JPS62217698A - Metal base multilayer printed board - Google Patents

Metal base multilayer printed board

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Publication number
JPS62217698A
JPS62217698A JP5954086A JP5954086A JPS62217698A JP S62217698 A JPS62217698 A JP S62217698A JP 5954086 A JP5954086 A JP 5954086A JP 5954086 A JP5954086 A JP 5954086A JP S62217698 A JPS62217698 A JP S62217698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
units
weight
ethylene
metal
circuit board
Prior art date
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Pending
Application number
JP5954086A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
前田 正彦
員也 永田
斉藤 泰旻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP5954086A priority Critical patent/JPS62217698A/en
Publication of JPS62217698A publication Critical patent/JPS62217698A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 辛−の1 本発明は二種のエチレン系共重合体の混合物の架橋物の
肉薄物と導電性金属層が少なくとも積層されてなるフレ
キシブルプリント基板を金属ベースプリント基板にa層
されてなる金属ベース多層プリント基板に関する。さら
にくわしくは、金属ベース多層プリント基板が(A)少
なくともエチレン単位とカルボン酸単位、ジカルボン酸
単位、その無水物単位およびそのハーフェステル単位か
らなる群かえらばれた少なくとも一種の単位とを有する
エチレン共重合体ならびに(B)少なくともエチレン単
位とヒドロキシル単位、アミノ単位およびエポキシ単位
からなる群からえらばれた少なくとも一種の単位とを有
するエチレン共重合体の未架橋の混合物またはその架橋
物を少なくとも有する肉薄物と導電性金属層が少なくと
も積層されてなるフレキシブルプリント基板を金属ベー
スプリント基板に積層させてなる金属ベース多層プリン
ト基板に関するものであり、放熱特性がすぐれ、しかも
多層化が可能な基板を提供することを目的とするもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a flexible printed circuit board in which at least a thin crosslinked product of a mixture of two types of ethylene copolymers and a conductive metal layer are laminated on a metal base printed circuit board. This invention relates to a metal-based multilayer printed circuit board having a layer. More specifically, the metal-based multilayer printed circuit board is an ethylene copolymer having (A) at least ethylene units and at least one unit selected from the group consisting of carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, anhydride units thereof, and halfester units thereof. and (B) an uncrosslinked mixture of an ethylene copolymer having at least ethylene units and at least one type of unit selected from the group consisting of hydroxyl units, amino units and epoxy units, or a thin-walled material having at least a crosslinked product thereof, and a conductive material. The present invention relates to a metal-based multilayer printed circuit board formed by laminating a flexible printed circuit board on which at least a metal layer is laminated on a metal-based printed circuit board, and the object thereof is to provide a board with excellent heat dissipation characteristics and which can be multilayered. That is.

藍XΩ且] 最近の電子機器は小型化、軽量化、薄形化、高密度実装
化が急速に進められている。特に、プリント配線板はラ
ジオなどの民生機器用として商品化されはじめ、現在で
は量産性、高信頼性に支えられて電話機、電算機などの
産業機器用として用途を拡大している。
Indigo X Ω and] Recent electronic devices are rapidly becoming smaller, lighter, thinner, and more densely packaged. In particular, printed wiring boards began to be commercialized for consumer equipment such as radios, and are now being used in industrial equipment such as telephones and computers, supported by mass production and high reliability.

フレキシブルプリント配線板は当初電線、ケーブルの代
替として使用されてきたが、可撓性があるために狭い空
間に立体的に高密度実装することができるのみならず、
繰り返し屈曲に耐え得るために電子機器の可動部への配
線、ケーブル、コネクター機能を付与した複合部品とし
てその用途が拡大されつつある。
Flexible printed wiring boards were initially used as a substitute for electric wires and cables, but their flexibility not only allows for high-density three-dimensional mounting in narrow spaces.
In order to withstand repeated bending, its use is expanding as a composite component that functions as a wiring, cable, or connector for the moving parts of electronic devices.

現在、カメラ、電気卓上計算機、電話機、プリンターな
どの機器内立体配線材料として用いられているものは、
厚さが約25ミクロンのポリイミドまたはポリエステル
のフィルムの両面または片面に35ミクロンの電解銅箔
を接着したフレキシブル銅張板を使用した配線パターン
を形成したものである。この配線パターンにスルホール
メンキラ施し、さらに両面および外層にカバーレイ被覆
を行なったものも用いられている。
Currently, the materials used as three-dimensional wiring materials in devices such as cameras, electric desktop calculators, telephones, and printers are:
A wiring pattern is formed using a flexible copper-clad board in which electrolytic copper foil of 35 microns is adhered to both or one side of a polyimide or polyester film with a thickness of about 25 microns. This wiring pattern is also coated with a through hole coating and further coated with a coverlay on both sides and the outer layer.

現在のフレキシブルプリント配線基板は基材としてポリ
イミドまたはポリエステル樹脂のフィルムが一般に使わ
れているが、ポリエステルフィルムは半田耐熱性に劣る
のみならず、銅箔との接着に用いられるエポキシ系接着
剤の吸水率が高く、20℃ないし250℃における熱膨
張係数も大きいため、スルホール接続信頼性に欠ける。
Current flexible printed wiring boards generally use polyimide or polyester resin films as base materials, but polyester films not only have poor solder heat resistance, but also absorb water from the epoxy adhesive used to bond them to copper foil. Since the coefficient of thermal expansion is high and the coefficient of thermal expansion at 20° C. to 250° C. is also large, through-hole connection reliability is lacking.

さらに、製造するさいに 170℃において蒸気プレス
による硬化を行なうこともあり、多層化する場合に樹脂
間の接着性が低下するばかりでなく、可撓性も低下する
傾向がある。
Furthermore, during production, curing is sometimes carried out using a steam press at 170°C, which tends not only to reduce adhesiveness between resins but also to reduce flexibility when multi-layered.

一方、ポリイミドフィルムは通常の半田施工温度(26
0°C以上)で容易に半田接続を行なうことができると
いう利点があるが、ポリイミド樹脂が、吸湿性があると
いう欠点のほかに表面活性が乏しいために金属箔との接
着が非常に難しいという欠点がある。この接着性を解決
するために一般的には苛性ソーダ、クロム酸混液、水酸
化アルミニウムなどを用いて化学的処理をする方法など
によってフィルムの表面に施した後に接着剤を使って接
着する方法が行なわれている。しかし、これらの方法で
接着を行なったとしても、プリント基板として充分な接
着性を有するものが得られず、耐薬品性、耐熱性などが
劣るため、エツチング処理やハンダフローなどによって
銅箔浮きが発生するなどの欠点かあ・る6 さらに、耐熱性がすぐれた熱硬化性接着剤(たとえば、
エポキシ樹脂)を使用して金属箔と接着する方法では、
接着剤を塗布したポリイミドフィルムを金属箔と重ね合
わせ、プレス機で1〜20時間程度加熱・加圧し・て硬
化させる必要があり、生産性、量産性、コストなどの点
において問題が発生しており、さらに吸湿性が大きいた
めにハンダ工程の前に加熱減圧下で脱水する必要がある
などの問題もある。
On the other hand, polyimide film is soldered at the normal soldering temperature (26
It has the advantage that it can be easily soldered at temperatures above 0°C), but it has the disadvantage that polyimide resin is hygroscopic and has poor surface activity, making it extremely difficult to bond with metal foil. There are drawbacks. To solve this problem of adhesion, the general method is to apply a chemical treatment using caustic soda, a chromic acid mixture, aluminum hydroxide, etc. to the surface of the film, and then bond it with an adhesive. It is. However, even if these methods are used for adhesion, it is not possible to obtain a printed circuit board with sufficient adhesion, and the chemical resistance and heat resistance are poor. In addition, thermosetting adhesives with excellent heat resistance (for example,
In the method of bonding with metal foil using epoxy resin,
Polyimide film coated with adhesive must be layered with metal foil and then heated, pressed and cured using a press for approximately 1 to 20 hours, which poses problems in terms of productivity, mass production, cost, etc. Furthermore, since it has high hygroscopicity, it has to be dehydrated under heat and reduced pressure before the soldering process.

また、これらのフレキシブル基板に直接ICの高速化、
ハイパワー化にともなり、放熱性と多層化を同時に解決
する必要がますます増大してきている。すなわち、多層
化基板では、得られなかった放熱性をいかに大きくさせ
て高密度化させることが問題となっている。
In addition, high-speed ICs can be directly applied to these flexible substrates.
As power becomes higher, there is an increasing need to simultaneously solve heat dissipation and multilayer technology. That is, in a multilayer substrate, the problem is how to increase the heat dissipation that could not be obtained and increase the density.

が ′ しよ−  る0 へ 以上のことから、本発明はこれらの問題点(欠点)がな
く、すなわち簡易な方法によって放熱性が良好であるば
かりでなく、多層化が可能なプリント基板を得ることで
ある。
From the above, the present invention does not have these problems (defects), and it is possible to obtain a printed circuit board that not only has good heat dissipation properties but also can be multilayered by a simple method. That's true.

。 占  ゛  るため    ゛よび゛本発明にした
がえば、これらの問題点は、全屈ベース多層プリント基
板が(A)「少なくともエチレン単位とカルボン酸単位
、ジカルボン酸単位、その無水物単位およびハーフェス
テル単位からなる群かえらばれた少なくとも一種の単位
とからなり、かつエチレン単位の含有量が30〜99.
5重量%であるエチレン系共重合体」「エチレン系共重
合体(A) Jと云う〕 1〜99重量%ならびに(B
)「少なくともエチレン単位とヒドロキシル単位、アミ
ノ単位およびエポキシ単位からなる群からえらばれた少
なくとも一種の単位とからなり、かつエチレン単位の含
有量が30〜99.5重量%であるエチレン系共重合体
j 〔以下「エチレン系共重合体(B)」と云う〕99
〜1重量%である混合物の架橋物を少なくとも有する厚
さが3ミクロンないし5mmである肉薄物と導電性金属
層が少なくとも積層されてなるフレキシブルプリント基
板を金属ベースプリント基板に積層させてなる金属ベー
ス多層プリント基板、 によって解決することができる。以下、本発明を具体的
に説明する。
. According to the present invention, these problems can be solved by the fact that the fully bending based multilayer printed circuit board has (A) "at least ethylene units, carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, anhydride units thereof, and halfester units." and at least one type of unit selected from the group consisting of, and the content of ethylene units is 30 to 99.
5% by weight of an ethylene-based copolymer""Ethylene-based copolymer (A) J] 1 to 99% by weight and (B
) "An ethylene copolymer consisting of at least ethylene units and at least one type of unit selected from the group consisting of hydroxyl units, amino units, and epoxy units, and having an ethylene unit content of 30 to 99.5% by weight." j [hereinafter referred to as "ethylene copolymer (B)"] 99
A metal base formed by laminating a flexible printed circuit board, which is formed by laminating at least a thin material having a thickness of 3 microns to 5 mm and a conductive metal layer, on a metal base printed circuit board and having at least 1% by weight of a cross-linked mixture. Multilayer printed circuit board, can be solved by. The present invention will be explained in detail below.

(A)エチレン系共重合体(A) 本発明において使われるエチレン系共重合体(A)は少
なくともエチレン単位と「カルボン酸単位、ジカルボン
酸単位、その無水物単位およびそのハーフェステル単位
からなる群かえらばれた少なくとも一種の単位」 〔以
下「第二成分(A)」と云う〕とからなtl、そのエト
しン単位を30〜99.5重量%含有するエチレン系共
重合体である。
(A) Ethylene copolymer (A) The ethylene copolymer (A) used in the present invention contains at least ethylene units and a group consisting of carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, anhydride units thereof, and halfester units thereof. The present invention is an ethylene copolymer containing 30 to 99.5% by weight of at least one type of ethosene unit (hereinafter referred to as "second component (A)").

このエチレン系共重合体(A)は少なくとも第二成分(
A)として構成するために下記のモノマーとを共重合さ
せる゛ことによって得ることができる共重合体およびこ
れらと他のモノマ・−との多元系共重合体ならびにこれ
らの共重合体中の酸無水物基を加水分解および/もしく
はアルコール変性させることによって得られるものがあ
げられZ)。
This ethylene copolymer (A) contains at least the second component (
A) Copolymers that can be obtained by copolymerizing the following monomers, multi-component copolymers of these and other monomers, and acid anhydrides in these copolymers. Examples include those obtained by hydrolyzing and/or alcohol-denaturing a physical group Z).

このモノで−の代表例どしては、アビ7リル酸、メタク
リル酸およびクロトン酸のごとき炭素数が多くとも25
fiの不飽和モ、′カルボン酸ならびにマレイン酸、フ
タル酸、テトラヒドロフタル酸、4−メチルシクロヘキ
サン−4−エン−1,2−カルボン酸、イタコン酸、シ
トラコン酸およびピンクlコ<:2.24 ) −ヘプ
タ−5−エン−2,3−ジカルボン酸のご゛とき炭素数
が4〜50個の不飽和ジカルボン酸ならびにこれらの不
飽和ジカルボン酸の無水物があげられる。
Typical examples of monomers containing at most 25 carbon atoms include abilylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid.
fi unsaturated monocarboxylic acids and maleic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 4-methylcyclohexane-4-ene-1,2-carboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid and pink l co<:2.24 ) -hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid and other unsaturated dicarboxylic acids having 4 to 50 carbon atoms, and anhydrides of these unsaturated dicarboxylic acids.

また、その他のモノマーとして、メチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチ
ル(メタ)アクリレートおよびフマル酸ジエチルのごと
き炭素数が多くとも30、個(好適には、10個以下)
の不飽和カルボン酸エステルならびに酢酸ビニルおよび
プロピオン酸ビニルのごとき炭素数が多くとも30個の
ビニルエステルがあげられる。
Further, other monomers having at most 30 carbon atoms (preferably 10 or less) such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, hydroxymethyl (meth)acrylate, and diethyl fumarate may be used.
and vinyl esters having at most 30 carbon atoms such as vinyl acetate and vinyl propionate.

以上のエチレン系共重合体(A)のうち、エチレンと不
飽和ジカルボン酸無水物との共重合体またはこれらと不
飽和ジカルボン酸エステルおよび/もしくはビニルエス
テルとの多元系共重合体を加水分解および/またはアル
コールによる変性させることによってこれらの共重合体
のジカルボン酸無水物単位をジカルボン酸単位またはハ
ーフェステル単位に換えることができる。本発明におい
ては前記共重合体または多元系共重合体の不飽和ジカル
ボン酸無水物単位の一部または全部をジカルボン酸単位
またはハーフェステル単位にかえることによって得られ
るエチレン系共重合体(A)も好んで使用することがで
きる。
Among the above ethylene copolymers (A), copolymers of ethylene and unsaturated dicarboxylic anhydrides or multicomponent copolymers of these and unsaturated dicarboxylic esters and/or vinyl esters are hydrolyzed and The dicarboxylic anhydride units of these copolymers can be converted into dicarboxylic acid units or Hafester units by/or modification with alcohol. In the present invention, an ethylene copolymer (A) obtained by replacing part or all of the unsaturated dicarboxylic anhydride units of the copolymer or multicomponent copolymer with dicarboxylic acid units or halfester units is also preferred. It can be used with

加水分解を実施するには、前記エチレン系共重合体(A
)を該共重合体を溶解する有機溶媒(たとえば、トルエ
ン)中で触媒(たとえば、三級アミン)の存在下で80
〜I00’Cの温度において水と0.5〜IO時間(好
ましくは、?〜6時間、好適には、 3〜6時間)反応
させた後、酸で中和させることによって得ることができ
る。
To carry out the hydrolysis, the ethylene copolymer (A
) in the presence of a catalyst (e.g. tertiary amine) in an organic solvent (e.g. toluene) that dissolves the copolymer.
It can be obtained by reacting with water at a temperature of ~100'C for 0.5~10 hours (preferably ~6 hours, preferably 3~6 hours) followed by neutralization with acid.

アルコール変性を実施するには、前記エチレン系共重合
体(A)を後記の溶液法藁:たは混練法によって得るこ
とができる。
To carry out the alcohol modification, the ethylene copolymer (A) can be obtained by the solution method or kneading method described below.

溶液法は加水分解の場合と同様に有機溶媒中で前記の触
媒の存在下または不存在下(不存在下では反応が遅い)
で使われるアルコ−νの還流温度で2分ないし゛5時間
(望ましくは2分ないし2時間、好適には15分ないし
1時間)反応させる方法である。
The solution method is similar to the case of hydrolysis, in which the reaction is carried out in an organic solvent in the presence or absence of the above-mentioned catalyst (the reaction is slow in its absence).
This method involves reacting for 2 minutes to 5 hours (preferably 2 minutes to 2 hours, preferably 15 minutes to 1 hour) at the reflux temperature of the alcohol-v used in .

一方、混!li法は前記エチレン系共重合体(A)10
0重量部に対して通常0.01−・1.0重量部(好ま
しくは、0.05〜0.5重量部)の第三級アミンおよ
び該共重合体中のジカルボン酸単位に対して一般には0
.1〜3.0倍モル(望ましくは、 1.0〜2.0倍
モル)の飽和アルコールをエチレン系共重合体(A)の
融点以上であるが、用いられるアルコールの沸点以下に
おいて、通常ゴムおよび合成樹脂の分野において使われ
ているバンバリーミキサ−1押出機などの混線機を使用
して数分ないし数十分(望ましくは、10分ないし30
分)混練させながら度広する方法である。
On the other hand, chaos! The li method uses the ethylene copolymer (A) 10
Usually 0.01-1.0 parts by weight (preferably 0.05 to 0.5 parts by weight) of tertiary amine and dicarboxylic acid units in the copolymer. is 0
.. 1 to 3.0 times the mole (preferably 1.0 to 2.0 times the mole) of saturated alcohol is added at a temperature above the melting point of the ethylene copolymer (A) but below the boiling point of the alcohol to be used, which is usually and several minutes to several tens of minutes (preferably 10 minutes to 30 minutes) using a mixing machine such as the Banbury Mixer-1 extruder used in the field of synthetic resins.
) This is a method of widening while kneading.

以上のアルコールによる変性において使用される飽和ア
ルコールは炭素数は1〜12個の直鎖状または分岐鎖状
の飽和アルコールであり、メチルアルコール、エチルア
ルコール、−級ブチルアルコールがあげられる。
The saturated alcohol used in the above modification with alcohol is a linear or branched saturated alcohol having 1 to 12 carbon atoms, and includes methyl alcohol, ethyl alcohol, and -butyl alcohol.

以上の加水分解の場合でも、アルコールによる変性の場
合でも、ジカルボン酸への転化率およびハーフェステル
化率は、いずれも0.5〜100%であり、10.0〜
100%が望ましい。
In the case of the above hydrolysis and in the case of modification with alcohol, the conversion rate to dicarboxylic acid and the halfesterization rate are both 0.5 to 100%, and 10.0 to 100%.
100% is desirable.

このエチレン系共重合体(A)中のエチレン単位は30
〜99.5重量%であり、30〜89.0重量%が好ま
しく、特に35〜89.0重量%が好適である。また、
該共重合体中に占めるカルボン酸単位、その無水物単位
およびハーフェステル単位の割合はそれらの合計量とし
て0.1〜70重量%であり、 0.5〜70重量%が
望ましく、とりわけ0.5〜60重量%が好適である。
The ethylene units in this ethylene copolymer (A) are 30
-99.5% by weight, preferably 30-89.0% by weight, particularly preferably 35-89.0% by weight. Also,
The proportion of carboxylic acid units, their anhydride units and halfester units in the copolymer is 0.1 to 70% by weight in total, preferably 0.5 to 70% by weight, particularly 0.5% by weight. ~60% by weight is preferred.

このエチレン系共重合体(A)中に占めるカルボン酸単
位、その無水物単位およびハーフェステル単位の割合が
0,1重量%未溝のエチレン系重合体を使用するならば
、後記のエチレン系共重合体(B)と加熱させて架橋す
るさい、架橋が不完全であるのみならず、金属層との密
着性がよくない。一方、70重量%を越えても本発明の
特徴は発現するが、70重量%を越える必要はなく、製
造上および経済上好ましくない。
If an ethylene polymer in which the proportion of carboxylic acid units, anhydride units and halfester units in this ethylene copolymer (A) is 0.1% by weight is used, the ethylene copolymer described below When heating and crosslinking the composite (B), not only the crosslinking is incomplete, but also the adhesion to the metal layer is poor. On the other hand, even if the content exceeds 70% by weight, the characteristics of the present invention are exhibited, but it is not necessary to exceed 70% by weight, which is not preferable from the viewpoint of production and economy.

また、前記不飽和カルボン酸エステルおよび/またはビ
ニルエステルを含む多元系共重合体を使用する場合、そ
れらの合計量として通常多くとも70重量%であり、6
0重量%以下が好ましい。不飽和ジカルボン酸エステル
および/またはビニルエステルの共重合割合が70重量
%を越えたエチレン系共重合体を用いると、該共重合体
の軟化点が高くなり、 150°C以下の温度において
流動性が損われ・るために望ましくないのみならず、経
済上についても好ましくない。
In addition, when using a multicomponent copolymer containing the unsaturated carboxylic acid ester and/or vinyl ester, the total amount thereof is usually at most 70% by weight, and 6% by weight.
It is preferably 0% by weight or less. If an ethylene copolymer with a copolymerization ratio of unsaturated dicarboxylic acid ester and/or vinyl ester exceeds 70% by weight is used, the softening point of the copolymer will be high and the fluidity will be low at temperatures below 150°C. This is not only undesirable because it damages the environment, but it is also undesirable from an economic point of view.

(B)エチレン系共重合体(B) また、本発明において用いられるエチレン系共重合体(
B)は少なくともエチレン単位と「ヒドロキシル単位、
アミ7単位およびエポキシ単位からなる群からえらばれ
た少なくとも一種の単位」〔以下「第二成分(B)」と
云う〕とからなり、そのエチレン単位を30〜99.5
重量%含有するエチレン系共重合体である。
(B) Ethylene copolymer (B) In addition, the ethylene copolymer (B) used in the present invention (
B) contains at least ethylene units and hydroxyl units,
At least one unit selected from the group consisting of amide 7 units and epoxy units" (hereinafter referred to as "second component (B)"), the ethylene units of which are 30 to 99.5
It is an ethylene copolymer containing % by weight.

このエチレン系共重合体(B)は少なくともエチレンと
第二成分CB)として構成するために下記の七ツマ−と
を共重合させることによって得ることできる共重合体お
よびこれらと他のモノマーとの多元系共重合体ならびに
エチレンとビニルエステル(とりわけ、酢酸ビニル)と
の共重合体をけん化させることによって得られるけん化
物があげられる。
This ethylene copolymer (B) is a copolymer obtained by copolymerizing at least ethylene and the following seven monomers to constitute the second component CB), and a multicomponent of these and other monomers. Examples include saponified products obtained by saponifying copolymers of ethylene and vinyl esters (in particular, vinyl acetate).

このモノマーとしては、下記の一般式〔(1)式ないし
くIII)式〕で示されるエポキシ基を有する有機化合
物、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート(アルキ
ル基の炭素数は通常1〜25個)、炭素数が3〜25個
のα−アルケニルアルコールならびに炭素数が2〜25
個のα−アミンおよび一級または二級のアミノアルキル
(メタ)アクリレート(アルキル基の炭素数は通常1〜
25個)があげられる。
Examples of this monomer include an organic compound having an epoxy group represented by the following general formula [formula (1) to formula III], hydroxyalkyl (meth)acrylate (the number of carbon atoms in the alkyl group is usually 1 to 25), α-Alkenyl alcohols having 3 to 25 carbon atoms and 2 to 25 carbon atoms
α-amines and primary or secondary aminoalkyl (meth)acrylates (the number of carbon atoms in the alkyl group is usually 1 to 1)
25 items) can be given.

ゝ(CH2)n −C−0−R4(II )(I)式な
いしくIII)式で示されるモノマーの代表例としては
、ブテンカルボン酸モノグリシジルエステル、グリシジ
ルメタアクリレート、グリシジルアクリレート、メチル
グリシジルアクリレート、メチルグリシジルメタアクリ
レート、イタコン酸グリシジルエステル、7.8−エポ
キシ−1−オクチルメタアクリレート、イタコン酸メチ
ルグリシジルエステル、7.8−エポキシ−1−オクチ
ルどこルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、アリル
グリシジルエーテルおよびメタリルグリシジルエーテル
などがあげられる。
(CH2)n -C-0-R4(II) Representative examples of monomers represented by formula (I) or formula III include butenecarboxylic acid monoglycidyl ester, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, and methylglycidyl acrylate. , methyl glycidyl methacrylate, itaconic acid glycidyl ester, 7,8-epoxy-1-octyl methacrylate, itaconic acid methyl glycidyl ester, 7,8-epoxy-1-octyl alcohol ether, vinyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether and meth Examples include lyl glycidyl ether.

また、ヒドロキシル単位またはアミン単位を有するモノ
マーの代表例としては、ヒドロシキメチル(メタ)アク
リレート、ヒドロシキメチル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ
)アクリレート、アリル(allyl )アルコール、
アリル(allyl )アミンおよびアミンエチル(メ
タ)アクリレートがあげられる。
Typical examples of monomers having hydroxyl units or amine units include hydroxymethyl (meth)acrylate, hydroxymethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, and hydroxyhexyl (meth)acrylate. ) acrylate, allyl alcohol,
Mention may be made of allyl amines and amine ethyl (meth)acrylates.

また、他のモノマーとしては、前記不飽和カルボン酸エ
ステルおよびビニルエステルがあげられる。
Moreover, examples of other monomers include the unsaturated carboxylic acid esters and vinyl esters.

このエチレン系共重合体(B)中のエチレン単位は30
〜99.5重量%であり、30〜99.0重量%が望ま
しく、とりわけ35〜99.0重量%が好適である。ま
た、該共重合体中に占めるヒドロキシル単位、アミ7単
位およびエポキシ単位の割合は前記のエチレン系共重合
体(A)の場合と同じ理由で0.1〜70重量%であり
、0.5〜70重量%が好ましく、特に0.5〜60重
量%が好適である。さらに、前記不飽和カルボン酸エス
テルおよび/またはビニルエステルを含む多元系共重合
体を用いる場合、前記エチレン系共重合体(A)の場合
と同じ理由でそれらの合計量として一般には多くとも7
0重量%であり、とりわけ60重量%以下が望ましい。
The ethylene unit in this ethylene copolymer (B) is 30
-99.5% by weight, preferably 30-99.0% by weight, particularly preferably 35-99.0% by weight. Further, the proportion of hydroxyl units, amide 7 units and epoxy units in the copolymer is 0.1 to 70% by weight for the same reason as in the case of the ethylene copolymer (A), and is 0.5% by weight. The content is preferably from 70% by weight, particularly from 0.5 to 60% by weight. Furthermore, when using a multicomponent copolymer containing the unsaturated carboxylic acid ester and/or vinyl ester, the total amount thereof is generally at most 7
0% by weight, particularly preferably 60% by weight or less.

前記エチレン系共重合体(A)およびエチレン系共重合
体(B)のメルトインデックス(JIS  K−721
0にしたがい、条件4で測定、以下rM、1.Jと云う
)は一般には 0.001〜1000g/10分であり
、0.05〜500 g/’no分が好ましく、特にL
l〜500 gllO分が好適である。 M、1.が0
.01 g 710分未満のこれらのエチレン系共重合
体を用いると、これらの共重合体を混合するさいに均一
状に混合させることが難しいのみならず、成形性もよく
ない。
Melt index (JIS K-721) of the ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B)
0, measured under condition 4, hereinafter rM, 1. J) is generally 0.001 to 1000 g/10 min, preferably 0.05 to 500 g/'no min, especially L
1 to 500 gllO min is suitable. M, 1. is 0
.. If these ethylene-based copolymers are used for less than 710 minutes, it is not only difficult to mix these copolymers uniformly, but also the moldability is poor.

これらのエチレン系共重合体のうち、共重合方法によっ
て製造する場合では、通常500〜2500Kg/ c
 m”の高圧下で120〜260℃の温度で速鎖移動剤
(たとえば、有機過酸化物)の存在下でエチレンと第二
成分(A)もしくは第二成分(B)またはこれらと他の
成分とを共重合させることによって得ることができ、そ
れらの製造方法についてはよく知られているものである
。また、前記エチレン系共重合体(A)のうち加水分解
および/アルコールによる変性によって製造する方法な
らびにエチレン系共重合体(B)のうちけん化方法によ
って製造する方法についてもよく知られている方法であ
る。
Among these ethylene copolymers, when produced by copolymerization method, the amount is usually 500 to 2500 kg/c.
ethylene and the second component (A) or the second component (B) or these and other components in the presence of a fast chain transfer agent (e.g. an organic peroxide) at a temperature of 120-260° C. under high pressure of The ethylene copolymer (A) can be obtained by copolymerizing with ethylene copolymer (A), and its production method is well known. The method and the method for producing the ethylene copolymer (B) by saponification are also well known methods.

(C)混合物の製造 (1)混合割合 本発明の混合物を製造するにあたり、得られる混合物中
のエチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合体(B
)の合計量(総和)に占めるエチレン系共重合体(A)
の混合割合1〜99重量%〔すなわち、エチレン系共重
合体(’3)の混合割合99〜1重量%〕であり、  
5−==95重量%が望ましく、とりわけ10〜90重
量%が好適である。エチレン系共重合体(A)とエチレ
ン系共重合体(B)の合計量中に占めるエチレン系共重
合体(A)の混合割合が 1重量%未満でも、99重社
%を越える場合でも、混合物を後記の方法で架橋させる
さいに架橋が不充分であり、たどえば後記の導電性金属
層との接着がよくない。
(C) Production of mixture (1) Mixing ratio In producing the mixture of the present invention, ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B
) Ethylene copolymer (A) in the total amount (total)
The mixing ratio of the ethylene copolymer ('3) is 1 to 99% by weight [that is, the mixing ratio of the ethylene copolymer ('3) is 99 to 1% by weight],
5-==95% by weight is desirable, particularly 10-90% by weight. Even if the mixing ratio of ethylene copolymer (A) in the total amount of ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B) is less than 1% by weight or more than 99% by weight, When the mixture is crosslinked by the method described later, the crosslinking is insufficient, and the adhesion with the conductive metal layer described later is poor.

(2)混合方法 この混合物を製造するにはエチレン系共重合体(A)と
エチレン系共重合体(B)とを均一に混合させればよい
。混合方法としてはオレフィン系重合体の分野において
一般に行なわれているヘンシェルミキサーのごとキ混合
機を使ってトライブレンドしてもよく、バンバリー、押
出機およびロールミルのごとき混合機を用いて溶融混練
させる方法があげられる。このさい、あらかじめトライ
ブレンドし、得られる混合物を溶融混練させることによ
ってより均一な混合物を得ることができる。溶融混練す
るさい、エチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合
体(B)とが実質に架橋反応しないことが必要である(
かりに架橋すると、得られる混合物を後記のように成形
加工するさいに成形性が悪くなるばかりでなく、目的と
する成形物の形状や成形物を架橋する場合に耐熱性を低
下させるなどの原因となるために好ましくない)。この
ことから、溶融混練する温度は使われるエチレン系重合
体の種類および粘度にもよるが、室温(20°C)ない
し 150℃が望ましく140℃以下が好適である。
(2) Mixing method This mixture can be produced by uniformly mixing the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer (B). The mixing method may be tri-blending using a Henschel mixer, which is commonly used in the field of olefin polymers, or melt-kneading using a mixer such as a Banbury, extruder, or roll mill. can be given. At this time, a more uniform mixture can be obtained by triblending in advance and melt-kneading the resulting mixture. When melt-kneading, it is necessary that the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer (B) do not substantially undergo a crosslinking reaction (
If the resulting mixture is crosslinked, it will not only deteriorate the moldability when molding the resulting mixture as described below, but also cause a decrease in the shape of the intended molded product and the heat resistance when crosslinking the molded product. unfavorable for the sake of becoming). For this reason, the melt-kneading temperature depends on the type and viscosity of the ethylene polymer used, but is preferably room temperature (20°C) to 150°C, and preferably 140°C or lower.

この「実質的に架橋しない」の目安として、「沸騰トル
ニン中で3時間抽出処理した後、径が0.1ミクロン以
上である残香」 (以下「抽出残香」と云う)が一般に
は15重量%以下であることが好ましく、10重量%以
下が好適であり、 5重量%以下が最適である。
As a guideline for this "substantially no crosslinking", "residual aroma with a diameter of 0.1 micron or more after extraction treatment in boiling torunin for 3 hours" (hereinafter referred to as "extracted residual aroma") is generally 15% by weight. It is preferably at most 10% by weight, most preferably at most 5% by weight.

この混合物を製造するにあたり、オレフィン系重合体の
分野において一般に使われている酸素、光(紫外線)お
よび熱に対する安定剤、金属劣化防止剤、難燃化剤、電
気的特性改良剤、帯電防止剤、滑剤、加重性改良剤なら
びに粘着性改良剤のごとき添加剤を本発明の肉薄物が有
する特性(物性)をそこなわない範囲で添加してもよい
。さらに、第一級ないし第三級モノアミン、p−トルエ
ンスルホン酸ジアミンおよび第四級アンモニウム塩のご
とき架橋促進剤を添加させることによって前記のごとく
エチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合体(B)
との架橋を一層完結させることができる3、添加量はこ
れらの樹脂100重量部に対して通常多くども5.0重
量部(好適には0.01〜3.0重、1部)である。さ
らに、アルミナ、窒化ケイ素のごとき絶縁性を有するセ
ラミックを添加させることによっCM!!縁性を改良す
ることも可能である。さらに、無機粉末状物、ガラス繊
維、ガラスピーズなどを充填させることによって本発明
の機能を一層向上させることができる。
In producing this mixture, stabilizers against oxygen, light (ultraviolet light) and heat, metal deterioration inhibitors, flame retardants, electrical property improvers and antistatic agents commonly used in the field of olefinic polymers are used. Additives such as lubricants, weight improvers, and tack improvers may be added to the extent that the properties (physical properties) of the thin-walled material of the present invention are not impaired. Furthermore, by adding a crosslinking accelerator such as a primary to tertiary monoamine, p-toluenesulfonic acid diamine, and a quaternary ammonium salt, the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer can be combined as described above. (B)
The amount added is usually at most 5.0 parts by weight (preferably 0.01 to 3.0 parts by weight, 1 part) per 100 parts by weight of these resins. . Furthermore, by adding insulating ceramics such as alumina and silicon nitride, CM! ! It is also possible to improve the affinity. Furthermore, the function of the present invention can be further improved by filling with inorganic powder, glass fiber, glass beads, etc.

(D)肉薄物の製造 以上のようにして得られる混合物゛肉薄物に製造させる
に1寸 熱可塑性樹脂の分野において一般に用いられて
いるT−グイフィルム、インフレーション法によるフィ
ルムを製造するさいに広く使用されている押出機を使っ
てフィルム状ないしシート状に押出させることによって
肉薄物を得ることができる。このさい、押出温度は25
0℃以下である。かりに、 250℃を越えて押出すと
、エチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合体(B
)の一部が架橋し、ゲル状物の小塊が発生することによ
って均一状の押出成形物が得られない。これらのことか
ら、押出温度は架橋促進剤を添加(配合)する場合でも
添加しない場合でも前記の溶融混線の場合と同じ温度範
囲である。
(D) Manufacture of thin products The mixture obtained as described above is 1 inch thick to be produced into thin products. T-Guy film, which is commonly used in the field of thermoplastic resins, is widely used in the production of films by the inflation method. A thin-walled product can be obtained by extruding it into a film or sheet using a conventional extruder. At this time, the extrusion temperature was 25
The temperature is below 0°C. However, when extruded at a temperature exceeding 250°C, the ethylene copolymer (A) and the ethylene copolymer (B
) is partially crosslinked and small lumps of gel-like material are generated, making it impossible to obtain a uniform extruded product. For these reasons, the extrusion temperature is in the same temperature range as in the case of the melt crosslinking described above, regardless of whether a crosslinking accelerator is added (blended) or not.

以上のいずれの場合でも、肉薄物を製造した後、肉薄物
間または肉薄物と引取ロールなどとの接着を防止するた
めに水冷ロールまたは水槽中に急冷させることによって
透明性の良好な肉薄物が得られる。このようにして得ら
れる肉薄物の厚さは3ミクロンないし5mmであり、特
に5ミクロンないし3mmが好ましい。
In any of the above cases, after manufacturing the thin-walled objects, the thin-walled objects with good transparency are made by rapidly cooling them in a water-cooling roll or a water bath to prevent adhesion between the thin-walled objects or between the thin-walled objects and a take-up roll. can get. The thickness of the thin-walled product thus obtained is between 3 microns and 5 mm, particularly preferably between 5 microns and 3 mm.

このようにして得られる肉薄物は木質的に架橋していな
いことが重要である。すなわち抽出残香は前記と同様に
15重量%以下が望ましく、10重量%以下が好適であ
り、とりわけ5重量%以下が最適である。
It is important that the thin-walled product obtained in this manner is not crosslinked in terms of wood quality. That is, the extracted residual aroma is preferably 15% by weight or less, preferably 10% by weight or less, and most preferably 5% by weight or less, as described above.

(E)導電性金属層 本発明の導電性金属層を得る方法としては後記の金属の
箔を使用する方法、金属を蒸着させる方法、無電解メッ
キさせる方法および無電解メッキと電解メッキ法とを併
用させる方法があげられる。
(E) Conductive Metal Layer Methods for obtaining the conductive metal layer of the present invention include a method using a metal foil, a method of depositing metal, a method of electroless plating, and an electroless plating method and an electrolytic plating method as described below. One method is to use them together.

(1)金属の種類 金属としては、アルミニウム、金、銀、銅および白金の
ごとき金属ならびにこれらを主成分とする(50重量%
以上)合金があげられるが一般には電気□伝導性のよい
銅が好んで使われる。
(1) Types of metals Metals include metals such as aluminum, gold, silver, copper, and platinum, and those containing these as the main component (50% by weight).
Above) alloys can be mentioned, but copper is generally preferred because of its good electrical conductivity.

(2)箔 この金属箔の厚さは通常5〜500ミクロンであり、1
0〜300  ミクロンのものが望ましく、とりわけ1
5〜100ミクロンが好適である。前記金属のうち、厚
さが15〜50ミクロンの電解銅箔が好んで使用される
(2) Foil The thickness of this metal foil is usually 5 to 500 microns, and 1
0 to 300 microns is preferable, especially 1
5 to 100 microns is preferred. Among the metals, electrolytic copper foil with a thickness of 15 to 50 microns is preferably used.

(3)蒸着 金属を蒸着させる方法としては、一般に用いられている
抵抗加熱、電子線加熱、誘導加熱または熱放射加熱など
の真空加熱蒸着あるいはスパッタリングなどが適用でき
る。特に微細回路用としては、白金、金がよく用いられ
薄膜形成後、エツチングによる回路を形成する場合には
、銅、およびアルミニウムならびにこれらを主成分とす
る合金が好んで使用される。
(3) Vapor deposition As a method for vapor depositing the metal, commonly used vacuum heating vapor deposition such as resistance heating, electron beam heating, induction heating, or thermal radiation heating, or sputtering can be applied. Particularly for fine circuits, platinum and gold are often used, and when forming a circuit by etching after forming a thin film, copper, aluminum, and alloys containing these as main components are preferably used.

蒸着された導体薄膜の厚さは用いられる装置の条件によ
って自由に選択することができるが、通常 100ス(
オングストローム)ないし100ミクロンであり、とり
わけ1000スないし20ミクロンが望ましい。
The thickness of the deposited conductive thin film can be freely selected depending on the conditions of the equipment used, but it is usually about 100 mm (
angstroms) to 100 microns, preferably 1000 s to 20 microns.

さらに、これらの蒸着の導通面(路)に銅、ニッケル、
金などの金属を電気メッキをほどこして表面保護、腐食
防止を行なったり、また半田浴を通して導通路の上に半
田をのせることも可能である。
Furthermore, copper, nickel,
It is also possible to electroplate a metal such as gold to protect the surface and prevent corrosion, or to apply solder on the conductive path through a solder bath.

本発明において実施される蒸着によって前記の前記金属
または合金の板およびセラミックス層の表面およびスル
ホール穴の内面に蒸着により、回路を形成するいわゆる
フル・アディティブ法も可能である。
A so-called full additive method is also possible in which a circuit is formed by vapor deposition carried out in the present invention on the surfaces of the metal or alloy plate and ceramic layer and on the inner surfaces of the through holes.

その他、特願昭8O−Ei899号明細書に詳細に記載
されている無電解メッキ法または無電解メッキ法と電解
メッキ法とを併用して導電性金属層を製造することがで
きる。
In addition, the conductive metal layer can be manufactured by using an electroless plating method or a combination of an electroless plating method and an electrolytic plating method, which are described in detail in Japanese Patent Application No. 80-Ei899.

(F)プリント基板 本発明において用いられる積層するプリント基板は以上
のようにして得られた肉薄物と導電性金属層とからなる
ものでもよいが、これらと後記の他の物質とからなるも
のでもよい。
(F) Printed circuit board The printed circuit board to be laminated used in the present invention may be composed of the thin material obtained as described above and a conductive metal layer, but it may also be composed of these and other substances described below. good.

(1)他の物質 他の物質としては前記導電性金属層の金属または合金の
箔、ガラスの繊維布または不繊布、アラミド繊維不繊布
およびポリアミドイミド、ポリイミドおよびポリエステ
ルのごとき耐熱性熱可塑性樹脂のフィルムがあげられる
。金属または合金の箔の厚さは通常5ないし200ミク
ロンであり、特に15〜100 ミクロンのものが好ま
しい。また、ガラスの#!l維布または不繊布の厚さは
5ミクロンないし 2IIII11であり、とりわけ2
0ミクロンないし0.5mmのものが望ましい、さらに
、耐熱性熱可塑性樹脂のフィルムの厚さは3ミクロンな
いし 1.Ommであり、特に10ミクロンないし20
0ミクロンのものが好ましい。
(1) Other substances Other substances include metal or alloy foil of the conductive metal layer, glass fiber cloth or nonwoven fabric, aramid fiber nonwoven fabric, and heat-resistant thermoplastic resin such as polyamide-imide, polyimide, and polyester. I can give you a film. The thickness of the metal or alloy foil is usually 5 to 200 microns, with 15 to 100 microns being particularly preferred. Also # of glass! The thickness of the fibrous or non-woven fabric is from 5 microns to 2III11, especially 2
1. The thickness of the heat-resistant thermoplastic resin film is preferably 3 microns to 0.5 mm. Omm, especially 10 microns to 20 microns
0 micron is preferred.

(2)プリント基板の製造 本発明のプリント基板は、前記の肉薄物を後記のように
加熱・加圧処理させ、得られる架橋物の片面に前記の「
蒸着、無電解メッキ法また無電解メッキ法と電解メッキ
法とを併用させる方法のうちのいずれかの方法」 〔以
下「方法(A) Jと云う〕によって導電性金属層とを
設けてもよく、金属箔と肉薄物とを加熱◆加圧処理させ
てもよい。
(2) Manufacture of printed circuit board The printed circuit board of the present invention is produced by heating and pressurizing the above-mentioned thin material as described below, and applying the above-mentioned "
The conductive metal layer may be provided by any one of vapor deposition, electroless plating, or a combination of electroless plating and electrolytic plating (hereinafter referred to as "Method (A) J"). Alternatively, the metal foil and the thin material may be subjected to heating and pressure treatment.

また、肉薄物の片面または両面に少なくとも一種の他の
物質を置き、これらを加熱・加圧処理させ、得られる架
橋物の片面に方法(A)によって導電性金属層を設けて
もよく、肉薄物の片面に金属箔を他の面に他の物質もし
くは肉薄物の片面に金属箔と他の物質(金属箔が表面に
なるように)を他の面に他の物質を置き、加熱φ加圧処
理させてもよい。
Alternatively, at least one other substance may be placed on one or both sides of the thin-walled object, and these materials may be heated and pressurized, and a conductive metal layer may be provided on one side of the resulting crosslinked object by method (A). Place a metal foil on one side of an object and another substance on the other side, or place a metal foil and another substance on one side of a thin object (with the metal foil on the surface) and another substance on the other side, and heat φ. Pressure treatment may also be applied.

(3)加熱・加圧処理 前記のようにして得られる肉薄物は架橋がほとんど進行
していないために通常の肉薄物と同一の挙動を示す。該
肉薄物に耐熱性を付与するために100〜400℃の範
囲で加熱暑加圧させることが重要である。加熱温度が1
00〜160℃の範囲では10〜20分、teo〜24
0℃の範囲では0.5〜lO分、240〜400℃の範
囲では0.1〜5分加熱・加圧させることによって前記
の樹脂内で架橋反応(縮合反応)が起り、接着性および
耐熱性が著しく向上する。加圧条件としては、一般には
0.1Kg/crn’(ゲージ圧)以上であり、 1−
100 Kg/ c rn’が望ましく、とりわけ2〜
20Kg/ c rn’が好適である。
(3) Heat/pressure treatment The thin-walled product obtained as described above exhibits the same behavior as a normal thin-walled product because crosslinking has hardly progressed. In order to impart heat resistance to the thin-walled material, it is important to heat and pressurize it in the range of 100 to 400°C. Heating temperature is 1
10-20 minutes in the range of 00-160℃, teo-24
By heating and pressurizing for 0.5 to 10 minutes in the range of 0℃ and 0.1 to 5 minutes in the range of 240 to 400℃, a crosslinking reaction (condensation reaction) occurs within the resin, improving adhesiveness and heat resistance. performance is significantly improved. The pressurization conditions are generally 0.1 Kg/crn' (gauge pressure) or higher, and 1-
100 Kg/crn' is desirable, especially 2~
20Kg/crn' is preferred.

さらに均一な接着を得るために特に真空減圧下で微荷重
で加圧する方法もとられる。
Furthermore, in order to obtain uniform adhesion, a method of applying pressure with a slight load under vacuum and reduced pressure is also used.

本発明によって得られる肉薄物は100°C以上の温度
で熱圧着性(接着性)を示すために架橋処理と同時に金
属層または金属層および他の物質と接着を行なうことに
よって本発明の効果が一層広がる。すなわち、エチレン
系共重合体(A)とエチレン系共重合体(B)との混合
物が250°C以下の温度で熱可塑性を示すが、該混合
物を100°C以上に加熱φ加圧処理させることによっ
て架橋反応され、同時に接着性を示す。
Since the thin-walled article obtained by the present invention exhibits thermocompression adhesion (adhesiveness) at a temperature of 100°C or higher, the effects of the present invention can be obtained by bonding the metal layer or the metal layer and other substances at the same time as the crosslinking treatment. It spreads further. That is, although the mixture of ethylene copolymer (A) and ethylene copolymer (B) exhibits thermoplasticity at a temperature of 250°C or lower, the mixture is heated to 100°C or higher and subjected to φ pressure treatment. This causes a crosslinking reaction and at the same time exhibits adhesive properties.

金属箔または他の物質と肉薄物との間に空気などを巻き
込む場合は熱プレス、熱ロールなどを使って熱圧着する
必要がある。加熱温度が300℃以下でも充分な接着性
を有するものが得られるが、耐熱性を必要とする場合で
は、出来る限り高い温度(通常、200〜300℃)に
おいて圧着させることが好ましい。
When air is involved between a metal foil or other material and a thin object, it is necessary to use a hot press, hot roll, etc. to bond the thin material. Even if the heating temperature is 300°C or lower, a product with sufficient adhesiveness can be obtained, but if heat resistance is required, it is preferable to press the adhesive at as high a temperature as possible (usually 200 to 300°C).

このようにして加熱・加圧された肉薄物の抽出残香は通
常少なくとも60%であり、とりわけ70%以上のもの
が望ましく、殊に75%以下が好適である。
The extracted residual aroma of the thin-walled product heated and pressurized in this manner is usually at least 60%, preferably 70% or more, and particularly preferably 75% or less.

(G)金属ベース多層プリント基板 本発明の金属ベース多層プリント基板は金属ベース基板
に前記のフレキシブルな基板を積層させることによって
得られる。本発明の代表的な金属ベース多層プリント基
板を図面で具体的に説明する。第1図は該金属ベース多
層プリント基板の部分拡大断面図である。この図面に示
されるようにアルミニウムベース基板の回路上に放熱性
能を必要とする部品、たとえばICまたは半導体を実装
させ、それ以外の部品に本発明のフレキシブルプリント
基板と導電性金属層との積層物を積層させて多層化させ
てもよい。もちろん、実装後に多層化させてもよいが、
IC1半導体の耐熱性の問題から、実装部分をあらかじ
め開けておき、多層化させた後で最後にIC等部品を実
装させる方法がより安全である。
(G) Metal-based multilayer printed circuit board The metal-based multilayer printed circuit board of the present invention is obtained by laminating the above-described flexible substrate on a metal base substrate. A representative metal-based multilayer printed circuit board of the present invention will be specifically explained with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of the metal-based multilayer printed circuit board. As shown in this drawing, parts that require heat dissipation performance, such as ICs or semiconductors, are mounted on the circuit of an aluminum base board, and other parts are mounted on a laminate of the flexible printed circuit board of the present invention and a conductive metal layer. may be stacked to form a multilayer structure. Of course, it may be multi-layered after implementation, but
Due to the heat resistance problem of the IC1 semiconductor, it is safer to open the mounting area in advance, create multiple layers, and finally mount the IC and other components.

本発明において用いられる金属ベース基板は、たとえば
アルミニウム、銅などの金属またはこれらを主成分とす
る合金の板(厚さは、一般には0.1〜30mm、好ま
しくは0.3〜10mm、好適には0.5〜5 m11
1)であり、さらにアルミニウム板の表面をアルマイト
加工処理のごとく表面処理させたものも使うことができ
る。この金属または合金の板と回路となる導電性金属層
との間に絶縁層として本発明の架橋物の肉薄物またはエ
ポキシ樹脂層、さらには本発明の架橋物の肉薄物を絶縁
層であり、かつ接着層として特願昭81−20267号
明細書などに記載されている放熱性の改良された基板で
あればいずれの基板でもよい。また、多層化は本発明の
プリント基板と導電性金属層に回路を形成させた後、ロ
ール法またはプレス法によって熱圧着させることができ
る。回路間のすき間をうめ、また多層間の接着性および
耐熱性を向上させるために特願昭Eta−207778
号明細書に記載されているカバーレイ肉薄物または本発
明のエチレン系共重合体(A)とエチレン系共重合体(
B)との混合物の架橋物を使ってもよい。
The metal base substrate used in the present invention is, for example, a plate of a metal such as aluminum or copper or an alloy mainly composed of these (the thickness is generally 0.1 to 30 mm, preferably 0.3 to 10 mm, preferably is 0.5~5 m11
1), and it is also possible to use an aluminum plate whose surface has been subjected to a surface treatment such as alumite processing. A thin cross-linked product or an epoxy resin layer of the present invention is used as an insulating layer between this metal or alloy plate and a conductive metal layer serving as a circuit, and a thin cross-linked product of the present invention is used as an insulating layer, Moreover, any substrate with improved heat dissipation properties as described in Japanese Patent Application No. 81-20267 and the like may be used as the adhesive layer. Further, multilayering can be achieved by forming a circuit on the printed circuit board of the present invention and the conductive metal layer, and then bonding them by thermocompression by a roll method or a press method. In order to fill the gaps between circuits and improve the adhesion and heat resistance between multiple layers, patent application Sho Eta-207778
The thin coverlay described in the specification or the ethylene copolymer (A) of the present invention and the ethylene copolymer (
A crosslinked mixture with B) may also be used.

第1図は本発明の代表的な金属ベース多層プリント基板
の部分拡大断面図である。この図面において、1は金属
板(金属ベース)であり、2は本発明の架橋物の肉薄物
またはエポキシ樹脂層である。また、3は導電性金属層
であり、4は本発明の架橋物の肉薄物である。さらに、
5はスルーホールで側面をメッキされた導電性金属層で
あり、6はICまたは半導体などの部品であり、かつ7
は該部品6のリード線である。
FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of a typical metal-based multilayer printed circuit board of the present invention. In this drawing, 1 is a metal plate (metal base), and 2 is a thin crosslinked product or an epoxy resin layer of the present invention. Further, 3 is a conductive metal layer, and 4 is a thin crosslinked material of the present invention. moreover,
5 is a conductive metal layer whose side surface is plated with through holes, 6 is a component such as an IC or semiconductor, and 7
is the lead wire of the component 6.

ゝび 以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

なお、実施例および比較例において、耐湿性は、温度が
120°C1圧力が2気圧および湿度が10(1%の条
件で1000時間経過させた後で観察した。ヒートサイ
クル性は、 125℃まで加熱させ、この温度において
30分間放置し、ついで−55℃まで冷却させ、この温
度において30分間放置し、この加熱および冷却の処理
を100回繰り返し、ICの多層基板の剥離の状態を観
察した。さらに、ヒートショック性は、 150°Cま
で加熱させ、この温度において5分間放置し、ついで−
80℃まで冷却させ、この温度において5分間放置し、
この加熱および冷却の処理(加熱および冷却の速度はい
ずれも 100°0/2秒)を10回繰り返し、多層の
外観の変化を観察した。
In the Examples and Comparative Examples, the humidity resistance was observed after 1000 hours at a temperature of 120°C, a pressure of 2 atmospheres, and a humidity of 10% (1%).The heat cycle resistance was measured up to 125°C. It was heated, left at this temperature for 30 minutes, then cooled to -55°C, left at this temperature for 30 minutes, and this heating and cooling process was repeated 100 times, and the state of peeling of the IC multilayer substrate was observed. Furthermore, heat shock resistance was determined by heating to 150°C, leaving at this temperature for 5 minutes, and then -
Cool to 80°C and leave at this temperature for 5 minutes,
This heating and cooling process (heating and cooling rates were both 100°0/2 seconds) was repeated 10 times, and changes in the appearance of the multilayer were observed.

なお、実施例において使用した各混合物は下記のように
して製造されたものである。
In addition, each mixture used in the examples was manufactured as follows.

M、1.が300 g / 10分であるエチレン−ア
クリル酸共重合体(密度 0.954 g / c m
’、アクリル酸共重合割合 20重量%、以下rEAA
 Jと云う)と酢酸ビニル共重合割合が28重量%であ
るエチレン−酢酸ビニル共重合体をけん化させることに
よって得られるけん化物(けん化度 87.5%、M、
I。
M, 1. Ethylene-acrylic acid copolymer with a density of 300 g/10 min (density 0.954 g/cm
', acrylic acid copolymerization ratio 20% by weight, hereinafter rEAA
J) and an ethylene-vinyl acetate copolymer with a vinyl acetate copolymerization ratio of 28% by weight (saponification degree 87.5%, M,
I.

75g/10分、密度 0J51 g / c m’、
以下「けん化物」と云う)とからなる混合物〔混合割合
50 : 50 (重量比)、以下「混合物(1)」と
云う) 、 M、Lが200 g / 10分であるエ
チレン−メタクリル酸共重合体(密度 0.950 g
 / c m’ 、  メタクリル酸共重合割合 25
重量%)と上記けん化度との混合物(混合割合 50 
: 50 (重量比)、以下「混合物(■)」と云う)
 、 M’、1.が212g/l(1分であるエチレン
−エチルアクリレート−無水マレイン酸の三元共重合体
(エチルアクリレート共重合割合 30.7重量%、無
水マレイン酸共重合割合1.7重量%) トM、1.が
12G g / 10分であるエチレン−メチルメタク
リレート−ヒドロキシメタフレレートの三元共重合体(
メチルメタクリレートの共重合割合 20.7i量%、
ヒドロキシメタクリレートの共重合割合 11.7重量
%)との混合物〔混合割合 50 : 50 (重量比
)、以下[混合物(III) J と云う]ならびにM
、1.が105 g / 10分であるエチレン−メチ
ルメタクリレート−無水マレイン酸の三元共重合体(メ
チルメタクリレートの共重合割合 20.5重量%、無
水マレイン酸の共重合割合  3.1重量%)とエチレ
ン−メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート
の三元共重合体(メチルメタクリレートの共重合割合 
18.8重量%、グリシジルメタクリレートの共重合割
合12.7重量%)との混合物〔混合割合 30 : 
70 (重量比〕、以下「混合物(■)」と云う〕を使
用した。なお、これらの混合物はそれぞれの共重合体ま
たは三元共重合体をヘンシェルミキサーを使って5分間
トライブレンドさせることによって製造した。
75g/10min, density 0J51 g/cm',
(hereinafter referred to as "saponified material") [mixing ratio 50:50 (weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (1)"), ethylene-methacrylic acid co-acid in which M and L are 200 g/10 min. Polymer (density 0.950 g
/ cm', methacrylic acid copolymerization ratio 25
% by weight) and the above saponification degree (mixing ratio 50
: 50 (weight ratio), hereinafter referred to as "mixture (■)")
, M', 1. Ethylene-ethyl acrylate-maleic anhydride ternary copolymer (ethyl acrylate copolymerization ratio 30.7% by weight, maleic anhydride copolymerization ratio 1.7% by weight) with a temperature of 212 g/l (1 min) Terpolymer of ethylene-methyl methacrylate-hydroxymethaflerate (1.
Copolymerization ratio of methyl methacrylate: 20.7i%,
hydroxymethacrylate (copolymerization ratio 11.7% by weight) [mixing ratio 50:50 (weight ratio), hereinafter referred to as [mixture (III) J]] and M
, 1. terpolymer of ethylene-methyl methacrylate-maleic anhydride (copolymerization ratio of methyl methacrylate: 20.5% by weight, copolymerization ratio of maleic anhydride: 3.1% by weight) and ethylene. - Methyl methacrylate - glycidyl methacrylate terpolymer (copolymerization ratio of methyl methacrylate
18.8% by weight, copolymerization ratio of glycidyl methacrylate 12.7% by weight) [Mixing ratio: 30:
70 (weight ratio)], hereinafter referred to as "mixture (■)"). These mixtures were prepared by tri-blending each copolymer or terpolymer for 5 minutes using a Henschel mixer. Manufactured.

実施例 1〜6、比較例 1〜3 前記のようにして得られた混合物(I)ないしくIV)
ならびにEAAおよびけん化物をそれぞれTダイを備え
た押出機(径 40mm、ダイス幅 300m、回転数
 85回転/分)を用いて第1表にシリング一温度が示
される条件で厚さが100ミクロンのフィルムを成形し
た。得られたフィルムの前記抽出残香の測定を行なった
。いずれの場合も 0%であった。
Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 3 Mixtures (I) to IV) obtained as described above
In addition, EAA and saponified materials were each processed to a thickness of 100 microns using an extruder equipped with a T-die (40 mm diameter, 300 m die width, 85 rotations/min) under the Schilling temperature conditions shown in Table 1. A film was formed. The extracted residual aroma of the obtained film was measured. In both cases it was 0%.

第1表 このようにして得られた各フィルムを金属板としてアル
ミニウム板(厚さ 1.5 mm、以下rAl板」と云
う)または銅板(厚さ  1.0mm、以下「Cu板」
と云う)(第2表に種類を示す)および銅箔(厚さ 3
5ミクロン)の間にはさみ、 260℃の温度で20K
g/crn”の加圧下で10分間加熱参加圧させること
によって金属基板を作成した。この基板を通常の方法で
エツチング処理させ、所定の回路を作成した。
Table 1 Each of the films thus obtained was used as a metal plate, an aluminum plate (thickness 1.5 mm, hereinafter referred to as "rAl plate") or a copper plate (thickness 1.0 mm, hereinafter referred to as "Cu plate").
) (types are shown in Table 2) and copper foil (thickness 3
5 microns) and heated at 20K at a temperature of 260℃.
A metal substrate was prepared by heating and applying pressure for 10 minutes under a pressure of "g/crn". This substrate was etched in a conventional manner to form a predetermined circuit.

また、同様の方法で前記と同じ銅箔と絶縁層として第2
表に混合物などの種類が示されている未架橋のフィルム
(1)とを積層させ、前記と同一の条件で加熱−加圧さ
せることによって積層用基板を作成した。さらに、前記
の同様の方法でエツチング処理させることによって回路
を形成させた6また、第1図に示される半導体装部は事
前に打抜いておいた。得られた各種積層用基板および前
記と同じ未架橋のフィルムを金属基板、フィルム(2)
(接着層として)、積層用基板、フイケム(2)(接着
層として)および/積層用基板の順序に重ね合わせ、中
間接着層として未架橋のフィルムを置き、正確に位置を
合わせた後、前記と同様の方法で加熱・加圧させ、第1
図に示されるように金属基板に積層基板が三層積層され
た多層基板を作成した。得られた多層基板の耐湿性、ヒ
ートサイクル性およびヒートショック性のテストを行な
った。得られた結果を第2表に示す。
In addition, using the same method as above, a second layer was added as an insulating layer using the same copper foil as above.
A substrate for lamination was prepared by laminating the uncrosslinked film (1) whose type of mixture is shown in the table and heating and pressurizing it under the same conditions as above. Furthermore, a circuit was formed by etching in the same manner as described above6.Furthermore, the semiconductor device shown in FIG. 1 was punched out in advance. The obtained various lamination substrates and the same uncrosslinked film as above were used as a metal substrate and film (2).
(as an adhesive layer), a lamination substrate, Fichem (2) (as an adhesive layer) and/or a lamination substrate, and after placing an uncrosslinked film as an intermediate adhesive layer and accurately aligning the Heat and pressurize in the same manner as
As shown in the figure, a multilayer board was created in which three layers of multilayer boards were stacked on a metal board. The obtained multilayer substrate was tested for moisture resistance, heat cycle resistance, and heat shock resistance. The results obtained are shown in Table 2.

(以下余白) 以上の実施例および比較例の結果から、本発明の金属ベ
ース多層プリン]・基板は従来不可能とされていた金属
基板への多層化が可能になったばかりか、耐湿性、くり
返し温度変化に充分に耐えられる放熱性にすぐれた多層
基板が可能であることが明らかである。
(Left below) From the results of the above Examples and Comparative Examples, it is clear that the metal-based multilayer print of the present invention is not only capable of multilayering on metal substrates, which was previously considered impossible, but also has excellent moisture resistance and It is clear that a multilayer substrate with excellent heat dissipation properties that can sufficiently withstand temperature changes is possible.

褒朋(7) h伽釆 本発明の金属ベース単相プリント基板はその製造方法を
含めて下記のごとき効果を発揮する。
Bonus (7): The metal-based single-phase printed circuit board of the present invention, including its manufacturing method, exhibits the following effects.

(1)金属基板がベースのため、放熱効果が高い。(1) Since the metal substrate is the base, the heat dissipation effect is high.

したがってハイパワ一部品、半導体、ICなどの発熱部
品の実装が可能である。
Therefore, it is possible to mount high-power components, semiconductors, ICs, and other heat-generating components.

(2)耐熱性がすぐれているばかりでなく、ヒートショ
ック性が良好である。
(2) It not only has excellent heat resistance but also good heat shock resistance.

(3)加熱・加圧処理によって簡単に多層基板の製造が
可能である。
(3) Multilayer substrates can be easily manufactured by heat and pressure treatment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の金属ベース多層プリント基板の部分拡
大断面図である。 1・・・・・・金属板    2・・・・・・絶縁層3
・・・・・・導電性金属層 4・・・・・・絶縁・接着
層5・・・・・・スルーホール 6・・・・・・半導体、ICなどの部品7・・・・・・
リード線
FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of the metal-based multilayer printed circuit board of the present invention. 1...Metal plate 2...Insulating layer 3
... Conductive metal layer 4 ... Insulating/adhesive layer 5 ... Through hole 6 ... Parts such as semiconductors and ICs 7 ...
Lead

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  金属ベース多層プリント基板が(A)少なくともエチ
レン単位とカルボン酸単位、ジカルボン酸単位、その無
水物単位およびハーフエステル単位からなる群かえらば
れた少なくとも一種の単位とからなり、かつエチレン単
位の含有量が30〜99.5重量%であるエチレン系共
重合体1〜99重量%ならびに(B)少なくともエチレ
ン単位とヒドロキシル単位、アミノ単位およびエポキシ
単位からなる群からえらばれた少なくとも一種の単位と
からなり、かつエチレン単位の含有量が30〜99.5
重量%であるエチレン系共重合体99〜1重量%である
混合物の架橋物を少なくとも有する厚さが3ミクロンな
いし5mmである肉薄物と導電性金属層が少なくとも積
層されてなるフレキシブルプリント基板を金属ベースプ
リント基板に積層させてなる金属ベース多層プリント基
板。
The metal-based multilayer printed circuit board (A) consists of at least ethylene units and at least one type of unit selected from the group consisting of carboxylic acid units, dicarboxylic acid units, their anhydride units, and half ester units, and the content of ethylene units is 30-99.5% by weight of an ethylene-based copolymer and (B) at least ethylene units and at least one unit selected from the group consisting of hydroxyl units, amino units and epoxy units; and the content of ethylene units is 30 to 99.5
A flexible printed circuit board formed by laminating at least a thin material having a thickness of 3 microns to 5 mm and a conductive metal layer, which has at least a crosslinked product of a mixture of 99 to 1% by weight of an ethylene copolymer, is made of metal. A metal-based multilayer printed circuit board that is laminated onto a base printed circuit board.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH036096A (en) * 1989-06-02 1991-01-11 Matsushita Electric Works Ltd Circuit board
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