JPS62220509A - 高分子量成分をフエノ−ル重合体から分離する方法 - Google Patents
高分子量成分をフエノ−ル重合体から分離する方法Info
- Publication number
- JPS62220509A JPS62220509A JP62056977A JP5697787A JPS62220509A JP S62220509 A JPS62220509 A JP S62220509A JP 62056977 A JP62056977 A JP 62056977A JP 5697787 A JP5697787 A JP 5697787A JP S62220509 A JPS62220509 A JP S62220509A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molecular weight
- amine
- phenolic
- solution
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 49
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 45
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 25
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 19
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical group CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 15
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical class O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyridine hydrochloride Natural products C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 2
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N methyl pentane Natural products CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000430525 Aurinia saxatilis Species 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 241000428199 Mustelinae Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001474791 Proboscis Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- -1 ethanol Chemical class 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 1
- 239000003791 organic solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical group S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G8/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08G8/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes
- C08G8/08—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
- C08G8/12—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ with monohydric phenols having only one hydrocarbon substituent ortho on para to the OH group, e.g. p-tert.-butyl phenol
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G8/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G8/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08G8/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
- G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高分子量成分を7工ノール重合体から分離す
る方法、殊に高分子量化合物を場合rc ヨッテハfl
ihすれたフェノール/ホルムアルデヒド縮合生成物か
ら分離することに関する。
る方法、殊に高分子量化合物を場合rc ヨッテハfl
ihすれたフェノール/ホルムアルデヒド縮合生成物か
ら分離することに関する。
従来の技術
フェノール重合体は、成形品及び成形材料、金属用の保
義ラッカー又はエポキシ樹脂との組合せ物の絶縁材料を
製造するための極めて重要な原料工ある。このフェノー
ル重合体は、これまで例えば耐火性繊維、イオン交換体
の支持材料又は複写材料の結合剤、例えばフォトレジス
トのような新しい分野に使用するのに重要であった。し
かし、これらの新しい用途のtめには、重合体は高度の
必要条件に適合しなければならない。市場で入手できる
フェノール重合体は、幾つかの用途に対しては不利な効
果をも次らす低分子量成分の変MJif:含有する。従
って、フェノール重合体を高められ次温度で処理するこ
とは、低分子量成分の高い蒸気圧によシ重大な環境問題
を惹起し、L7jがって高価な排気装置を取付けること
が必要となる。更に、低分子量化合物の相対的に高い含
量は、フェノール重合体の低い軟化温度をまねく。この
重大な欠点は、殊にフェノール重合体を高められ次温度
で使用する、例えばフォトレジスト結合剤として使用す
ることに影響を及ぼす。光化学的に製造され友構造体は
、約140°Cを越える温度で不所望にも流れを開始し
、その結果として不満足な劣つ九分解能が達成される。
義ラッカー又はエポキシ樹脂との組合せ物の絶縁材料を
製造するための極めて重要な原料工ある。このフェノー
ル重合体は、これまで例えば耐火性繊維、イオン交換体
の支持材料又は複写材料の結合剤、例えばフォトレジス
トのような新しい分野に使用するのに重要であった。し
かし、これらの新しい用途のtめには、重合体は高度の
必要条件に適合しなければならない。市場で入手できる
フェノール重合体は、幾つかの用途に対しては不利な効
果をも次らす低分子量成分の変MJif:含有する。従
って、フェノール重合体を高められ次温度で処理するこ
とは、低分子量成分の高い蒸気圧によシ重大な環境問題
を惹起し、L7jがって高価な排気装置を取付けること
が必要となる。更に、低分子量化合物の相対的に高い含
量は、フェノール重合体の低い軟化温度をまねく。この
重大な欠点は、殊にフェノール重合体を高められ次温度
で使用する、例えばフォトレジスト結合剤として使用す
ることに影響を及ぼす。光化学的に製造され友構造体は
、約140°Cを越える温度で不所望にも流れを開始し
、その結果として不満足な劣つ九分解能が達成される。
欧州特許出願第0144880号明細書から、望ましく
ない低分子量成分を分離する九めにノボラックの分別沈
殿t−実施することは公知である。このために、ノボラ
ックは、適当な溶剤に溶解され、かつ沈殿剤を添加する
ことによって再沈殿される。この方法は、内規可能な結
果を達成することができるようにする友めに、過当な溶
剤又は沈殿削金注意深く選択しかつ正確な温度を厳しく
観察することが必要である。
ない低分子量成分を分離する九めにノボラックの分別沈
殿t−実施することは公知である。このために、ノボラ
ックは、適当な溶剤に溶解され、かつ沈殿剤を添加する
ことによって再沈殿される。この方法は、内規可能な結
果を達成することができるようにする友めに、過当な溶
剤又は沈殿削金注意深く選択しかつ正確な温度を厳しく
観察することが必要である。
西ドイツ国特許出願公開第3222485号明細8(米
国特許第4348471号明細書に相当)には、酸不含
樹吻が記載されている。ノボラックは、ノボラックt−
警造するために添加され九酸を中和に・よって除去する
窺めに塩基、例えば第三アミンで処理される。ノボラッ
クを分別することは全く記載されていない。
国特許第4348471号明細書に相当)には、酸不含
樹吻が記載されている。ノボラックは、ノボラックt−
警造するために添加され九酸を中和に・よって除去する
窺めに塩基、例えば第三アミンで処理される。ノボラッ
クを分別することは全く記載されていない。
発明を達成するための手段
それ故に、本発明の目的は、十分な耐熱性、高分子量及
び狭い分子量分布範囲I−有する物質を得るために高分
子量成分を7工ノール重合体から分離するための方法を
得ることであっ友。
び狭い分子量分布範囲I−有する物質を得るために高分
子量成分を7工ノール重合体から分離するための方法を
得ることであっ友。
この目的は、フェノール重合体を有機溶媒に溶解し、得
られた溶液を室温で、アンモニア及びアミンが化学量論
的不足量で存在するようにアンモニアまたはアミンと混
合し、沈殿物を分離し、乾燥し、必要に応じて酸水溶液
で処理し、生じる沈殿物を濾別し、洗浄し、かつ乾燥す
ることを特徴とする首記し友方法を使用することによっ
て達成される。使用される有機溶媒は、有機溶剤又は有
機溶剤混合物である。溶液は、アンモニア又はアミン1
S40モルチと混合するのが好ましい。沈殿物は、有機
溶媒中に引き取り、次に酸水溶液で処理するのが好まし
い。
られた溶液を室温で、アンモニア及びアミンが化学量論
的不足量で存在するようにアンモニアまたはアミンと混
合し、沈殿物を分離し、乾燥し、必要に応じて酸水溶液
で処理し、生じる沈殿物を濾別し、洗浄し、かつ乾燥す
ることを特徴とする首記し友方法を使用することによっ
て達成される。使用される有機溶媒は、有機溶剤又は有
機溶剤混合物である。溶液は、アンモニア又はアミン1
S40モルチと混合するのが好ましい。沈殿物は、有機
溶媒中に引き取り、次に酸水溶液で処理するのが好まし
い。
本発明t′ゲル透過クロマトグラフィーがらの結果を示
す線図によって詳説する( GPC図)。
す線図によって詳説する( GPC図)。
第1図は、分子量(M)を個々の分子の度数を示す量に
近似している係数(n)に対してプロットした、未処理
のフェノール重合体OGPC図(市場で入手できるゲル
透過クロマトグラフを用いて記録した)t−表わす。第
2図は、同じフェノール重合体の020図を表わすが、
この場合このフェノール重合体は、本発明による処理を
行なつ九。低分子量範囲内のピークが消滅したことは、
明らかに目で確認することができる。
近似している係数(n)に対してプロットした、未処理
のフェノール重合体OGPC図(市場で入手できるゲル
透過クロマトグラフを用いて記録した)t−表わす。第
2図は、同じフェノール重合体の020図を表わすが、
この場合このフェノール重合体は、本発明による処理を
行なつ九。低分子量範囲内のピークが消滅したことは、
明らかに目で確認することができる。
第2図に示しに曲線の最大値は、増大した分子量の範囲
に向って移動される。同時に、分子量分布の範囲はかな
υ狭くなる。
に向って移動される。同時に、分子量分布の範囲はかな
υ狭くなる。
本発明の範囲内で、′フェノール重合体”の用語は、フ
ェノール性ヒドロキシ基を南する重合体を意味する。殊
に、場合によっては置換され九フェノール及びホルムア
ルデヒドの縮合生成物が使用され、この縮合生成物は、
一般式(■):p Bエ B2 に相当し、但し、 R工及びR2は、同一か又は異なシ、水素原子及び/又
は1〜9個の炭素原子kliJする分枝鎖状又は非分枝
鎖状アルキル基を表わす。好ましくは、 Ellは、水素原子を表わし、かつ R2は、1〜4個の炭素原子t−有する分枝鎖状又は非
分枝鎖状アルギル基、殊にメチル基又は第三ブチル基を
表わす。
ェノール性ヒドロキシ基を南する重合体を意味する。殊
に、場合によっては置換され九フェノール及びホルムア
ルデヒドの縮合生成物が使用され、この縮合生成物は、
一般式(■):p Bエ B2 に相当し、但し、 R工及びR2は、同一か又は異なシ、水素原子及び/又
は1〜9個の炭素原子kliJする分枝鎖状又は非分枝
鎖状アルキル基を表わす。好ましくは、 Ellは、水素原子を表わし、かつ R2は、1〜4個の炭素原子t−有する分枝鎖状又は非
分枝鎖状アルギル基、殊にメチル基又は第三ブチル基を
表わす。
有利に使用されるフェノール重合体の例は、フェノール
、クレゾール又は第三ジチル−フェノール及びホルムア
ルデヒドのノボラックを包含する。この化合物の概括は
、クノツゾ(A、 Knop )及びシャイゾ(W、
5chaib )者、0ケミストリー・アンド・アプリ
ケーション・オプ・フェノ−リック・レジンズ(Cha
miθtryana Application of
Phenolic p8sing ) ”、シュプリン
が一社(apringsr )刊、1979年に記載さ
れている。
、クレゾール又は第三ジチル−フェノール及びホルムア
ルデヒドのノボラックを包含する。この化合物の概括は
、クノツゾ(A、 Knop )及びシャイゾ(W、
5chaib )者、0ケミストリー・アンド・アプリ
ケーション・オプ・フェノ−リック・レジンズ(Cha
miθtryana Application of
Phenolic p8sing ) ”、シュプリン
が一社(apringsr )刊、1979年に記載さ
れている。
本発明の目的に適当なフェノール重合体は、同一か又は
異なる構造の組成物の単位を再硬化させることによって
構成されている。
異なる構造の組成物の単位を再硬化させることによって
構成されている。
本発明方法は、一般に高分子量成分をフェノール性とド
ロキシ基會有する重合体から分離する次めに使用するこ
とができる。
ロキシ基會有する重合体から分離する次めに使用するこ
とができる。
出°発物質として本発明方法に使用することができるフ
ェノール重合体の分子量は、上限に制限がない。下限は
、それぞれの重合体の構造及び低分子量化合物の金髪に
よって決定される。
ェノール重合体の分子量は、上限に制限がない。下限は
、それぞれの重合体の構造及び低分子量化合物の金髪に
よって決定される。
5oot−越える分子量を有する重合体が好ましい。
本発明方法によって分離させることができる高分子量成
分の割合は、一般に塩基性フェノール重合体の重量に対
して99.5〜50重量%、有利に99〜609〜60
重量%動する。
分の割合は、一般に塩基性フェノール重合体の重量に対
して99.5〜50重量%、有利に99〜609〜60
重量%動する。
本発明方法の場合、フェノール重合体の有機溶媒は、過
当に有機溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルインブチルケトン、酢酸ツメチルニスチル、エチ
ルエステル、フロビルエステル及びブチルエステル、メ
)dPシプロぎルアセテート、メチルグリコール及びア
ルコ−ル、例えばエタノール、インプロパツール及びブ
タノール又はこれらの化合物の混合物からなる。適当な
溶剤を選択することは、それぞれのフェノール重合体の
構造及び極性に依存する。ま几、必要に応じて、溶媒は
非極性*I&溶1IIFl八例えば炭化水素、例えばn
−ヘキサンを金屑することもできる。
当に有機溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルインブチルケトン、酢酸ツメチルニスチル、エチ
ルエステル、フロビルエステル及びブチルエステル、メ
)dPシプロぎルアセテート、メチルグリコール及びア
ルコ−ル、例えばエタノール、インプロパツール及びブ
タノール又はこれらの化合物の混合物からなる。適当な
溶剤を選択することは、それぞれのフェノール重合体の
構造及び極性に依存する。ま几、必要に応じて、溶媒は
非極性*I&溶1IIFl八例えば炭化水素、例えばn
−ヘキサンを金屑することもできる。
本発明方法の場合、フェノール重合体の有機溶液は、ア
ンモニア又はアミンで処理され、それによってそれぞれ
アンモニア又はアミンの化学爺論的不足量が存在するは
ずである。この処理によ#)#I性フェノール基と塩基
性窒素との間で相互作用が惹起されると思われるが、他
の説明も排除されるものではない。分子の大きさに応じ
て、この相互作用は、高分子量成分の沈殿を生じ、これ
に反して低分子量成分は溶液中に残存し、シタがって分
離が行なわれる。
ンモニア又はアミンで処理され、それによってそれぞれ
アンモニア又はアミンの化学爺論的不足量が存在するは
ずである。この処理によ#)#I性フェノール基と塩基
性窒素との間で相互作用が惹起されると思われるが、他
の説明も排除されるものではない。分子の大きさに応じ
て、この相互作用は、高分子量成分の沈殿を生じ、これ
に反して低分子量成分は溶液中に残存し、シタがって分
離が行なわれる。
アンモニア又はアミンの添加は、有利に滴下法で行なわ
れ、沈殿が達成されるような長時間連続される。
れ、沈殿が達成されるような長時間連続される。
アンモニアは別として本発明方法に使用することができ
るアミンは、約25℃の水溶液中で測定された、約6よ
シも多い酸定* pKa t−有する化合物である。約
9を越えるpKa f有する化合物が好′ましい〔0ハ
ンドブツク・オプ・ケミ゛ストリー・アンド・フイズイ
ツクス()1an4bookof Chemistry
and Physics )”、第r)147頁〜第
D149頁、第58版、1977年参照〕。
るアミンは、約25℃の水溶液中で測定された、約6よ
シも多い酸定* pKa t−有する化合物である。約
9を越えるpKa f有する化合物が好′ましい〔0ハ
ンドブツク・オプ・ケミ゛ストリー・アンド・フイズイ
ツクス()1an4bookof Chemistry
and Physics )”、第r)147頁〜第
D149頁、第58版、1977年参照〕。
適当なアミンは、例えばモ、ノー、ジーもしくはトリア
ルギルアミン、例えばエチルアミン、プロピルアミン、
エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジエ
チルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、
シクロヘキシルアミン又はピペリジンを包含する。トリ
エチルアミン、シクロヘキシルアミン、ぎベリジン又は
エチレンジアミンが特に好ましい。を九、上記アミンの
混合物全使用することもできる。
ルギルアミン、例えばエチルアミン、プロピルアミン、
エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジエ
チルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、
シクロヘキシルアミン又はピペリジンを包含する。トリ
エチルアミン、シクロヘキシルアミン、ぎベリジン又は
エチレンジアミンが特に好ましい。を九、上記アミンの
混合物全使用することもできる。
フェノール重合体の開始有機溶液の濃度は、一般に溶液
の重量に対して約5〜40重f俤の間、有利に約5〜4
0重f1%の間にある。
の重量に対して約5〜40重f俤の間、有利に約5〜4
0重f1%の間にある。
本発明方法で使用されるアンモニア又はアミンの量は、
有利に最初に装入されたフェノール重合体に対して約1
〜40モル係の間で変動する。
有利に最初に装入されたフェノール重合体に対して約1
〜40モル係の間で変動する。
本発明方法の場合、フェノール重合体は、有機1@削に
溶解した後、一般に室温で、フェノール重合体に使用さ
れる溶剤に場合によっては溶解されたアミン又はアンモ
ニア′で直接処理される。沈殿物は、遠心分離系又は濾
過系を用いて分離され、かつ場合によっては中間乾燥工
程後に酸水溶液と混合される。その後に、今や低分子量
成分を含まない沈殿物は、常法により乾燥される。
溶解した後、一般に室温で、フェノール重合体に使用さ
れる溶剤に場合によっては溶解されたアミン又はアンモ
ニア′で直接処理される。沈殿物は、遠心分離系又は濾
過系を用いて分離され、かつ場合によっては中間乾燥工
程後に酸水溶液と混合される。その後に、今や低分子量
成分を含まない沈殿物は、常法により乾燥される。
フェノール重合体の有機溶液をアンモニア又はアミンで
処理することは、室温で0.5〜5時間の間実施される
が、通常十分な分離を達成するためには、1時間で充分
である。
処理することは、室温で0.5〜5時間の間実施される
が、通常十分な分離を達成するためには、1時間で充分
である。
沈殿vlJ’t−酸水溶液で処理することは、乾燥物質
を直1接処理することによって行なうことができる。し
かし、まず沈殿物を1磯溶媒中に引き取り、次にこれを
酸水溶液で処理するのが有利である。
を直1接処理することによって行なうことができる。し
かし、まず沈殿物を1磯溶媒中に引き取り、次にこれを
酸水溶液で処理するのが有利である。
適当な酸の例は、無機酸又は*磯酸、例えば水溶液の形
の塩酸、硝醪、51Lt!!1、酢酸等である。
の塩酸、硝醪、51Lt!!1、酢酸等である。
酸化合物の添加量は、先に添加され九アンモニア又はア
ミンの量に依存する。一般には、アンモニア又はアミン
の添加量に対して僅かに過剰量の酸が使用される。また
、酸イオン交換体もフェノールを遊離するために十分に
使用することができる。
ミンの量に依存する。一般には、アンモニア又はアミン
の添加量に対して僅かに過剰量の酸が使用される。また
、酸イオン交換体もフェノールを遊離するために十分に
使用することができる。
本発明方法は、高分子量フェノール重合体を低分子量成
分から容易に分離させる。こうして得られ7j重合体は
、出発物質と比軟、して増大した分子量及び狭い分子量
分布範囲t−有する無色及び無臭の粉末である。この種
の重合体の熱的性質及び機械的性質、例えばガラス転移
温度、皮藤形成性、引裂強度等の点で本発明によって達
成された実質的な改善は、明らかである。付加的に、本
発明により処理され1ζ、重合体を加熱することによシ
単量体又は他の低分子量成分が遊離することは、完全に
阻止される。従って、健康又は汚染に対する危険による
問題は伺も起こらない。
分から容易に分離させる。こうして得られ7j重合体は
、出発物質と比軟、して増大した分子量及び狭い分子量
分布範囲t−有する無色及び無臭の粉末である。この種
の重合体の熱的性質及び機械的性質、例えばガラス転移
温度、皮藤形成性、引裂強度等の点で本発明によって達
成された実質的な改善は、明らかである。付加的に、本
発明により処理され1ζ、重合体を加熱することによシ
単量体又は他の低分子量成分が遊離することは、完全に
阻止される。従って、健康又は汚染に対する危険による
問題は伺も起こらない。
更に、本発明は、本発明方法を使用することによって得
られかつ出発フェノール重合体よシも高い浸透圧画定に
よる分子量及びガラス転移温度を有する、フェノール重
合体の高分子量成分からなる両分に関する。浸透圧法分
子量が約3倍増大されかつガラス転移温度が約1.5倍
上昇した両分は、特に好ましい。
られかつ出発フェノール重合体よシも高い浸透圧画定に
よる分子量及びガラス転移温度を有する、フェノール重
合体の高分子量成分からなる両分に関する。浸透圧法分
子量が約3倍増大されかつガラス転移温度が約1.5倍
上昇した両分は、特に好ましい。
本発明によるフェノール重合体から、成形材料は公知方
法を使用することによシ得られる。
法を使用することによシ得られる。
過当な充填剤は、無機鉱物性物質、例えば石灰石もしく
はガラス繊維又は有機物質、例えば木粉を包含する。使
用されるフェノール重合体が実質的に無色であるという
事実によシ、こうして得られた成形材料は、これまで知
られている材料よシも遥かに広範に異なる色で染色する
ことができる。
はガラス繊維又は有機物質、例えば木粉を包含する。使
用されるフェノール重合体が実質的に無色であるという
事実によシ、こうして得られた成形材料は、これまで知
られている材料よシも遥かに広範に異なる色で染色する
ことができる。
使用されたフェノール重合体のガラス転移温度が上昇さ
れ九ことによシ、この重合体から構成され7’?、W品
の改善された熱安定性が生じる。
れ九ことによシ、この重合体から構成され7’?、W品
の改善された熱安定性が生じる。
!!施例
次に、本発明を実施例につき詳説するが、本発明はこれ
によって限定されるものではない。
によって限定されるものではない。
例 1
m−1p−又は0−フレ・l−ルの混合物をホルムアル
デヒVと酸縮合させることによって得られtノボラック
樹脂759を酢酸エチルに溶解する。この溶液にn−ヘ
キサン150祷を冷加する。不溶性成分を濾別しt後、
トリエチルアミン1111Ltt−15分間で滴下させ
ながら攪拌混入する。形成される無色の沈殿物全吸引に
よって除去し、溶剤混合物−200m/で洗浄し、次に
室温で10時間真空乾燥する。
デヒVと酸縮合させることによって得られtノボラック
樹脂759を酢酸エチルに溶解する。この溶液にn−ヘ
キサン150祷を冷加する。不溶性成分を濾別しt後、
トリエチルアミン1111Ltt−15分間で滴下させ
ながら攪拌混入する。形成される無色の沈殿物全吸引に
よって除去し、溶剤混合物−200m/で洗浄し、次に
室温で10時間真空乾燥する。
こうして処理しmノボラック2511’feアセトン2
50祷に溶解し、次にこの溶液を約5チの濃度金屑する
HCJ水溶液256中に滴下させながら攪拌混入する。
50祷に溶解し、次にこの溶液を約5チの濃度金屑する
HCJ水溶液256中に滴下させながら攪拌混入する。
沈殿し比重合体を吸引濾過し、蒸留水で中和洗浄し、か
つ室温で24時間真空乾燥する。
つ室温で24時間真空乾燥する。
未処理のノボラックの分析値及び本発明によす処理しπ
ノボラックの分析値: 簀 数平均分子量 ■ 重量平均分子量 非均一性:商M、 : Mn 例 2 市場で入手できるノがラック150g〔アル/M−ヤ(
4□。。ワ。、■) PN 450 ”lケイツブロバ
ノール700祷に溶解する。アンモニアガスをこの溶液
中に、室温で連続的に攪拌しながら、もはや沈殿が観察
されなくなるまで吹込む。
ノボラックの分析値: 簀 数平均分子量 ■ 重量平均分子量 非均一性:商M、 : Mn 例 2 市場で入手できるノがラック150g〔アル/M−ヤ(
4□。。ワ。、■) PN 450 ”lケイツブロバ
ノール700祷に溶解する。アンモニアガスをこの溶液
中に、室温で連続的に攪拌しながら、もはや沈殿が観察
されなくなるまで吹込む。
この混合物をさらに10分間攪拌し、次に沈殿物を濾別
し、かつイノプロパツール150mtで洗浄する。
し、かつイノプロパツール150mtで洗浄する。
こうして処理したノボラック10011Ll−アセトン
20 QmAに溶解し、かつ攪拌しながら1NB280
451から沈殿させる。生じるノボラックを蒸留水で洗
浄し、次に60℃の室温で24時間真空乾燥する。
20 QmAに溶解し、かつ攪拌しながら1NB280
451から沈殿させる。生じるノボラックを蒸留水で洗
浄し、次に60℃の室温で24時間真空乾燥する。
未処理のノボラックの分4fr値及び本発明方法により
処理し尺ノボラックの分析値: 例 6 市場で入手できるノボラック50g〔アルノボ−k (
Alnovol ’ ) PN 3201 ”!!”酢
酸エチA−3Q Q R1及びn−ヘキサン200−に
溶解する。そこで直ちに、トリエチルアミン6就を室温
で滴下させながら攪拌混入する。添加が完了したら、攪
拌をさらに10分間連続させ、次に沈殿物を濾別し、か
つ溶剤組成物15omtで洗浄する。
処理し尺ノボラックの分析値: 例 6 市場で入手できるノボラック50g〔アルノボ−k (
Alnovol ’ ) PN 3201 ”!!”酢
酸エチA−3Q Q R1及びn−ヘキサン200−に
溶解する。そこで直ちに、トリエチルアミン6就を室温
で滴下させながら攪拌混入する。添加が完了したら、攪
拌をさらに10分間連続させ、次に沈殿物を濾別し、か
つ溶剤組成物15omtで洗浄する。
こうして処理しmツギラック509tアセトン100r
!LtK溶解し、かつ攪拌しながら1N強のHCJ 3
eから沈殿させる。蒸留水で洗浄しt後に残存するノ
ボラック沈殿物を60℃で24時間真空乾燥する。
− 未処理のノボラックの分析値及び本発明方法によ多処理
し友ツメランクの分析値: 例 4 m−タレ・l−ル及びp−クレゾールの混合物をホルム
アルデヒドと酸縮合させることによって得られπノ4で
ランク樹脂125gを、酢酸エチル及びヘキサンの混合
物400祷(2:1容量部)に溶解する。次に、ピペリ
ジン22WLt’!i−。
!LtK溶解し、かつ攪拌しながら1N強のHCJ 3
eから沈殿させる。蒸留水で洗浄しt後に残存するノ
ボラック沈殿物を60℃で24時間真空乾燥する。
− 未処理のノボラックの分析値及び本発明方法によ多処理
し友ツメランクの分析値: 例 4 m−タレ・l−ル及びp−クレゾールの混合物をホルム
アルデヒドと酸縮合させることによって得られπノ4で
ランク樹脂125gを、酢酸エチル及びヘキサンの混合
物400祷(2:1容量部)に溶解する。次に、ピペリ
ジン22WLt’!i−。
溶液を強力に攪拌しながら流加する。沈殿物を吸引によ
って除去し、かつ溶剤組成物で洗浄する。
って除去し、かつ溶剤組成物で洗浄する。
元金に沈殿が達成されたか否かを検査するtめに、さら
にぎベリジン12−を濾液に添加する。沈殿は全く起こ
らない。単離され次沈殿物40、!i’t−アセトン1
00mAK溶解し、この溶液を1υ拌しながら1N強の
)12SO431に流加する。
にぎベリジン12−を濾液に添加する。沈殿は全く起こ
らない。単離され次沈殿物40、!i’t−アセトン1
00mAK溶解し、この溶液を1υ拌しながら1N強の
)12SO431に流加する。
沈殿物を吸引によって除去し、洗浄し、かつ真空乾燥す
る。(収ft:289) 未処理のノボラックの分析値及び本発明方法、によシ処
理しtノボラックの分析値:使用列1 高分子量ノボラック及びヘキサメチレンテトラアミンか
らの成形材料の段造: 本発明方法によシ例2の記載と同様にして市場で入手で
きるフェノール樹脂〔アルノポール(Alnovol
” ) PN 430 ]がら得られ丸高分子量ノボラ
ック35 p、b、w、 (重量部)を、へ呼すメチレ
ンテトラアミン5 p、b、w、 、木粉5 Q p、
b、wl、石灰石1s p−b−w−、ステアリン酸亜
鉛1p、b、w、及び酸化マグネシウム1p、’b、w
。
る。(収ft:289) 未処理のノボラックの分析値及び本発明方法、によシ処
理しtノボラックの分析値:使用列1 高分子量ノボラック及びヘキサメチレンテトラアミンか
らの成形材料の段造: 本発明方法によシ例2の記載と同様にして市場で入手で
きるフェノール樹脂〔アルノポール(Alnovol
” ) PN 430 ]がら得られ丸高分子量ノボラ
ック35 p、b、w、 (重量部)を、へ呼すメチレ
ンテトラアミン5 p、b、w、 、木粉5 Q p、
b、wl、石灰石1s p−b−w−、ステアリン酸亜
鉛1p、b、w、及び酸化マグネシウム1p、’b、w
。
と十分に混合する。更に、個々の成分を緊密に掛合する
ことは、100℃で実施され次圧延処理によって達成さ
れる。次に、圧延処理により前縮合され次組酸物を微細
に粉砕し、かつ160℃の温度及び100kg/Crn
2の圧力で成形する。加熱時間は、#厚1闘につき約1
分間である。
ことは、100℃で実施され次圧延処理によって達成さ
れる。次に、圧延処理により前縮合され次組酸物を微細
に粉砕し、かつ160℃の温度及び100kg/Crn
2の圧力で成形する。加熱時間は、#厚1闘につき約1
分間である。
こうして得られた成形品の有用性の試験は次の結果を生
じる: 曲げ強さ: 80 N /mtr’ (DIN 534
52 )荷重撓み温度(マルテンス): 140°O(nxN53458 ) これらの値は、新規ノボラックが優れていることを証明
する:この新規ツメラックの上昇され文ガラス転移温度
により、荷重撓み温度は、この種の組成物を用いて常法
で達成することができる値、すなわち約7ON/w2及
び約125°Cよりも省しく高い。
じる: 曲げ強さ: 80 N /mtr’ (DIN 534
52 )荷重撓み温度(マルテンス): 140°O(nxN53458 ) これらの値は、新規ノボラックが優れていることを証明
する:この新規ツメラックの上昇され文ガラス転移温度
により、荷重撓み温度は、この種の組成物を用いて常法
で達成することができる値、すなわち約7ON/w2及
び約125°Cよりも省しく高い。
」ζ里夛ドし
向上された熱安定性kmする高分子量ノボラツクヲ使用
してのフォトレジストの製造一本発明方法によりクレゾ
ール/ホルムアルデヒド縮合物から得られ7’C高分子
鷲ノボラック7 p、b、w、、ならびに 2.3.4−)リヒドロキシベンゾフエノン1モル及び
ナフトa?ノン−r1.2)−ジアジY−(2)−5−
スルホン酸りロリr3モルから得られたエステル化生成
物 3 p、bow、を メチルエチルケトン 45 p−b、w、及びエタノー
ル 45 p、b、v、に溶解する。
してのフォトレジストの製造一本発明方法によりクレゾ
ール/ホルムアルデヒド縮合物から得られ7’C高分子
鷲ノボラック7 p、b、w、、ならびに 2.3.4−)リヒドロキシベンゾフエノン1モル及び
ナフトa?ノン−r1.2)−ジアジY−(2)−5−
スルホン酸りロリr3モルから得られたエステル化生成
物 3 p、bow、を メチルエチルケトン 45 p−b、w、及びエタノー
ル 45 p、b、v、に溶解する。
得られた溶液71−0.2μの孔径會有する濾過装置に
よって濾過し、表面酸化された珪素ウェファ−上に回転
塗布し、かつ乾燥する。生じる層厚は約1.7μである
。
よって濾過し、表面酸化された珪素ウェファ−上に回転
塗布し、かつ乾燥する。生じる層厚は約1.7μである
。
このウェファ−を試験マスクを介して露光接触させ、こ
の場合露光は665nalIで4.5mJ/CIE”の
強度で15秒間実施され、かつメタ珪酸ナトリウム5.
6p、b、Wo、燐酸三ナトリウム3.4 p、b、w
、及び水91.5 T3.b、”l’1.からなる溶液
で現像する。
の場合露光は665nalIで4.5mJ/CIE”の
強度で15秒間実施され、かつメタ珪酸ナトリウム5.
6p、b、Wo、燐酸三ナトリウム3.4 p、b、w
、及び水91.5 T3.b、”l’1.からなる溶液
で現像する。
生じる画像パターンは、約1.0μの分解能を凋する。
次に、パターン化されたレジスト層ヲ150°Gで60
分間屍付ける。レジストパターンの顕微*試唾により、
端縁に全く丸みがなく、レジスト線は流れていないこと
が判明した。
分間屍付ける。レジストパターンの顕微*試唾により、
端縁に全く丸みがなく、レジスト線は流れていないこと
が判明した。
これに対して、常用の未処理のノボラック結合剤金金屑
する層は、前記のように加熱されt後にはもはや明瞭な
パターンを示さない。パターンは、丸み全けけた端碌全
示し、かつ最初よ)も広幅になっている。幾つかの個所
では、何個の心の間にウェブが形成していることさえも
観察される。
する層は、前記のように加熱されt後にはもはや明瞭な
パターンを示さない。パターンは、丸み全けけた端碌全
示し、かつ最初よ)も広幅になっている。幾つかの個所
では、何個の心の間にウェブが形成していることさえも
観察される。
第1図は、分子f[M)’e個々の分子の度数を示す世
に近似している係数rn)に対してプロットした、未処
理のフェノール重合体のゲル透過クロマトグラフィーか
らの結果全示す線図であシ、第2図は、同じフェノール
重合体のゲル透過クロマトグラフィーからの結果を示す
線図であるが、この場合このフェノール重合体は、本発
明による処理を行なったものである。
に近似している係数rn)に対してプロットした、未処
理のフェノール重合体のゲル透過クロマトグラフィーか
らの結果全示す線図であシ、第2図は、同じフェノール
重合体のゲル透過クロマトグラフィーからの結果を示す
線図であるが、この場合このフェノール重合体は、本発
明による処理を行なったものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、高分子量成分をフェノール重合体から分離する方法
において、フェノール重合体を有機溶媒に溶解し、得ら
れた溶液を室温で、アンモニア又はアミンが化学量論的
不足量で存在するようにアンモニア又はアミンと混合し
、沈殿物を分離し、乾燥し、必要に応じて酸水溶液で処
理し、生じる沈殿物を濾別し、洗浄し、かつ乾燥するこ
とを特徴とする、高分子量成分をフェノール重合体から
分離する方法。 2、有機溶媒は有機溶剤又は溶剤混合物である、特許請
求の範囲第1項記載の方法。 3、溶液をフェノール重合体に対してアンモニア又はア
ミン約1〜40モル%と混合する、特許請求の範囲第1
項記載の方法。 4、乾燥した沈殿物を有機溶媒中に引き取り、次に酸水
溶液で処理する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、フェノール重合体は場合によっては置換されたフェ
ノール及びホルムアルデヒドの縮合生成物である、特許
請求の範囲第1項記載の方法。 6、アミンは25℃の水溶液中で約6よりも多い酸定数
pKaを有する化合物である、特許請求の範囲第1項又
は第6項に記載の方法。 7、アミンはトリエチルアミンである、特許請求の範囲
第1項又は第6項に記載の方法。 8、アミンはピペリジンである、特許請求の範囲第1項
又は第6項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3608492.1 | 1986-03-14 | ||
DE19863608492 DE3608492A1 (de) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Verfahren zum abtrennen von hoehermolekularen bestandteilen aus phenolpolymeren |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62220509A true JPS62220509A (ja) | 1987-09-28 |
Family
ID=6296319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62056977A Pending JPS62220509A (ja) | 1986-03-14 | 1987-03-13 | 高分子量成分をフエノ−ル重合体から分離する方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4795829A (ja) |
EP (1) | EP0237875B1 (ja) |
JP (1) | JPS62220509A (ja) |
KR (1) | KR950015123B1 (ja) |
AT (1) | ATE61606T1 (ja) |
DE (2) | DE3608492A1 (ja) |
HK (1) | HK67092A (ja) |
SG (1) | SG62092G (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19530630A1 (de) * | 1995-08-21 | 1997-02-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von methylsubstituierten Polyalkylidenpolyphenolen |
JP3562673B2 (ja) | 1996-01-22 | 2004-09-08 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
US6506831B2 (en) | 1998-12-20 | 2003-01-14 | Honeywell International Inc. | Novolac polymer planarization films with high temperature stability |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2959622A (en) * | 1960-11-08 | Purification of crude jj-p-bis- | ||
US2829175A (en) * | 1953-10-14 | 1958-04-01 | Gulf Research Development Co | Purification of bis-phenols |
US2862976A (en) * | 1953-10-14 | 1958-12-02 | Gulf Research Development Co | Purification process |
JPS5786830A (en) * | 1980-11-20 | 1982-05-31 | Fujitsu Ltd | Pattern forming material |
US4348471A (en) * | 1981-06-15 | 1982-09-07 | Polychrome Corporation | Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising acid free novolak, diazo oxide and acid sensitive dyestuff |
DE3344202A1 (de) * | 1983-12-07 | 1985-06-20 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Positiv-fotoresistzusammensetzungen |
US4507509A (en) * | 1984-01-04 | 1985-03-26 | General Electric Company | Purification of bisphenol-A |
DE3436349A1 (de) * | 1984-10-04 | 1986-04-10 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur extraktion von phenolen aus waessrigen loesungen |
-
1986
- 1986-03-14 DE DE19863608492 patent/DE3608492A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-03-05 EP EP87103124A patent/EP0237875B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-05 AT AT87103124T patent/ATE61606T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-03-05 DE DE8787103124T patent/DE3768534D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-13 JP JP62056977A patent/JPS62220509A/ja active Pending
- 1987-03-13 KR KR1019870002261A patent/KR950015123B1/ko active IP Right Grant
- 1987-03-16 US US07/025,976 patent/US4795829A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-06-16 SG SG620/92A patent/SG62092G/en unknown
- 1992-09-03 HK HK670/92A patent/HK67092A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0237875A2 (de) | 1987-09-23 |
HK67092A (en) | 1992-09-11 |
DE3608492A1 (de) | 1987-09-17 |
SG62092G (en) | 1992-09-04 |
KR950015123B1 (ko) | 1995-12-22 |
EP0237875A3 (en) | 1988-10-05 |
EP0237875B1 (de) | 1991-03-13 |
KR870008925A (ko) | 1987-10-22 |
ATE61606T1 (de) | 1991-03-15 |
DE3768534D1 (de) | 1991-04-18 |
US4795829A (en) | 1989-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4629097B2 (ja) | ノボラック型の構造を有する誘導体化されたポリヒドロキシスチレン、および、それらの製造方法 | |
DE69019050T2 (de) | Phenolharzzusammensetzungen. | |
US4513077A (en) | Electron beam or X-ray reactive image-formable resinous composition | |
US2566851A (en) | Phenolic intercondensation resins and methods of making same | |
JP2592473B2 (ja) | 尿素アルデヒド重縮合物の製造方法 | |
JPS62220509A (ja) | 高分子量成分をフエノ−ル重合体から分離する方法 | |
US2843565A (en) | Butenyl phenol-aldehyde resins | |
US2970985A (en) | Curing catalysts for acrolein pentaerythritol resins | |
US5807960A (en) | Alkyl phosphate catalyst for polyquinoline synthesis | |
US1020593A (en) | Phenolic condensation product and method of preparing same. | |
US3042655A (en) | Novolak and method of manufacture thereof | |
JPS61145223A (ja) | フエノ−ル重合体の製造法 | |
KR100559058B1 (ko) | 수분산 수지 조성물 및 이의 제조방법 | |
JPH083257A (ja) | ノボラック型フェノール樹脂及びその製造方法 | |
US1188439A (en) | Composition of matter and process of making same. | |
US1046420A (en) | Plastic composition and method of preparing the same. | |
DE836100C (de) | Verfahren zur Herstellung von Kunstharzen aus mehrkernigen Kohlenwasserstoffen | |
JPS637213B2 (ja) | ||
US2024212A (en) | Preparation of resinous condensation products | |
FI62850C (fi) | Ureaformaldehydharts foerfarande foer framstaellning daerav oc anvaendning daerav i katalytbelaeggningskompositioner | |
SU753855A1 (ru) | Способ получени новолачных фенолоацетальдегидных смол | |
JPH02138240A (ja) | ポリ・パラ・フェニルアミノカルボン酸エステル | |
JPH02107614A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法 | |
JPS6090213A (ja) | 白色変性フエノ−ル樹脂組成物の製造方法 | |
PL38405B1 (ja) |