in drill core samples by backscattered beta-particles and gamma-ray absorption | |
Action | Informationstaff | |
SU911265A1 (ru) | Устройство дл рентгенофлуоресцентного анализа | |
JPH02140647A (ja) | 元素濃度測定方法 | |
Meier et al. | Evaluation of Savannah River Plant shuffler calibration standards |