JPS61108546A - Printed wiring board - Google Patents

Printed wiring board

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Publication number
JPS61108546A
JPS61108546A JP59230277A JP23027784A JPS61108546A JP S61108546 A JPS61108546 A JP S61108546A JP 59230277 A JP59230277 A JP 59230277A JP 23027784 A JP23027784 A JP 23027784A JP S61108546 A JPS61108546 A JP S61108546A
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JP
Japan
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ethylene
acid copolymer
thin
printed wiring
acrylic acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP59230277A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
前田 正彦
員也 永田
斉藤 泰旻
大谷 武次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Filing date
Publication date
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Priority to JP59230277A priority Critical patent/JPS61108546A/en
Publication of JPS61108546A publication Critical patent/JPS61108546A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/14Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
    • H05K3/146By vapour deposition

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 rI]発明の目的 本発明は積層配線基板を製造するさい、銅箔のかわりに
金属蒸着を行なうことによって絶線肉薄物の表面に導電
性11IW;4または回路を形成するいわゆるフル・ア
ディティブ法に−よるプリント基板であり、特にフォト
レジストを用いたフル参アディティブ法に適したもので
ある。さらにくわしくは、 (A)(1)エチレン−ア
クリル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル
酸共重合体ならびに(2)エチレン−酢酸ビニル共重合
体のけん化物からなる混合物を250℃以下の温度でフ
ィッシュアイが生じない条件下で肉薄状に押出し、得ら
れる肉薄物を100℃ないし400℃の温度において加
熱・加圧させることによって得られる肉薄物に(B)金
属蒸着を行なってと配向薄物の表面に200ミクロン以
下の導体薄膜または回路を形成させてなるプリント配線
板に関するものであり、耐熱性が良好であるのみならず
、柔軟性に富むプリント配線板を提供することを目的と
するものである。
Detailed Description of the Invention [rI] Purpose of the Invention The present invention is directed to forming a conductive 11IW; This is a printed circuit board produced by the so-called full additive method, and is particularly suitable for the full additive method using photoresist. More specifically, (A) a mixture consisting of a saponified product of (1) ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) ethylene-vinyl acetate copolymer at a temperature of 250°C or less (B) Metal vapor deposition is performed on the thin-walled product obtained by extruding the thin-walled product under conditions that do not cause fish eyes and heating and pressurizing the obtained thin-walled product at a temperature of 100°C to 400°C. This relates to a printed wiring board in which a conductor thin film or circuit of 200 microns or less is formed on the surface of the board, and the purpose is to provide a printed wiring board that not only has good heat resistance but also is highly flexible. It is.

[I!]発明の背景 最近の電子機器は小型化、軽量化、薄形化、高密度実装
化が急速に進められている。#に、プリント配線板はラ
ジオなどの民生機器用として商品化されはじめ、現在で
は量産性、高信頼性に支えられて電話機、電算機などの
産業機器用として用途を拡大している。
[I! ] Background of the Invention Recent electronic devices are rapidly becoming smaller, lighter, thinner, and more densely packaged. In #1, printed wiring boards began to be commercialized for consumer equipment such as radios, and now, supported by mass production and high reliability, their use is expanding to industrial equipment such as telephones and computers.

特に、フレキシブルプリント配線板は当初電線、ケーブ
ルの代替として使用されてきたが、可撓性があるために
狭い空間に立体的に高密度実装することができるのみな
らず、繰り返し、屈曲に耐え得るために電子機器の可動
部への配線、ケーブル、コネクター機能を付与した複合
部品としてその用途が拡大されつつある。
In particular, flexible printed wiring boards were initially used as a substitute for electric wires and cables, but due to their flexibility, they can not only be mounted three-dimensionally at high density in a narrow space, but also can withstand repeated bending. Therefore, its use is expanding as a composite component that provides wiring, cable, and connector functions for the moving parts of electronic devices.

現在、カメラ、電気卓上計算機、電話機、プリンターな
どの機器内立体配線材料として用いられているものは、
厚さが約25ミクロンのポリイミドまたはポリエステル
のフィルムの両面または片面ン          に
35ミクロンの電解銅箔を接着したフレキシブル銅張板
を使用した配線パターンを形成したものである。この配
線パターンにスルホールメッキを施し、さらに両面およ
び外層にカバーレイ被覆を行なったものも用いられてい
る。
Currently, the materials used as three-dimensional wiring materials in devices such as cameras, electric desktop calculators, telephones, and printers are:
A wiring pattern is formed using a flexible copper-clad board in which electrolytic copper foil of 35 microns is adhered to both or one side of a polyimide or polyester film with a thickness of approximately 25 microns. A wiring pattern in which through-hole plating is applied, and both sides and the outer layer are coated with a coverlay is also used.

現在のフレキシブルプリント配線基板は基材としてポリ
イミドまたはポリエステル樹脂のフィルムが一般に使わ
れているが、ポリエステル樹脂では、吸水率が高く、2
0℃ないし250℃における熱膨張係数も大きいため、
スルホール接続信頼性に欠ける。さらに、製造するさい
に170℃において蒸気プレスによる硬化を行なうこと
もあり、多層化する場合に樹脂間のtIi着性が低下す
るぽかりでなく、可撓性も低下する傾向がある。
Current flexible printed wiring boards generally use polyimide or polyester resin films as the base material, but polyester resin has a high water absorption rate and
Since the coefficient of thermal expansion is large between 0℃ and 250℃,
Through-hole connection lacks reliability. Furthermore, during production, curing is sometimes carried out by steam press at 170° C., and when multi-layered, not only does the tIi adhesion between resins decrease, but also the flexibility tends to decrease.

一方、ポリイミドフィルムは通常の半田施工温度(26
0℃以上)で容易に半田接続を行なうことができるとい
う利点があるが1表面活性が乏しいために金属箔との接
着が非常に難しいという欠点がある。この接着性を解決
するために一般的には苛性ソーダ、クロム酸混液、水酸
化アルミニウムなどを用いて化学的処理をする方法など
によってフィルムの表面に施した後に接着剤を使って接
着する方法が行なわれている。しかし、これらの方法で
接着を行なったとしても、プリント基板として充分な接
着性を有するものが得られず、耐薬品性、耐熱性などが
劣るため、エツチング処理やハンダフローなどによって
銅箔浮きが発生するなどの欠点がある。
On the other hand, polyimide film is soldered at the normal soldering temperature (26
It has the advantage that solder connection can be easily performed at temperatures above 0° C., but it has the disadvantage that it is extremely difficult to bond with metal foil due to poor surface activity. To solve this problem of adhesion, the general method is to apply a chemical treatment using caustic soda, a chromic acid mixture, aluminum hydroxide, etc. to the surface of the film, and then bond it with an adhesive. It is. However, even if these methods are used for adhesion, it is not possible to obtain a printed circuit board with sufficient adhesion, and the chemical resistance and heat resistance are poor. There are disadvantages such as occurrence.

さらに、耐熱性がすぐれた熱硬化性接着剤(たとえば、
エポキシ樹脂)を使用して金属箔と接着する方法では、
接着剤を塗布したポリイミドフィルムを金属箔と重ね合
わせ、プレス機で1〜20時間程時間熱・加圧して硬化
させる必要があり、生産性、量産性、コストなどの点に
おいて問題がある。
In addition, thermosetting adhesives with excellent heat resistance (for example,
In the method of bonding with metal foil using epoxy resin,
It is necessary to overlap a polyimide film coated with an adhesive with a metal foil and heat and pressurize it in a press for about 1 to 20 hours to cure it, which poses problems in terms of productivity, mass production, cost, etc.

プリント配線基板(プリント回路基板)を製造する方法
においても、従来の銅張aM板のエツチング法にかわっ
てプラスチックへのメッキ技術を応用して回路を樹脂板
の上に無電解メッキで直接描く7デイテイブ法、さらに
はこのメッキとエツチング法とを併用したサブストラク
ティブ法が用いられるようになった。このアディティブ
法が普及してきた原因は、アディティブ法が多量少品種
型の樹脂積層板のスルホールおよびパターンメッキを同
時に形成する有効な方法に起因するからであり、またこ
こ数年逆パターンレジストインクなどの性能が向上し、
高度のファインラインが得られるようになった。最近で
は、紫外線を直接フォトマスクを通して接着層に混入し
た光反応触媒に当てて金属核を析出させ、無電解メッキ
をかけるレジストレスの方法も開発されている。
In the method of manufacturing printed wiring boards (printed circuit boards), instead of the conventional etching method for copper-clad AM boards, we apply plating technology to plastic to directly draw circuits on resin boards by electroless plating7. The dateative method and furthermore, the subtractive method, which combines this plating and etching method, have come to be used. The reason why this additive method has become popular is that it is an effective method for simultaneously forming through-holes and pattern plating for high-volume, low-mix resin laminates. The performance of
A highly fine line can now be obtained. Recently, a resistless method has also been developed in which ultraviolet rays are directly applied to a photoreaction catalyst mixed in the adhesive layer through a photomask to precipitate metal nuclei and electroless plating is performed.

しかし、これらの7デイテイブ法において使われている
従来の紙−フエノール樹脂、ガラス・エポキシ樹脂、ポ
リイミド系樹脂の基板においてはメッキ膜との接着性が
良くないため、ふくれ、剥離などが生じたり、厚さ方向
の熱膨張率が大きいために熟ストレスが加えられた時、
特に微細パターンのメッキ部にしばしばクラックが発生
したりする。また、多層板の穴あけ加工では、スミアの
発生があり、メッキとの接続を妨げたりすることによっ
て接続信頼性を低下させているのが現状である。さらに
、エツチングやメッキ工程では、種々の水溶液または水
洗用水が多量に使用されるために吸湿時の寸法変化が小
さいことも重要な条件となっている。
However, the conventional paper-phenol resin, glass-epoxy resin, and polyimide resin substrates used in these 7-date methods do not have good adhesion to the plating film, resulting in blistering, peeling, etc. When ripening stress is applied due to the large coefficient of thermal expansion in the thickness direction,
In particular, cracks often occur in the plated parts of fine patterns. Furthermore, when drilling holes in multilayer boards, smear occurs, which impedes the connection with the plating and reduces connection reliability. Furthermore, in etching and plating processes, large quantities of various aqueous solutions or washing water are used, so it is also an important condition that dimensional changes upon absorption of moisture be small.

[I[1]発明の構成 以とのことから1本発明者らは、これらの欠点を改良す
べく、耐熱性が良好であり、かつ電気絶縁性もすぐれた
プリント基板を得るべく種々探索した結果。
[I [1] Constitution of the Invention 1 In order to improve these drawbacks, the present inventors conducted various searches to obtain a printed circuit board with good heat resistance and excellent electrical insulation properties. result.

(A)(+)エチレン−アクリル酸共重合体および/ま
たはエチレン−メタクリル酸共重合体ならびに (2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物であり、該混合物中に占めるエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/lたはエチレン−メタクリル酸共
重合体の混合割合は20〜80重景%であり、この混合
物を250℃以下の温度でフィッシュアイが生じない条
件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄物)      
    を100″4°ル′。0″0温度ゝお°゛11
加熱圧させることによって得られる肉薄物に(B)金属
蒸着を行なって上記肉薄物の表面に200ミクロン以下
の導体薄膜または回路を形成させてなるプリント配線板
が、 柔軟性がすぐれ、かつ耐久性が良好であるばかりでなく
、電気絶縁性についてもすぐれていることを見出し1本
発明に到達した。
(A) (+) A mixture consisting of an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer, and the ethylene- The mixing ratio of the acrylic acid copolymer and /l or ethylene-methacrylic acid copolymer is 20 to 80%, and the mixture is made into a thin layer at a temperature of 250° C. or lower under conditions that do not cause fish eyes. extrusion, resulting thin-walled product)
100″4°le′.0″0temperatureゝ°゛゛11
A printed wiring board obtained by applying (B) metal vapor deposition to a thin material obtained by applying heat and pressure to form a conductive thin film or circuit of 200 microns or less on the surface of the thin material has excellent flexibility and durability. The present invention was achieved by discovering that the material not only has good properties, but also has excellent electrical insulation properties.

[■コ発明の効果 本発明によって得られるプリント配線板はその製造工程
も含めて下記のごとき効果(特徴)を発揮する。
[■ Effects of the Invention The printed wiring board obtained by the present invention, including its manufacturing process, exhibits the following effects (characteristics).

(1)  エポキシ系樹脂のごとき熱硬化性樹脂の接着
剤を使用しないために接着の工程が省略するばかりか、
その工程に対線する煩雑さく乾燥など)もない。
(1) Since no thermosetting resin adhesive such as epoxy resin is used, the adhesion process is not only omitted, but also
There is no complicated process (such as drying).

(2)  電気的特性(たとえば、絶縁性、耐電圧。(2) Electrical properties (e.g. insulation, withstand voltage.

誘電正接性能)がすぐれている。(dielectric loss tangent performance) is excellent.

(3)  耐熱性が良好であり、250℃以上の温度に
おいても耐え得るのみならず、100℃以上の温度にお
いて加圧させることによって前記の接着剤を使用するこ
となく、蒸着によって導電性金)?is膜を基板上に良
好に接着させることができる。
(3) It has good heat resistance and can not only withstand temperatures of 250°C or higher, but can also be made conductive by vapor deposition without using the adhesive by applying pressure at a temperature of 100°C or higher. ? The IS film can be well adhered to the substrate.

(4)  柔軟性がすぐれている。(4) Excellent flexibility.

(5)   とりわけ、本発明のフレキシブルプリント
基板の特徴は従来用いられているポリイミドフィルムお
よびポリエステルフィルムを単独に使用した場合に比べ
、後記のごとく比較的高温(200℃以上)において架
橋処理を行なうために寸法安定性がすぐれているのみな
ず。
(5) In particular, the flexible printed circuit board of the present invention is characterized by the fact that the crosslinking process is performed at a relatively high temperature (200°C or higher) as described below, compared to the case where conventionally used polyimide films and polyester films are used alone. Not only does it have excellent dimensional stability.

高温においても蒸着層との接着性が良好であり、さらに
密着性も良く、残留ボイドも極めて少ない。
It has good adhesion to the vapor deposited layer even at high temperatures, has good adhesion, and has very few residual voids.

以上のごとく1本発明のプリント配線板に要求される絶
縁抵抗、誘電率などの電気的特性はもちろんのこと、寸
法安定性、耐熱性、耐薬品性、耐湿性などが良好である
ばかりか、フレキシブル基板における耐折性は従来得ら
れなかったフレキシビリティ−を示す、また、薄着処方
による導電性金属薄膜との#ti着性については、熱圧
着によって比較的高温(約380℃)まで良い接着性を
示すなどの特徴を有する。
As described above, the printed wiring board of the present invention not only has good electrical properties such as insulation resistance and dielectric constant, but also has good dimensional stability, heat resistance, chemical resistance, moisture resistance, etc. The bending durability of flexible substrates shows flexibility that could not be obtained conventionally, and #ti adhesion with conductive metal thin films due to thin coating formulations is good even at relatively high temperatures (approximately 380°C) by thermocompression bonding. It has characteristics such as showing gender.

[V]発明の詳細な説明 (A)エチレン−アクリル酸共重合体およびエチレン−
メタクリル酸共重合体 本発明において使用されるエチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体はエ
チレンとアクリル酸またはエチレンとメタクリル酸とを
高圧(一般には、50kg/Cは以上、好適には100
kg/ c rn’以上)においてフリーラジカル発生
剤(通常、有機過酸化物)の存在下で共重合させること
によって得られるものである。これらの々の物性につい
てはよく知られているものである。これらの共重合体の
アクリル酸またはメタクリル酸の共重合割合はそれぞれ
1〜50を量%〒あり、5〜50iii%が望ましい。
[V] Detailed description of the invention (A) Ethylene-acrylic acid copolymer and ethylene-
Methacrylic Acid Copolymer The ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer used in the present invention is prepared by combining ethylene and acrylic acid or ethylene and methacrylic acid under high pressure (generally, 50 kg/C or higher). , preferably 100
kg/c rn') in the presence of a free radical generator (usually an organic peroxide). The physical properties of each of these are well known. The copolymerization ratio of acrylic acid or methacrylic acid in these copolymers is 1 to 50% by weight, preferably 5 to 50iii%.

これらの共重合体のアクリル酸またはメタクリル酸の共
重合割合が1重量%未満では、均一な薄肉物を得ること
ができない、一方、50′@蓋%を越えると、軟化点が
低くなり過ぎ、取り扱いおよび輸送が不便になる。
If the copolymerization ratio of acrylic acid or methacrylic acid in these copolymers is less than 1% by weight, it is impossible to obtain a uniformly thin walled product, while if it exceeds 50'@lid%, the softening point becomes too low. Handling and transportation become inconvenient.

(B)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物また、
本発明にわいて使用されるエチレン−酢酸ビニル共重合
体のけん化物はエチレン−酢酸ビニル共重合体をけん化
(加水分解)させることによって得られる。加水分解は
一般にはメチルアルコール中で苛性ソーダを用いて行な
われる0本発明のけん化物を製造するにあたり1通常加
水分解率が80%以上のものが望ましい、なお、原料で
あるエチレン−酢酸ビニル共重合体はエチレンと酢酸ビ
ニルとを前記のエチレン−アクリル酸共重合体およびエ
チレン−メタクリル酸共重合体と同様な方法によって共
重合させることによって得られるものである。このエチ
レン−酢酸ビニル共重合体中の酢酸ビニルの共重合割合
は一般には、1〜80重景%であり、とりわけ5〜[1
Ofi !!1%が好ましい、この共重合体の酢酸ビニ
ルの共重合割合が111量%未満では、均一な薄肉物を
得ることができない、一方、60重量%を越えると、軟
化点が下がり、室温における取り扱いが困難となる。
(B) Saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer,
The saponified ethylene-vinyl acetate copolymer used in the present invention can be obtained by saponifying (hydrolyzing) the ethylene-vinyl acetate copolymer. Hydrolysis is generally carried out using caustic soda in methyl alcohol.In producing the saponified product of the present invention, it is usually desirable that the hydrolysis rate is 80% or more. The combination is obtained by copolymerizing ethylene and vinyl acetate in the same manner as the above-mentioned ethylene-acrylic acid copolymer and ethylene-methacrylic acid copolymer. The copolymerization ratio of vinyl acetate in this ethylene-vinyl acetate copolymer is generally 1 to 80 percent, particularly 5 to [1
Ofi! ! 1% is preferable. If the copolymerization ratio of vinyl acetate in this copolymer is less than 111% by weight, it is impossible to obtain a uniformly thin walled product. On the other hand, if it exceeds 60% by weight, the softening point decreases and handling at room temperature becomes difficult. becomes difficult.

1           これらのエチレン−アクリル
酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体およびエ
チレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物は工業的に生産
され多方面にわたって利用されているものであり、それ
らの製造方法についてもよく知られているものである。
1 Saponified products of these ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-methacrylic acid copolymers, and ethylene-vinyl acetate copolymers are industrially produced and used in a wide range of fields, and their manufacturing methods are It is also well known.

CC)混合割合 本発明の混合物中に占めるエチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体の混
合割合は20〜80を量%であり(すなわち、エチレン
−酢酸ビニル共重合体の混合割合は80〜20重量%で
ある)、25〜75重量%が好ましく、特に30〜70
重量%が好適である。これらの混合物中に占めるエチレ
ン−アクリル酸共重合体8よび/またはエチレン−メタ
クリル酸共重合体の混合割合が20%i%未満では、カ
ルボキシル基(−COOH)の数がヒドロキシル基(−
OH)に比較して少なくなるため、縮合反応に寄与しな
いヒドロキシル基が残存し、耐熱性が劣る。一方、80
重量%を越えると、逆に縮合反応に寄与するカルボキシ
ル基が多すぎるため、未反応基が残存し、耐熱性および
耐湿性を改善しないため望ましくない。
CC) Mixing ratio The mixing ratio of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in the mixture of the present invention is 20 to 80% by weight (i.e., ethylene-vinyl acetate copolymer The mixing ratio is preferably 80-20% by weight), 25-75% by weight, particularly 30-70%
% by weight is preferred. If the mixing ratio of ethylene-acrylic acid copolymer 8 and/or ethylene-methacrylic acid copolymer 8 and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in these mixtures is less than 20%i%, the number of carboxyl groups (-COOH) is lower than the number of hydroxyl groups (-
OH), hydroxyl groups that do not contribute to the condensation reaction remain, resulting in poor heat resistance. On the other hand, 80
If it exceeds % by weight, on the contrary, there are too many carboxyl groups contributing to the condensation reaction, so that unreacted groups remain and heat resistance and moisture resistance are not improved, which is not desirable.

(0)混合方法 本発明の混合物を製造するには以上のエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物を均
一に混合させることによって達成することができる。混
合方法としては、オレフィン系重合体の分野において通
常行なわれているヘンシェルミキサーのごときの混合機
を用いてトライブレンドしてもよく、バンバリーミキサ
−、ニーグー、ロールミルおよびスクリュ一式押出機の
ごとき混合機を使用して溶融混練させることによって得
ることができる。このさい、あらかじめトライブレンド
し、得られる混合物を溶融混練させることによって均一
状の混合物を製造することができる。なお、溶融混線す
るさいに使われるエチレン−アクリル酸および/または
エチレン−メタクリル酸共重合体が有するカルボン酸基
(−Coo)l)とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけ
ん化物が有するヒドロキシル基(−OH)が木質的に架
橋反応(縮合、反応)せず、フィッシェアイが生じない
ことが必要である((!1かに架橋してもよい)、この
ことから、溶融温度はこれらのエチレン−アクリル酸共
重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体
とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物が溶融する
温度であるが、架橋反応が起ら°ない(フィッシュフイ
が生じない)温度である。溶融温度は後期の架橋促進剤
の配合の有無ならびにそれらの種類および添加量によっ
て異なるが、架橋促進剤を配合しない場合では通常18
0℃以下であり、特に100ないし150℃が好ましい
、 100℃未満では、これらの樹脂が完全に溶融され
ないために好ましくない、一方、架橋促進剤を添加(配
合)する場合では、−・般には 140℃以下であり、
100℃以とで実施される。
(0) Mixing method To produce the mixture of the present invention, the saponified products of the above ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer are uniformly mixed. This can be achieved by As a mixing method, tri-blending may be performed using a mixer such as a Henschel mixer, which is commonly used in the field of olefin polymers, or a mixer such as a Banbury mixer, Niegoo, roll mill, and screw extruder. It can be obtained by melt-kneading using. At this time, a homogeneous mixture can be produced by tri-blending in advance and melt-kneading the resulting mixture. In addition, the carboxylic acid group (-Coo) l) possessed by the ethylene-acrylic acid and/or ethylene-methacrylic acid copolymer used for melt mixing and the hydroxyl group (-Coo) possessed by the saponified product of the ethylene-vinyl acetate copolymer. -OH) does not undergo a crosslinking reaction (condensation, reaction) in a woody manner, and it is necessary that fisheye do not occur ((!1) may also be crosslinked). From this, the melting temperature of these ethylene- This is the temperature at which the saponified product of acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer melts, but at a temperature at which no crosslinking reaction occurs (no fish build-up occurs). The melting temperature varies depending on whether or not a crosslinking accelerator is added in the latter stage, as well as their type and amount; however, when no crosslinking accelerator is added, it is usually 18
0°C or lower, particularly preferably 100 to 150°C. Below 100°C, these resins are not completely melted and are not preferred. On the other hand, when adding (blending) a crosslinking accelerator, -. is below 140℃,
It is carried out at a temperature of 100°C or higher.

この混合物を製造するにあたり、オレフィン系重合体の
分野において一般に使われている機素。
In producing this mixture, an element commonly used in the field of olefin polymers.

光(紫外線)および熱に対する安定剤、金属劣化防止剤
、難燃化剤、電気的特性改良剤、帯電防止剤、滑剤、加
工性改良剤ならびに粘着性改良剤のごとき添加剤を本発
明の肉薄物が有する特性(物性)を損なわない範囲で添
加してもよい、さらに、エポキシ系化合物tp−)ルエ
ンスルホン酸および^見−インプロポキシドのごとき架
橋促進剤を添加させることによって前記のごとくエチレ
ン−アクリル酸共重合体および/またはエチレン−メタ
クリル酸共重合体とエチレン−酢酸゛ビニル共重合体の
けん化物との架橋を一層完結させることができる。添加
量はこれらの樹脂100fi量部に対して通常多くとも
0.1重量部(好適には0.01〜0.05改量部)で
ある。
Additives such as light (ultraviolet) and heat stabilizers, metal deterioration inhibitors, flame retardants, electrical property improvers, antistatic agents, lubricants, processability improvers, and tack improvers can be added to the thin film of the present invention. It may be added as long as it does not impair the properties (physical properties) of the product.Furthermore, by adding crosslinking accelerators such as epoxy compounds tp-)luenesulfonic acid and ^-impropoxide, ethylene - The crosslinking between the acrylic acid copolymer and/or the ethylene-methacrylic acid copolymer and the saponified product of the ethylene-vinyl acetate copolymer can be further completed. The amount added is usually at most 0.1 parts by weight (preferably 0.01 to 0.05 parts by weight) per 100 parts by weight of these resins.

(E)肉薄物の製造 本発明の肉薄物をフィルム状またはシート状として利用
する場合、熱可塑性樹脂の分野において一般に用いられ
ているT−グイフィルム、インフレーション法によるフ
ィルムを製造するさいに広く使用されている押出機を使
ってフィルム状ないしシート状に押出させることによっ
て薄状物を得)         ることができる、こ
のさい、押出温度は250℃以下である。かりに、25
0℃を越えて押出すと、エチレン−アクリル酸共重合体
および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体とエチ
レン−酢酸ビニル共重合体のけん化物の一部が架橋し、
ゲル状物の小塊が発生することによって均一状の押出成
形物が得られない、これらのことから、押出温度は架橋
促進剤を添加(配合)する場合でも添加しない場合でも
前記の溶融混線の場合と同じ温度範囲である。
(E) Production of thin-walled products When the thin-walled products of the present invention are used in the form of a film or sheet, T-Guy film, which is commonly used in the field of thermoplastic resins, is widely used when producing films by the inflation method. A thin product can be obtained by extruding it into a film or sheet using a conventional extruder, at an extrusion temperature of 250°C or less. Karini, 25
When extruded above 0°C, some of the saponified products of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer crosslink,
Due to the generation of small gel-like particles, a uniform extrusion molded product cannot be obtained.For these reasons, the extrusion temperature is set at the same temperature as the above-mentioned melt crosslinking temperature, regardless of whether a crosslinking accelerator is added (compounded) or not. Same temperature range as in case.

以上のいずれの場合でも、肉薄物を製造した後、肉薄物
間または肉薄物と引取ロールなどとの接着を防止するた
めに水冷ロールまたは水槽中に急冷させることによって
透明性の良好な肉薄物が得られる。このようにして得ら
れる肉薄物の厚さは3ミクロンないし5−1未満であり
、柔軟性および絶縁性を考慮すると、 10ミクロンな
いし 1鳳履が望ましく、とりわけ10ミクロンないし
400ミクロンが好適である。
In any of the above cases, after manufacturing the thin-walled objects, the thin-walled objects with good transparency are made by rapidly cooling them in a water-cooling roll or a water bath to prevent adhesion between the thin-walled objects or between the thin-walled objects and a take-up roll. can get. The thickness of the thin material obtained in this way is from 3 microns to less than 5-1, and in consideration of flexibility and insulation, the thickness is preferably from 10 microns to 1 inch, and particularly preferably from 10 microns to 400 microns. .

CF)加熱会加圧処理 前記のようにして得られる肉薄物は架橋がほとんど進行
していないために通常の肉薄物と同一の挙動を示す、該
肉薄物に前記の耐熱性を付与するために100〜400
℃の範囲で加熱e加圧させることが重要である。加熱温
度が100〜180℃の範囲では20〜30分、180
〜240℃の範囲では10〜20分、240〜400℃
の範囲では0.1〜10分加熱・加圧させることによっ
て前記の樹脂内で架橋反応(縮合反応)が起り、耐熱性
が著しく向上する。
CF) Heating and Pressure Treatment The thin-walled product obtained as described above exhibits the same behavior as a normal thin-walled product because crosslinking has hardly progressed, in order to impart the above-mentioned heat resistance to the thin-walled product. 100-400
It is important to heat and pressurize in the range of °C. When the heating temperature is in the range of 100 to 180°C, 20 to 30 minutes, 180
10-20 minutes in the range of ~240℃, 240-400℃
In this range, by heating and pressurizing for 0.1 to 10 minutes, a crosslinking reaction (condensation reaction) occurs within the resin, and the heat resistance is significantly improved.

すなわち、エチレン−アクリル酸共重合体および/また
はエチレン−メタクリル酸共重合体とエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体のけん化物との混合物が250℃以下の温
度で熱可塑性を示すが、該混合物を 180℃以上に加
熱中加圧処理させることによって架橋反応され、耐熱性
のすぐれた積層物を得ることができる。
That is, a mixture of an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer exhibits thermoplasticity at a temperature of 250°C or lower; By carrying out pressure treatment while heating at a temperature above .degree. C., a crosslinking reaction is effected, and a laminate with excellent heat resistance can be obtained.

(G)蒸着 金属を蒸着させる方法としては、一般に用いられている
抵抗加熱、電子線加熱、誘導加熱または熱放射加熱など
の真空加熱蒸着あるいはスパッタリングなどが適用、で
きる、用いられる金属蒸着物としては、アルミニウム、
金、銅、ニッケル、白金などの金属ならびにこれらを主
成分(50重量%以上)とする合金(たとえば、ステン
レス鋼)などがあげられる、特に微細回路用としては。
(G) Vapor-deposited metals can be vapor-deposited using commonly used resistance heating, electron beam heating, induction heating, thermal radiation heating, vacuum heating vapor deposition, or sputtering. ,aluminum,
Examples include metals such as gold, copper, nickel, and platinum, as well as alloys containing these as main components (50% by weight or more) (for example, stainless steel), especially for use in microcircuits.

白金、金がよく用いられ薄膜形成後、エツチングによる
回路を形成する場合には、銅、およびアルミニウムなら
びにこれらを主成分とする合金が好んで使用される。
Platinum and gold are often used, but when a circuit is formed by etching after forming a thin film, copper, aluminum, and alloys containing these as main components are preferably used.

蒸着された導体薄膜の厚さは用いられる装置の条件によ
って自由に選択することができるが、通常100A (
オングストロ二ム)ないし100ミクロンであり、とり
わけIGOOAないし20ミクロンが望ましい。
The thickness of the deposited conductor thin film can be freely selected depending on the conditions of the equipment used, but it is usually 100A (
Angstroms) to 100 microns, particularly IGOOA to 20 microns.

さらに、これらの蒸着の導通面(路)に銅、ニッケル、
金などの金属を電気メッキをほどこして表面保護、腐食
防止を行なったり、また半田浴を通して導通路の上に半
田をのせることも可能である。
Furthermore, copper, nickel,
It is also possible to electroplate a metal such as gold to protect the surface and prevent corrosion, or to apply solder on the conductive path through a solder bath.

(H)回路形成方法 本発明において実施される蒸着によって前記の肉薄物の
表面およびスルホール穴の内面に蒸着により、回路を形
成するいわゆるフル・アディティブ法も可能であり、銅
箔を張った積層板のようにエツチング工程も利用するこ
とができるのも特徴である。一般的には、フル・アディ
ティブ法で使われる絶縁物材料には1表面に接着剤を塗
布したものが使われているが1本発明の「エチレン−ア
クリル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル
酸共重合体ならびにエチレン−酢酸ビニル共重合体のけ
ん化物からなる混合物から得られる肉薄物」 (以下r
E−E肉薄物」と云う)はJli着剤を使わなくても、
蒸着物との密着性がすぐれている。さらに、一般的な回
路形成方法によって導体回路を形成させることが可能で
あり、−例をあげると、E−E肉薄物を規定の寸法に切
断して穴あけを行なう(パンチング法、ドリル法および
プレス加工のいずれも可)、ついで、パターン形成はネ
ガパターンでスクリーン印刷または感光剤で不必要部分
をヤスクする。このマスクされたE−E肉薄物を蒸着す
ることで、マスクされていない回路部分に規定の厚さの
金mR着膜を形成させてパターンを形成する。マスク印
刷に長時間浸漬させるために耐アルカリ性がすぐれてい
ることが必要条件である。
(H) Circuit Formation Method It is also possible to use the so-called full additive method in which a circuit is formed by vapor deposition on the surface of the thin material and the inner surface of the through-hole by vapor deposition carried out in the present invention. Another feature is that an etching process can also be used. Generally, the insulating material used in the fully additive method is one coated with an adhesive on one surface. "thin material obtained from a mixture consisting of an acid copolymer and a saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer" (hereinafter r
"E-E thin material") can be used without using Jli adhesive.
Excellent adhesion to deposits. Furthermore, it is possible to form conductor circuits by common circuit forming methods, such as cutting E-E thin materials to specified dimensions and drilling holes (punching method, drilling method, and pressing method). Then, the pattern is formed by screen printing with a negative pattern or by removing unnecessary parts with a photosensitive agent. By vapor-depositing this masked E-E thin film, a pattern is formed by forming a gold mR deposited film of a specified thickness on the unmasked circuit portion. Excellent alkali resistance is a necessary condition for long-term immersion in mask printing.

通常、一般に行なわれているフル・アディティブ法で用
いられる感光剤と接着剤とを兼ねた層を形成し、この暦
を感光させることによって回路部分だけ接着および′I
M着膜形成し易い層にすることが行なわれている。しか
し、本発明のプリント配線板では、これらを使用する必
要がなく、直接蒸着金属膜層がE−E肉薄物の表面に密
着性および接着性が良好に形成されるために量産方式に
適しているばかりか、通常のエツチングによって欠点(
ヒゲの発生、パターン切れ)がなく、M密な回路形成が
可能である。蒸着の後に回路保護用腐食防止、さらには
ICチップのモールドを行なうために金、すず、ハンダ
などをメッキさせることも行なうことが可能である。
Normally, a layer that serves as both a photosensitive agent and an adhesive used in the commonly used full additive method is formed, and by exposing this calendar to light, only the circuit portion is bonded and
Efforts have been made to form a layer that is easy to form an M film. However, in the printed wiring board of the present invention, there is no need to use these, and since the directly vapor-deposited metal film layer is formed with good adhesion and adhesion on the surface of the E-E thin object, it is suitable for mass production. Not only are there defects (
There is no occurrence of whiskers or pattern breakage, and it is possible to form M-dense circuits. After vapor deposition, it is also possible to plate with gold, tin, solder, etc. for corrosion prevention for circuit protection and further for molding IC chips.

本発明のプリント配線板はフル・アディティブ法で行な
われている接着剤印刷法、接着剤写真法およびIff接
法のいずれも用いることができるが。
For the printed wiring board of the present invention, any of the fully additive adhesive printing method, adhesive photography method, and Iff contact method can be used.

iI′r接法も行なえるのが特徴である。The feature is that the iI′r tangent method can also be performed.

(J)プリント配線板 以下本発明によって得られるプリント配線、板を図面を
用いて説明する。第1図ないし第3図はフル・アディテ
ィブ法のうち直接法によって本発明のプリント配線板の
製造工程の代表例の拡大断面図である。なお、これ以外
の接着剤印刷法および接着剤写真法について同様に製造
することが可能であることは当然である。
(J) Printed Wiring Board The printed wiring and board obtained by the present invention will be explained below with reference to the drawings. 1 to 3 are enlarged cross-sectional views of representative examples of the manufacturing process of the printed wiring board of the present invention by the direct method among the full additive methods. It should be noted that it is of course possible to manufacture in the same manner using other adhesive printing methods and adhesive photography methods.

ERI図はネガ法によって回路形成以外のところをマス
キングされた状態の両面スルホール基板の代表例の一部
の拡大断面図である。また、第2図は両面およびスルホ
ール部に金属蒸着膜を形成させた両面スルホール基板の
代表例の部分拡大断面図である。さらに、第3図はマス
キングされた部分を取り除いたいわゆる回路が形成され
た基板の代表例の一部の拡大断面図である。第1図ない
し第3図において、いずれもlはE−E肉薄物(エチレ
ン−アクリル酸共重合体および/またはエチレン−メタ
クリル酸共重合体ならびにエチレン−酢酸ビニル共重合
体のけん化物からなる混合物から得られる肉薄物)であ
り、2は1から得られたスルホール部である。3はレジ
スト材であり、4は蒸着によって得られた導電性金属薄
膜である。
The ERI diagram is an enlarged cross-sectional view of a portion of a typical example of a double-sided through-hole board in which areas other than circuit formation are masked using a negative method. Further, FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which metal vapor deposited films are formed on both sides and through-hole portions. Further, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a part of a typical example of a substrate on which a so-called circuit is formed, with masked portions removed. In each of Figures 1 to 3, l is an E-E thin material (a mixture consisting of a saponified product of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer). 2 is the through-hole part obtained from 1. 3 is a resist material, and 4 is a conductive metal thin film obtained by vapor deposition.

[1実施例および比較例 以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
[1 Example and Comparative Example Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

′なお、実施例および比較例において、耐熱性のテスト
は得られたフィルムをUL 79B (プリント配線板
)7.1図に示されたテストパターンをもった基板を3
00℃に保持された鉛/錫=90710(重量比)であ
るハンダ浴に180秒浮べて評価した。なお、第1表に
評価を下記のように示す。
'In addition, in the Examples and Comparative Examples, the heat resistance test was carried out by testing the obtained film on a board with the test pattern shown in UL 79B (Printed Wiring Board) 7.1.
Evaluation was made by floating for 180 seconds in a solder bath with a lead/tin ratio of 90,710 (weight ratio) held at 00°C. The evaluation is shown in Table 1 as follows.

○:現形のまま変化せず ×:導体回路と樹脂層との間において、剥離、ひび割れ
、分裂などの変化がみられた 実施例 1〜4、比較例 1.2 メルトフ、ローインデックス(JIS K−87[10
にしたがい、温゛度が180℃および荷重が2.18に
、の条件で測定、以下rM、1.Jと云う)が300 
g / 10分であるエチレン−アクリル酸共重合体(
密度0.1154g/ c rn’、アクリル酸共重合
割合20重量%)100重量部および酢酸ビニル共重合
割合が28重量%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体
をけん化させることによって得られるけん化物(けん化
度97.5%、 M、1.75g710分、密度0.9
51 g / c nf )100重量部をへンシェル
ミキサーを使って5分間トライブレンドを行なった。得
られた混合物[以下「混合物(A)」と云う1をT−ダ
イを備えた押出機(径40■、ダイス幅30c腸1回転
数85回転/分)を用いてシリンダ一温度がC−100
℃、C2=120℃およびC5−140℃およびダイス
温度が180℃の条件でフィルム(厚さ100ミクロン
)を成形し、 20℃に水冷されたロールにaさつけた
(実施例 1〜4、比較例 1 、2) 、また、混合
物(A)を製造するさいに用いたエチレン−アクリル酸
共重合体のかわりに、に、■、が200 K / 10
分であ1         るエチレン−メタクリル酸
共重合体(密度0.950g / c rn’、メタク
リル酸共重合割合25iJ1%)使ったほかは、混合物
(A)と同様に混合物E以下r混合物(B)」と云うJ
を製造した。得られた混合物を前記と同様にフィルムを
製造した(実施例 4)、さらに、実施例1において使
用したエチレン−アクリル酸共重合体(以下r EAA
J と云う、比較例 l)およびエチレン−酢酸ビニル
共重合体のけん化物(以下「けん化物」と云う、比較例
 2)を前記と同様にフィルムを製造した。
○: No change in the current form ×: Changes such as peeling, cracking, and splitting were observed between the conductor circuit and the resin layer Examples 1 to 4, Comparative Examples 1.2 Melt-off, low index (JIS K -87[10
Measured under the conditions of temperature 180°C and load 2.18, hereinafter rM, 1. J) is 300
g / 10 minutes of ethylene-acrylic acid copolymer (
A saponified product obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer having a density of 0.1154 g/c rn' and an acrylic acid copolymerization ratio of 20% by weight) and a vinyl acetate copolymerization ratio of 28% by weight. Saponification degree 97.5%, M, 1.75g 710 minutes, density 0.9
51 g/cnf) was triblended for 5 minutes using a Henschel mixer. The obtained mixture [hereinafter referred to as "mixture (A)" 1] was heated using an extruder equipped with a T-die (diameter: 40 cm, die width: 30 cm, rotation speed: 85 revolutions/min) until the cylinder temperature reached C-. 100
℃, C2 = 120℃ and C5 - 140℃ and the die temperature was 180℃, and the film (thickness 100 microns) was molded and rolled onto a roll water-cooled to 20℃ (Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 and 2), and instead of the ethylene-acrylic acid copolymer used in producing the mixture (A), 200 K/10
Mixture E and R Mixture (B) were prepared in the same manner as Mixture (A) except that an ethylene-methacrylic acid copolymer (density 0.950 g/crn', methacrylic acid copolymerization ratio 25iJ1%) was used. ” says J.
was manufactured. A film was produced from the obtained mixture in the same manner as described above (Example 4).
Comparative Example 1), referred to as J), and a saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer (hereinafter referred to as "saponified product", Comparative Example 2) were used to produce films in the same manner as described above.

このようにして得られた各フィルムを320℃でそれぞ
れ10分熱プレス機を用いてそれぞれ20kg/crn
’(ゲージ圧)の加圧下で架橋を行ない(厚さを第1表
に示す)、シートを作成した。
Each film obtained in this way was heated at 320°C for 10 minutes using a heat press machine to produce 20kg/crn.
Crosslinking was carried out under a pressure of ' (gauge pressure) (thickness is shown in Table 1) to produce a sheet.

このようにして得られた各シートにスクリーン印刷機を
用いて回路以外のところにマスキングを施した。
Each sheet thus obtained was masked except for the circuit using a screen printing machine.

得られたシートを真空蒸着装置(日本電子社製、商品名
 JEE−4X型)を使って2XIG  )−ル中で白
金を蒸着させ、厚さが約100OAの白金膜を得た。
Platinum was deposited on the obtained sheet using a vacuum deposition apparatus (manufactured by JEOL Ltd., trade name: JEE-4X model) in a 2XIG (2XIG) mold to obtain a platinum film having a thickness of about 100 OA.

得られた回路形成された基板の耐熱テストを行なった。A heat resistance test was conducted on the obtained circuit-formed substrate.

それらの結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第1表 これらの結果から、本発明によって得られるプリント配
線板は、非常に回路密度が高いのみならず、さらに耐熱
性がすぐれており、しかも柔軟な高品質プリント配線板
であることがわかった。
Table 1 From these results, it was found that the printed wiring board obtained by the present invention not only has a very high circuit density, but also has excellent heat resistance and is a flexible, high-quality printed wiring board. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はネガ法によって回路形成以外のところをマスキ
ングされた状態の両面スルホール基板の代表例の一部の
拡大断面図である。また、第2図は両面およびスルホー
ル部に無電解銅メッキ被膜を形成させた両面スルホール
基板の代表例の部分拡大断面図である。さらに、第3図
はマスキングされた部分を取り除いたいわゆる回路が形
成された基板の代表例の一部の拡大断面図である。 1・・・E−E肉薄物 2・・・1から得られたスルホール部 3・・・レジスト材
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a representative example of a double-sided through-hole board in which areas other than circuit formation are masked by a negative method. Further, FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which an electroless copper plating film is formed on both sides and through-hole portions. Further, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a part of a typical example of a substrate on which a so-called circuit is formed, with masked portions removed. 1... E-E thin wall material 2... Through-hole portion obtained from 1... Resist material

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (A)(1)エチレン−アクリル酸共重合体および/ま
たはエチレン−メタクリル酸共重合体 ならびに (2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物であり、該混合物中に占めるエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体の混合割合は20〜80重量%であり、この混合
物を250℃以下の温度でフィッシュアイが生じない条
件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄物を100℃ない
し400℃の温度において加熱・加圧させることによっ
て得られる肉薄物に (B)金属蒸着を行なって上記肉薄物の表面に200ミ
クロン以下の導体薄膜または回路を形成させてなるプリ
ント配線板。
[Scope of Claims] (A) A mixture consisting of (1) an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer, The proportion of the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in the mixture is 20 to 80% by weight, and the mixture is mixed at a temperature of 250°C or less under conditions that do not cause fish eyes. (B) A thin conductive film of 200 microns or less is formed on the surface of the thin object by metal vapor deposition on the thin object obtained by extruding it into a thin shape and heating and pressurizing the obtained thin object at a temperature of 100°C to 400°C. Or a printed wiring board on which a circuit is formed.
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