JPS60233885A - Printed circuit board - Google Patents

Printed circuit board

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JPS60233885A
JPS60233885A JP8834984A JP8834984A JPS60233885A JP S60233885 A JPS60233885 A JP S60233885A JP 8834984 A JP8834984 A JP 8834984A JP 8834984 A JP8834984 A JP 8834984A JP S60233885 A JPS60233885 A JP S60233885A
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JP
Japan
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ethylene
plating
acid copolymer
copper
acrylic acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP8834984A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
前田 正彦
員也 永田
斉藤 泰旻
大谷 武次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [I]発明の目的 杏発明はスルーホールメッキ銅張配線基板を製造するに
あたり、銅張り積層板に穴あけ加工した後にスルーホー
ル内に無電解銅メッキによって銅の薄膜を形成し、その
後、回路以外の不要の銅をエツチングによって除去する
ことにより、回路を形成するいわゆるエツチドホイール
法によって製造されたプリント配線基板に関するもので
ある。
[Detailed Description of the Invention] [I] Purpose of the Invention The present invention is to produce a through-hole plated copper-clad wiring board by drilling a hole in a copper-clad laminate and then depositing a thin copper film in the through-hole by electroless copper plating. The present invention relates to a printed wiring board manufactured by the so-called etched wheel method in which a circuit is formed by forming a circuit and then removing unnecessary copper other than the circuit by etching.

さらにくわしくは、(^)(1)エチレン−アクリル酸
共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合
体ならびに(2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん
化物からなる混合物を250℃以下の温度でフィッシュ
アイが生じない条件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄
物を100℃ないし400℃の温度において加熱・加圧
させることによって得られる架橋物に(B)導電性金属
箔からなる積層物のスルーホール部に無電解メッキまた
は無電解メッキおよび電気メッキを行なうことを特徴と
する特リント配線基板に関するものであり、#熱性が良
々イであるばかりか、柔軟性に富むフレキシブル基板と
してもすぐれたプリント配線基板を提供することを目的
とするものである。
More specifically, (^) A mixture consisting of a saponified product of (1) an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) an ethylene-vinyl acetate copolymer is heated at a temperature of 250°C or less. (B) A laminate made of conductive metal foil. This relates to a special lint wiring board that is characterized by electroless plating or electroless plating and electroplating on the through-hole portions of the board.Not only does it have good heat resistance, but it is also excellent as a highly flexible flexible board. The object of the present invention is to provide a printed wiring board with improved characteristics.

[TI]発明の背景 プリント配線基板として、銅張り積層板が主として用い
られており、近年ますますその需要が増大している。従
来から、この銅張り積層板としては主にフェノール樹脂
含浸基材およびエポキシ樹脂含浸基材が使われている。
[TI] Background of the Invention Copper-clad laminates are mainly used as printed wiring boards, and the demand for them has been increasing in recent years. Conventionally, phenol resin-impregnated base materials and epoxy resin-impregnated base materials have been mainly used as copper-clad laminates.

しかし、これらの樹脂の含浸基材を基材とするプリンI
・配線基板は銅箔と基材との接着力、寸法安定性および
電気的特性(特に吸湿処理後での電気的特性)の低下が
大きいなどのごとく、種々の特性はかならずしも充分で
ない。これらのことがら、最近の電子工業界の発達にと
もなう高密度化、高信頼性の要求に対して充分に満足さ
せることができず、より高度な性能を有するプリント配
線基板が要望されている。
However, pudding I based on these resin-impregnated base materials
- Wiring boards do not always have sufficient properties, such as the adhesive strength between the copper foil and the base material, dimensional stability, and electrical properties (particularly electrical properties after moisture absorption treatment). For these reasons, it has not been possible to fully satisfy the demands for higher density and higher reliability accompanying the recent development of the electronic industry, and a printed wiring board with higher performance has been desired.

耐熱性および寸法安定性のごとき特性を改良する方法と
して、ガラスペーパー、フィラメントおよびステーブル
短m維のごときグラスファイバーよりなる繊維状物、さ
らにはガラス織物をフェノール樹脂や改良されたエポキ
シ樹脂含浸基材が出現している。しかしながら、これら
の配線基板においても、寸法安定性、耐熱性などは基材
中に存在するこれらの無機質繊維状物によっである程度
は改良することができるが、耐温性、電気的特性などは
木質的に改良することができない。さらに、これらの基
材と銅箔との接着剤として良好なものがないため、基材
自体の物性改良が銅箔および積層板を成形した時に改良
効果が充分発揮されていないのが現状である。また、最
近では、これらの熱硬化性樹脂の欠点を改良するために
耐熱性熱可塑性樹脂を利用することが開発されている。
As a method to improve properties such as heat resistance and dimensional stability, fibrous materials made of glass fibers such as glass paper, filaments and stable fibers, as well as glass fabrics, can be treated with phenolic resins or improved epoxy resin impregnated groups. material is appearing. However, even in these wiring boards, although dimensional stability, heat resistance, etc. can be improved to some extent by these inorganic fibrous materials present in the base material, temperature resistance, electrical properties, etc. Wood quality cannot be improved. Furthermore, because there is no good adhesive between these base materials and copper foil, the current situation is that improvements in the physical properties of the base material itself do not have sufficient improvement effects when molded into copper foil and laminates. . Furthermore, recently, the use of heat-resistant thermoplastic resins has been developed to improve the drawbacks of these thermosetting resins.

混成集積回路基板は基材としてポリイミドまたはポリエ
ステル樹脂が一般に使われているが、ポリイミドでは銅
箔との接着強度が弱く、ハンダリフローなどによって銅
箔浮きが発生するなどの欠点がある。一方、ポリエステ
ル樹脂では、吸水率が品く、20°Cないし250℃に
おける熱膨張係数も大きいため、スルホール接続信頼性
に欠ける。さらに、製造するさいに170°Cにおいて
蒸気プレスによる硬化を行なうこともあり、多層化する
場合に樹脂間の接着性が低下する傾向がある。
Polyimide or polyester resin is generally used as a base material for hybrid integrated circuit boards, but polyimide has drawbacks such as poor adhesion strength to copper foil and copper foil lifting due to solder reflow. On the other hand, polyester resin has poor water absorption and a large coefficient of thermal expansion at 20°C to 250°C, so it lacks through-hole connection reliability. Furthermore, during production, curing is sometimes carried out using a steam press at 170°C, which tends to reduce the adhesion between resins when multi-layered.

また、これらの熱可塑性樹脂を基材にした場合、熱融着
または接着剤との接着条件によって出来Fっだ基板の寸
法安定性が著しく影響される。
Furthermore, when these thermoplastic resins are used as a base material, the dimensional stability of the finished substrate is significantly affected by the conditions for thermal fusion or bonding with an adhesive.

さらに、接着層の残留応力が働くことにより、高温時に
収縮が発生し、曲がり、よじれなどが発生する。これら
を改良するために基材である樹脂中にガラスクロスもし
くはマットまたは無機mmの布などを介しているものが
用いられている。しかし、プリント配線基板としての必
須要件である該熱可塑性樹脂と“ガラス繊維間で接着性
および相溶性が極めて乏しいため、くり返して曲げを行
なうと、樹脂とガラス繊維間で剥離が発生し、破れの原
因となったり、回路が破壊したりすることが多く見られ
る。
Furthermore, due to residual stress in the adhesive layer, shrinkage occurs at high temperatures, causing bending, twisting, etc. In order to improve these problems, materials in which glass cloth, matte, or inorganic cloth of mm are interposed in the resin base material are used. However, because the adhesiveness and compatibility between the thermoplastic resin and glass fibers, which are essential requirements for printed wiring boards, is extremely poor, repeated bending causes peeling between the resin and glass fibers, resulting in breakage. This often causes damage to the circuit or destroys the circuit.

これらのことから、プリント配線基板として、高温にお
ける寸法安定性が良好であるばかりでなく、電気的特性
についてもすぐれ、かつ信頼性が高く、安価なプリント
配線基板が要望されている、 最近、高密度化にともない、多層化が進んできている。
For these reasons, there is a demand for printed wiring boards that not only have good dimensional stability at high temperatures but also have excellent electrical properties, are highly reliable, and are inexpensive. As density increases, the number of layers is increasing.

とりわけ、三層以上になると、任意の導体層を接続する
ためにスルーホールが利用されている。たとえばプレイ
テッドスルーホール法、アディティブ法、マルチワイヤ
法などが行なわれており、電子部品の実装、たとえばク
リアランス法、ピン挿入法などにもスルーホールが利用
されている。
In particular, when there are three or more layers, through holes are used to connect arbitrary conductor layers. For example, plated through-hole methods, additive methods, and multi-wire methods are used, and through-holes are also used for mounting electronic components, such as clearance methods and pin insertion methods.

これらのスルーホールにおいては、一般にはメッキ法に
よる導体形成が行なわれているが、耐温性、密着強度に
問題があり、断線をおこしたり、製品歩留りが非常に悪
いために密着性の良い樹脂(絶縁層)が要望されている
In these through-holes, conductors are generally formed by plating, but there are problems with temperature resistance and adhesion strength, resulting in wire breakage and very low product yields. (insulating layer) is required.

プリント配線基板(プリント回路基板)を製造する方法
においても、従来の銅張積層板のエツチング法にかわっ
てプラスチックへのメッキ技術を応用して回路を樹脂板
の上に無電解メッキで直接描くアディティブ法、さらに
はこのメッキとエツチング法とを併用したサブストラッ
テイブ法が用いられるようになった。このアディティブ
法が普及してきた原因は、アディティブ法が多量少品種
型の樹脂積層板のスルーホールおよびパターンメッキを
同時に形成する有効な方法に起因するからであり、また
ここ数年逆パターンレジストインクなどの性能が向」ニ
ジ、高度のファインラインが得られるようになった。最
近では、紫外線を直接フォトマスクを通して接着層に混
入した光反応触媒に当てて金属核を析出させ、無電解メ
ッキをかけるレジストレスの方法も開発されている。
In the method of manufacturing printed wiring boards (printed circuit boards), instead of the conventional etching method for copper-clad laminates, we apply additive technology to directly draw circuits on resin boards using electroless plating. Furthermore, a substrative method using a combination of this plating and etching method has come to be used. The reason why this additive method has become popular is that it is an effective method for simultaneously forming through-holes and pattern plating in resin laminates for high-volume, low-variety type resin laminates. Performance such as "Niji" is improved, and a high degree of fine line can now be obtained. Recently, a resistless method has also been developed in which ultraviolet rays are directly applied to a photoreaction catalyst mixed in the adhesive layer through a photomask to precipitate metal nuclei and electroless plating is performed.

l−かし、これらのアディティブ法において使われてい
る従来の紙−フェノール樹脂、ガラス・エポキシ樹脂、
ポリイミド系樹脂の基板においてはメッキ膜との接着性
が良くないため、ふくれ、剥離などが生じたり、厚さ方
向の熱膨張率が大きいために熱ストレスが加えられた時
、特に微細パターンメッキ部にしばしばクラックが発生
したりする。また、多層板の穴あけ加工では、スミアの
発生があり、メッキとの接続を妨げたりすることによっ
て接続信頼性を低下させているのが現状である。さらに
、エツチングやメンキ工程では、種々の水溶液または水
洗用水が多量に使用されるために吸湿時の寸法変化が小
さいことも重要な条件となっている。
l-Kashi, conventional paper used in these additive methods-phenolic resin, glass epoxy resin,
Polyimide resin substrates do not have good adhesion to the plating film, so blistering and peeling may occur, and the coefficient of thermal expansion in the thickness direction is large, so when thermal stress is applied, especially on fine pattern plating parts. Cracks often occur. Furthermore, when drilling holes in multilayer boards, smear occurs, which impedes the connection with the plating and reduces connection reliability. Furthermore, in the etching and scratching processes, large amounts of various aqueous solutions or washing water are used, so it is also an important condition that dimensional changes upon moisture absorption be small.

[m]発明の構成 以上のことから、本発明者らは、これらの欠点を改良す
べく、耐熱性が良好であり、かつ電気絶縁性もすぐれた
プリント基板を得るべく種々探索した結果、 (A)(1)エチレン−アクリル酸共重合体および/ま
たはエチレン−メタクリル酸共重合体ならびに (2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物であり、該混合物中に占めるエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体の混合割合は20〜80重量%であり、この混合
物を250℃以下の温度でフィッシュアイが生じない条
件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄物を 100℃な
いし400℃の温度において加熱Φ加圧させることによ
って得られる架橋物に(B)導電性金属箔 からなる積層物のスルーホール部に無電解メッキまたは
無電解メッキおよび電気メッキを行なうことを特徴とす
るプリント配線基板が、柔軟性がすぐれているのみなら
ず、耐久性も良好であり、さらに電気絶縁性についても
すぐれていることを見出し、本発明に到達した。
[m] Structure of the Invention Based on the above, the present inventors conducted various searches to improve these drawbacks in order to obtain a printed circuit board with good heat resistance and excellent electrical insulation properties, and as a result, ( A) A mixture consisting of saponified products of (1) ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) ethylene-vinyl acetate copolymer; The mixing ratio of the acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer is 20 to 80% by weight, and the mixture is extruded into a thin shape at a temperature of 250° C. or lower under conditions that do not cause fish eyes. (B) Electroless plating or electroless plating and electroplating is applied to the through-hole portion of the laminate made of conductive metal foil to the crosslinked product obtained by heating and pressurizing the thin walled product at a temperature of 100°C to 400°C. The present inventors have discovered that a printed wiring board characterized by the above-mentioned characteristics not only has excellent flexibility, but also good durability, and also has excellent electrical insulation properties, and has thus arrived at the present invention.

[rV]発明の効果 本発明によって得られるプリント基板はその製造工程も
含めて下記のごとき効果(特徴)を発揮する。
[rV] Effects of the invention The printed circuit board obtained by the invention exhibits the following effects (characteristics) including its manufacturing process.

(1)エポキシ系樹脂のごとき熱硬化性樹脂の接着剤を
使用しないために接着の工程が省略するばかりか、その
工程に阻隔する煩雑さく乾燥など)もない。
(1) Since no thermosetting resin adhesive such as epoxy resin is used, not only the adhesion process is omitted, but also there is no need for the cumbersome drying process that interferes with that process.

(2) 電気的特性(たとえば、絶縁性、耐電圧、誘電
重接性能)がすぐれている。
(2) Excellent electrical properties (for example, insulation, withstand voltage, and dielectric heavy junction performance).

(3) 耐熱性が良好であり、250”0以上の温度に
おいても耐え得るのみならず、 100℃以上の温度に
おいて加圧させることによって前記の接着剤を使用する
ことなく、無電解メッキまたは無電解メッキおよび電気
メッキにより、導電性金属薄膜をスルーホール部および
基板上に良好に接着させることができる。
(3) It has good heat resistance and can not only withstand temperatures of 250°C or higher, but can also be plated without electrolytic plating or without the use of adhesives by applying pressure at temperatures of 100°C or higher. Electrolytic plating and electroplating allow a conductive metal thin film to be well adhered to the through-hole portion and the substrate.

(4) 柔軟性がすぐれている。(4) Excellent flexibility.

(5) とりわけ、本発明のフレキシブルプリント基板
の特徴は従来用いられているポリイミドフィルムおよび
ポリエステルフィルムを単独に使用した場合に比べ、後
記のごとく比較的高温(200°C以上)において架橋
処理を行なうために寸法安定性がすぐれているのみなす
、高温においてもメッキ層との接着性が良好であり、さ
らに密着性も良く、残留ボイドも極めて少ない。
(5) In particular, the flexible printed circuit board of the present invention is characterized in that the crosslinking process is performed at a relatively high temperature (200°C or higher) as described below, compared to the case where conventionally used polyimide films and polyester films are used alone. Therefore, it is considered to have excellent dimensional stability, has good adhesion to the plating layer even at high temperatures, has good adhesion, and has extremely few residual voids.

以上のごとく、本発明のプリント基板に要求される絶縁
抵抗、誘電率などの電気的特性はもちろんのこと、寸法
安定性、耐熱性、耐薬品性、耐湿性などが良好であるば
かりか、フレキシブル基板における耐折性は従来得られ
なかったフレキシビリティ−を示す。また、メッキ処方
による導電性金属薄膜との接着性については、比較的高
温(約360°C)まで良い接着性を示すなどの特徴を
有する。
As described above, the printed circuit board of the present invention not only has good electrical properties such as insulation resistance and dielectric constant, but also has good dimensional stability, heat resistance, chemical resistance, moisture resistance, etc., and is also flexible. The bending durability of the substrate exhibits flexibility that has not been previously available. Furthermore, the adhesion with the conductive metal thin film due to the plating recipe is characterized by good adhesion up to relatively high temperatures (approximately 360° C.).

[V]発明の詳細な説明 (A)エチレン−アクリル酸共重合体およびエチレン−
メタクリル酸共重合体 本発明において使用されるエチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体はエ
チレンとアクリル酸またはエチレンとメタクリル酸とを
高圧(一般には、50kg/cm’以五、好適には10
0kg/ c rn’以上)においてフリーラジカル発
生剤(通常、有機過酸化物)の存在下で共重合させるこ
とによって得られるものである。これらの々の物性につ
いてはよく知られているものである。これらの共重合体
のアクリル酸またはメタクリル酸の共重合割合はそれぞ
れ1〜50重量%であり、5〜50重量%が望ましい。
[V] Detailed description of the invention (A) Ethylene-acrylic acid copolymer and ethylene-
Methacrylic acid copolymer The ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer used in the present invention is prepared by combining ethylene and acrylic acid or ethylene and methacrylic acid at high pressure (generally 50 kg/cm or less). 5, preferably 10
0 kg/c rn' or more) in the presence of a free radical generator (usually an organic peroxide). The physical properties of each of these are well known. The copolymerization ratio of acrylic acid or methacrylic acid in these copolymers is 1 to 50% by weight, preferably 5 to 50% by weight.

これらの共重合体のアクリル酸またはメタクリル酸の共
重合割合が1重量%未満では、均一な薄肉物を得ること
ができない。一方、50重量%を越えると、軟化点が低
くなり過ぎ、取り扱いおよび輸送が不便になる。
If the copolymerization ratio of acrylic acid or methacrylic acid in these copolymers is less than 1% by weight, a uniformly thin product cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 50% by weight, the softening point will be too low, making handling and transportation inconvenient.

(B)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物また、
本発明において使用されるエチレン−酢酸ビニル共重合
体のけん化物はエチレン−酢酸ビニル共重合体をけん化
(加水分解)させることによって得られる。加水分解は
一般にはメチルアルコール中で苛性ソーダを用いて行な
われる。本発明のけん化物を製造するにあたり、通常加
水分解率が80%以上のものが望ましい。なお、原料で
あるエチレン−酢酸ビニル共重合体はエチレンと酢酸ビ
ニルとを前記のエチレン−アクリル酸共重合体およびエ
チレン−メタクリル酸共重合体と同様な方法によって共
重合させることによって得られるものである。このエチ
レン−酢酸ビニル共重合体中の酢酸ビニルの共重合割合
は一般には 1〜60重量%であり、とりわけ5〜60
重量%が好ましい。この共重合体の酢酸ビニルの共重合
割合が1重量%未満では、均一な薄肉物を得ることがで
きない。一方、60重量%を越えると、軟化点が下がり
、室温における取り扱いが困難となる。
(B) Saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer,
The saponified ethylene-vinyl acetate copolymer used in the present invention can be obtained by saponifying (hydrolyzing) the ethylene-vinyl acetate copolymer. Hydrolysis is generally carried out using caustic soda in methyl alcohol. In producing the saponified product of the present invention, it is usually desirable to have a hydrolysis rate of 80% or more. The raw material ethylene-vinyl acetate copolymer is obtained by copolymerizing ethylene and vinyl acetate in the same manner as the ethylene-acrylic acid copolymer and ethylene-methacrylic acid copolymer described above. be. The copolymerization ratio of vinyl acetate in this ethylene-vinyl acetate copolymer is generally 1 to 60% by weight, particularly 5 to 60% by weight.
Weight percent is preferred. If the copolymerization ratio of vinyl acetate in this copolymer is less than 1% by weight, a uniformly thin product cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 60% by weight, the softening point decreases and handling at room temperature becomes difficult.

これらのエチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メ
タクリル酸共重合体およびエチレン−酢酸ビニル共重合
体のけん化物は工業的に生産され多方面にわたって利用
されているものであり、それらの製造方法についてもよ
く知られているものである。
Saponified products of these ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-methacrylic acid copolymers, and ethylene-vinyl acetate copolymers are industrially produced and used in a wide variety of fields, and we will discuss their manufacturing methods. is also well known.

(C)混合割合 本発明の混合物中に占めるエチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体の混
合割合は20〜80重量%であり(すなわち、エチレン
−酢酸ビニル共重合体の混合割合は80〜20重量%で
ある)−25〜75重量、%が好ましく、特に30〜7
0重量%が好適である。これらの混合物中に占めるエチ
レン−アクリル酸共重合体および/またはエチレン−メ
タクリル酸共重合体の混合割合が20重量%未満では、
カルボキシル基(−C:0OH)の数がヒドロキシル基
(−OH)に比較して少なくなるため、縮合反応に寄与
しないヒドロキシル基が残存し、耐熱性が劣る。一方、
80重量%を越えると、逆に縮合反応に寄与するカルボ
キシル基が多すぎるため、未反応基が残存し、耐熱性お
よび耐湿性を改善しないため望ましくない。
(C) Mixing ratio The mixing ratio of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in the mixture of the present invention is 20 to 80% by weight (i.e., ethylene-vinyl acetate copolymer The mixing ratio is preferably 80 to 20% by weight) -25 to 75% by weight, particularly 30 to 7% by weight.
0% by weight is preferred. If the proportion of the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in these mixtures is less than 20% by weight,
Since the number of carboxyl groups (-C:0OH) is smaller than that of hydroxyl groups (-OH), hydroxyl groups that do not contribute to the condensation reaction remain, resulting in poor heat resistance. on the other hand,
If it exceeds 80% by weight, on the contrary, there are too many carboxyl groups contributing to the condensation reaction, so that unreacted groups remain and heat resistance and moisture resistance are not improved, which is not desirable.

(Il])混合方法 本発明の混合物を製造するには以上のエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物を均
一に混合させることによって達成することができる。混
合方法としては、オレフィン系重合体の分野において通
常行なわれているヘンシェルミキサーのごときの混合機
を用いてトライブレンドしてもよく、バンバリーミキサ
−、ニーダ−、ロールミルおよびスクリュ一式押出機の
ごとき混合機を使用して溶融混練させることによって得
ることができる。このさい、あらかじめトライブレンド
し、得られる混合物を溶融混練させることによって均一
状の混合物を製造することができる。なお、溶融混線す
るさいに使われるエチレン−アクリル酸および/または
エチレン−メタクリル酸共重合体が有するカルボン酸基
(−COOH)とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん
化物が有するヒドロキシル基(−OH)が本質的に架橋
反応(lit合反応)せず、フィッシュアイが生。
(Il)) Mixing method To produce the mixture of the present invention, the saponified products of the above ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer are uniformly mixed. This can be achieved by As a mixing method, tri-blending may be performed using a mixer such as a Henschel mixer, which is commonly used in the field of olefin polymers, or mixing may be performed using a mixer such as a Banbury mixer, kneader, roll mill, or screw extruder. It can be obtained by melt-kneading using a machine. At this time, a homogeneous mixture can be produced by tri-blending in advance and melt-kneading the resulting mixture. In addition, the carboxylic acid group (-COOH) possessed by the ethylene-acrylic acid and/or ethylene-methacrylic acid copolymer used for melt mixing and the hydroxyl group (-OH) possessed by the saponified product of the ethylene-vinyl acetate copolymer are ) essentially does not undergo a cross-linking reaction (lit reaction), and fish eyes remain raw.

じないことが必要である(僅かに架橋してもよい)。こ
のことから、溶融温度はこれらのエチレン−アクリル酸
共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合
体とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物が溶融す
る温度であるが、架橋反応が起らない(フィッシュアイ
が生じない)温度である。溶融温度は後期の架橋促進剤
の配合の有無ならびにそれらの種類および添加量によっ
て異なるが、架橋促進剤を配合しない場合では通常18
0°C以下であり、特に100ないし150℃が好まし
い。100℃未満では、これらの樹脂が完全に溶融され
ないために好ましくない。一方、架橋促進剤を添加(配
合)する場合では、一般には140°C以下であり、1
00℃以上で実施される。
(slight crosslinking may be allowed). From this, the melting temperature is the temperature at which the saponified products of these ethylene-acrylic acid copolymers and/or ethylene-methacrylic acid copolymers and ethylene-vinyl acetate copolymers melt, but the crosslinking reaction does not occur. (no fish eyes occur). The melting temperature varies depending on whether or not a crosslinking accelerator is added in the latter stage, as well as their type and amount; however, when no crosslinking accelerator is added, it is usually 18
The temperature is preferably 0°C or lower, particularly preferably 100 to 150°C. If the temperature is less than 100°C, these resins will not be completely melted, which is not preferable. On the other hand, when adding (blending) a crosslinking accelerator, the temperature is generally 140°C or less, and 1
The test is carried out at temperatures above 00°C.

この混合物を製造するにあたり、オレフィン系重合体の
分野において一般に使われている酸素、光(紫外線)お
よび熱に対する安定剤、金属劣化防止剤、難燃化剤、電
気的特性改良剤、帯電防止剤、滑剤、加工性改良剤なら
びに粘着性改良剤のごとき添加剤を本発明の肉薄物が有
する特性(物性)を損なわない範囲で添加してもよい。
In producing this mixture, stabilizers against oxygen, light (ultraviolet light) and heat, metal deterioration inhibitors, flame retardants, electrical property improvers and antistatic agents commonly used in the field of olefinic polymers are used. Additives such as lubricants, processability improvers, and tackiness improvers may be added to the extent that they do not impair the characteristics (physical properties) of the thin-walled product of the present invention.

9さらに、エポキシ系化合物、P−トルエンスルホン酸
およびAM−インプロポキシドのごとき架橋促進剤を添
加させることによって前記のごとくエチレン−アクリル
酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共重
合体とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物との架
橋を一層完結させることができる。添加量はこれらの樹
脂100重量部に対して通常多くとも0,1重量部(好
適には0.O1〜0.05重量部)である。
9 Furthermore, by adding a crosslinking promoter such as an epoxy compound, P-toluenesulfonic acid, and AM-impropoxide, the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene - Crosslinking of the vinyl acetate copolymer with the saponified product can be further completed. The amount added is usually at most 0.1 part by weight (preferably 0.01 to 0.05 part by weight) per 100 parts by weight of these resins.

(E)肉薄物の製造 本発明の肉薄物をフィルム状またはシート状として利用
する場合、熱可塑性樹脂の分野において一般に用いられ
ているT−グイフィルム、インフレーション法によるフ
ィル11を製造するさいに広く使用ネれている押出機を
使ってフィルム状ないしシート状に押出させることによ
って薄状物を得ることができる。このさい、押出温度は
250°C以下である。かりに、250°Cを越えて押
出すと、エチレン−アクリル酸共重合体および/または
エチレン−メタクリル酸共重合体とエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体のけん化物の一部が架橋し、ゲル状物の小塊
が発生することによって均一状の押出成形物が得られな
い。これらのことから、押出温度は架橋併進剤を添加(
配合)する場合でも添加しない場合でも前記の溶融混練
の場合と同じ温度範囲である。
(E) Production of thin material When the thin material of the present invention is used in the form of a film or sheet, it is widely used in the production of T-Guy film, which is commonly used in the field of thermoplastic resins, and the film 11 by the inflation method. A thin product can be obtained by extruding it into a film or sheet using a commonly used extruder. At this time, the extrusion temperature is 250°C or less. On the other hand, when extruded at temperatures exceeding 250°C, some of the saponified products of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer crosslink, forming a gel-like material. Due to the generation of small lumps, a uniform extrudate cannot be obtained. Based on these facts, the extrusion temperature was adjusted by adding a crosslinking accelerator (
The temperature range is the same as in the case of melt-kneading described above, regardless of whether the compound is added or not.

以上のいずれの場合でも、肉薄物を製造した後、肉薄物
間または肉薄物と引取ロールなどとの接着を防止するた
めに水冷ロールまたは水槽中に急冷させることによって
透明性の良好な肉薄物が得られる。このようにして得ら
れる肉薄物の厚さは3ミクロンないし5mm未満であり
、柔軟性および絶縁性を考慮すると、10ミクロンない
し 1a+mが望ましく、とりわけ10ミクロンないし
400ミクロンが好適である。
In any of the above cases, after manufacturing the thin-walled objects, the thin-walled objects with good transparency are made by rapidly cooling them in a water-cooling roll or a water bath to prevent adhesion between the thin-walled objects or between the thin-walled objects and a take-up roll. can get. The thickness of the thin-walled material thus obtained is from 3 microns to less than 5 mm, preferably from 10 microns to 1a+m, particularly preferably from 10 microns to 400 microns, taking into account flexibility and insulation.

(F)加熱・加圧処理 前記のようにして得られる肉薄物は架橋がほとんど進行
していないために通常の肉薄物と同一の挙動を示す。該
肉薄物に後記の導電性金属箔と接着性および耐熱性を付
与するために100〜400°Cの範囲で加熱・加圧さ
せることが重要である。加熱温度が100〜180℃の
範囲では20〜30分、1130〜240℃の範囲では
10〜20分、240〜400℃の範囲では0.1〜l
O分加熱・加圧させることによって前記の樹脂内で架橋
反応(縮合反応)が起り、耐熱性が著しく向上する。
(F) Heat/pressure treatment The thin-walled product obtained as described above exhibits the same behavior as a normal thin-walled product because crosslinking has hardly progressed. In order to impart adhesion and heat resistance to the conductive metal foil described below to the thin material, it is important to heat and pressurize it in the range of 100 to 400°C. 20 to 30 minutes when the heating temperature is in the range of 100 to 180 °C, 10 to 20 minutes in the range of 1130 to 240 °C, and 0.1 to 1 when the heating temperature is in the range of 240 to 400 °C
By heating and pressurizing the resin, a crosslinking reaction (condensation reaction) occurs within the resin, and the heat resistance is significantly improved.

本発明によって得られる肉薄物は100℃以上の温度で
熱圧着性(接着性)を示すために架橋処理と同時に導電
性金属箔と接着を行なうことによって本発明の効果が一
層広がる。すなわち、エチレン−アクリル酸共重合体お
よび/またはエチレン−メタクリル酸共重合体とエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体のけん化物との混合物が250
℃以下の温度で熱可塑性を示すが、該混合物を160℃
以−ヒに加熱・加圧処理させることによって架橋反応さ
れ、肉薄物と金属箔と接着し、さらに耐熱性のすぐれた
積層物を得ることができる。
Since the thin-walled article obtained by the present invention exhibits thermocompression adhesion (adhesiveness) at a temperature of 100° C. or higher, the effects of the present invention are further enhanced by bonding it to a conductive metal foil at the same time as the crosslinking treatment. That is, a mixture of an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer is
The mixture exhibits thermoplasticity at temperatures below 160°C.
By subsequently subjecting the material to heat and pressure treatment, a crosslinking reaction occurs, and a laminate that adheres to the thin material and the metal foil and has excellent heat resistance can be obtained.

(G)金属箔 本発明において使われる金属箔の厚さは一般に3〜40
0 ミクロンであり、 3〜100 ミクロンのものが
望ましく、とりわけ3〜50ミクロンのものが好適であ
る。金属箔の金属としては、銅、ニッケル、アルミニウ
ム、銀および金のごとき導電性金属ならびにこれらの金
属を主成分とする合金が好ましく、特に厚さが15〜4
0ミクロンの圧延鋼箔、電解銅箔が好んで使用すること
ができる。さらに最近の高密度化にともない、3〜lO
ミクロンのものが開発されており、この超極薄金属箔も
好適に使うことができる。
(G) Metal foil The thickness of the metal foil used in the present invention is generally 3 to 40 mm.
0 microns, preferably 3 to 100 microns, particularly 3 to 50 microns. As the metal of the metal foil, conductive metals such as copper, nickel, aluminum, silver, and gold, and alloys mainly composed of these metals are preferable, and in particular, conductive metals with a thickness of 15 to 4
0 micron rolled steel foil and electrolytic copper foil can be preferably used. Furthermore, with the recent increase in density, 3~1O
A micron metal foil has been developed, and this ultra-thin metal foil can also be suitably used.

(H)無電解メッキ ー・般的に無電解メッキ、すなわち化学メッキとして、
ニッケルメッキ、高耐食性亜鉛・ニッケル合金メッキ、
銅メッキなどが知られているが、ブ・リント配線基板用
としては処理液の触れるすべての表面に厚さが均一であ
り、かつ緻密なメッキ被膜が得られる素材(基板)とメ
ッキ被膜との間に抜群の密着性、延性をもつものとして
硫酸銅メッキが通常実用化されている。この硫酸銅メッ
キによれば、結晶が微細でレベリング(均一の厚さ)を
付与するとともに、安定した作業性とすぐれた物理的特
性を有しているものが得られる。
(H) Electroless plating - generally known as electroless plating, i.e. chemical plating,
Nickel plating, highly corrosion resistant zinc/nickel alloy plating,
Copper plating is well known, but for printed wiring boards, it is best to use a combination of material (substrate) and plating film that has a uniform thickness on all surfaces that come into contact with the processing solution and that provides a dense plating film. Copper sulfate plating is usually put into practical use because it has excellent adhesion and ductility. According to this copper sulfate plating, it is possible to obtain a product having fine crystals, leveling (uniform thickness), stable workability, and excellent physical properties.

一般に、硫酸銅メッキは液中に金属銅を供給し、液の電
導性と均一電着性を高めるために硫酸銅および硫酸が使
われる。さらに、塩素イオン(触媒として)および適量
の光沢剤が用いられる。また、レベリングを増進させる
ためにポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン誘導
体を用いることもある。代表的な組成は11の水溶液中
に5〜40g(7)硫酸銅(CuSOa −5820)
を添加させ、さらにp)!調整剤(緩衝剤)としてたと
えば苛性ソーダ(NaOH)、塩化アンモニウム(NH
2Cl)などが使われ、また水溶液中での銅の異常析出
を防止するだめにたとえばEDTA−2Na (エチレ
ンジアミン四酢酸のナトリウム塩)、さらに還元剤とし
てホルマリン(HC:HO)が添加される。さらに、こ
れらの化学(無電解)メッキの導通面(路)に銅、ニッ
ケル、金などの金属を電気メッキをほどこして表面保護
、腐食防出を行なったり、また半田浴を通して導通路の
上に半田をのせることも可能である。
Generally, in copper sulfate plating, copper sulfate and sulfuric acid are used to supply metallic copper into the solution and improve the conductivity and uniform electrodeposition of the solution. Additionally, chloride ions (as a catalyst) and appropriate amounts of brighteners are used. Additionally, polyoxyethylene and polyoxypropylene derivatives may be used to enhance leveling. A typical composition is 5 to 40 g (7) of copper sulfate (CuSOa-5820) in an aqueous solution of 11.
and further p)! As a conditioning agent (buffer), for example, caustic soda (NaOH), ammonium chloride (NH
For example, EDTA-2Na (sodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid) and formalin (HC:HO) are added as a reducing agent to prevent abnormal precipitation of copper in an aqueous solution. In addition, metals such as copper, nickel, and gold are electroplated on the conductive surfaces (paths) of these chemical (electroless) plated plates to protect the surface and prevent corrosion. It is also possible to apply solder.

(J)回路形成方法 本発明のプリント配線基板の製造方法については種々の
方法がある。代表的な方法として、銅箔を積層された板
状物に穴あけ加工を施した後にスルーホール内に無電解
銅メッキによって銅の薄膜を形成し、その後全面を電解
銅メッキによって穴内壁が規定の銅メッキの厚さになる
ようにメツキイ1をし、メッキ材した後、レジストメッ
キ、有機レジストによって回路を形成させ、それ以外の
不要の銅をエツチングさせることによって除去するパネ
ルメッキ法、また穴あけを行なった後、無電解銅メッキ
、電気銅メッキによってスルーホール穴に銅箔のfil
l!を形成させ、次にパターン部分を残して残部を有機
レジストでカバーし、回路部分を電気銅メッキで規定の
銅メッキの厚さに形成させ、その七にエツチングに耐え
る電気メッキを行ない、その後有機レジストを除去して
メツキレシストをエツチングのレジストとして不要の銅
をエツチングによって溶解除去するパターンメッキ法、
さらには前記パネルメッキ法と同一の方法でスルーホー
ルメッキを形成させた後、有機感光性フィルムでポジパ
ターンを形成させ、この感光性フィルムによってスルー
ホール穴の両側よす穴を密封してエツチングによって不
要銅箔を除去するさいにエツチング液が侵入してスルー
ホール穴のメッキを腐食しないように保護するテンティ
ング法などがあげられ、これらの方法によってスルーホ
ールメッキプリント基板を製造することができる。
(J) Circuit Formation Method There are various methods for manufacturing the printed wiring board of the present invention. A typical method is to drill a hole in a plate-shaped object laminated with copper foil, then form a thin copper film in the through hole by electroless copper plating, and then electrolytically plate the entire surface of the hole so that the inner wall of the hole meets the specified specifications. A panel plating method is used in which a metal key 1 is applied to the thickness of the copper plating, a plating material is applied, a circuit is formed using resist plating or an organic resist, and other unnecessary copper is removed by etching. After that, a copper foil film is applied to the through hole by electroless copper plating or electrolytic copper plating.
l! Next, leaving the pattern part and covering the rest with an organic resist, electrolytic copper plating is applied to the circuit part to a specified copper plating thickness, then electroplating is applied to resist etching, and then an organic resist is applied. A pattern plating method in which the resist is removed and the resist is used as an etching resist to dissolve and remove unnecessary copper by etching.
Furthermore, after forming through-hole plating using the same method as the panel plating method described above, a positive pattern is formed using an organic photosensitive film, the holes on both sides of the through-hole are sealed with this photosensitive film, and then etching is performed. Examples include the tenting method, which protects the plating of the through-hole holes from corrosion due to the intrusion of an etching solution when removing unnecessary copper foil, and through-hole plated printed circuit boards can be manufactured by these methods.

本発明において使われる[エチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体なら
びにエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からなる
混合物の架橋物」 (以下、rE−E樹脂」と云う)は
スルーホール部・ンキでの無電解銅の密着強度がすぐれ
ているために通常のガラス−エポキシ液、紙−フェノー
ル液、さらにはポリイミドフィルム、ポリエステルフィ
ルムなどの銅張基板に比べて精密パターンが可能であり
、多量生産を行なったとしても、安定した品質を有する
製品が得られる。また、該E−E樹脂は柔軟であるため
に穴あけ加工が容易であり、ヒゲの発生もなく、メッキ
の厚ネおよび精度も均一にさせることができる。さらに
、柔軟性を必要としない分野においては、通常のガラス
基布を中間層に積層させることなどによって硬度、寸法
変化を改良させる方法も採用することができる。これら
の方法は本質的に本発明の無電解メッキの密着性を低下
させることはない。
[Crosslinked product of a mixture consisting of saponified products of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer] (hereinafter referred to as rE-E resin) used in the present invention Because of the superior adhesion strength of electroless copper in the through-hole area and the plate, it is possible to achieve precision compared to copper-clad substrates such as ordinary glass-epoxy liquid, paper-phenol liquid, and even polyimide film and polyester film. Patterns are possible, and even when mass-produced, products with stable quality can be obtained. Furthermore, since the E-E resin is flexible, it is easy to drill holes, there is no occurrence of whiskers, and the thickness and precision of the plating can be made uniform. Furthermore, in fields that do not require flexibility, it is also possible to adopt a method of improving hardness and dimensional change by laminating an ordinary glass base fabric as an intermediate layer. These methods do not essentially reduce the adhesion of the electroless plating of the present invention.

CK)プリント配線板 以下、本発明によって得られるプリント配線基板を図面
を用いて説明する。後記の図面はエツチドホイール法の
うちの代表例の一つであり、この方法以外のパネルメッ
キ法、パターンメッキ法、テンテチイング法などについ
ても同様に行なうことができるもはもちろんのことであ
る。
CK) Printed wiring board The printed wiring board obtained by the present invention will be described below with reference to the drawings. The drawings shown below are representative examples of the etched wheel method, and it goes without saying that other methods such as panel plating, pattern plating, and tent etching can also be used.

第1図は両面銅張り基板の代表例の一部の拡大断面図で
ある。また、第2図はスルーホール用に穴をあけた部分
に無電解銅メッキ被膜を形成させた両面スルーホール基
板の代表例の一部の拡大断面図である。さらに、第3図
は第2図にポジパターンを形成させた後、エツチングを
行なって不要の銅を取り除いた、いわゆる回路が形成さ
れた基板の代表例の一部の拡大断面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of a portion of a typical example of a double-sided copper-clad board. Further, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which an electroless copper plating film is formed on the portion where a hole is made for a through-hole. Further, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a part of a typical example of a circuit board on which a so-called circuit is formed, after forming a positive pattern as shown in FIG. 2, etching is performed to remove unnecessary copper.

第1図ないし第3図において、lはE−E樹脂の肉薄物
であり、2は銅箔である。また、3はスルーホール部で
あり、4は無電解メッキによって得られた導電性金属膜
である。
In FIGS. 1 to 3, 1 is a thin material made of E-E resin, and 2 is a copper foil. Further, 3 is a through hole portion, and 4 is a conductive metal film obtained by electroless plating.

[VI]実施例および比較例 以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
[VI] Examples and Comparative Examples The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

なお、実施例および比較例において、耐熱性のテストは
得られたフィルムをUL 7!113 (プリント配線
板)7.1図に示されたテストパターンをもった基板を
300°Cに保持された鉛/錫= 90710(重量比
)であるハンダ浴に180秒浮べて評価した。なお、第
1表に評価を下記のように示す。
In addition, in the Examples and Comparative Examples, the heat resistance test was carried out using a substrate having the test pattern shown in UL 7!113 (Printed Wiring Board) 7.1 shown in Figure 7.1, which was held at 300°C. It was evaluated by floating it in a solder bath with a lead/tin ratio of 90,710 (weight ratio) for 180 seconds. The evaluation is shown in Table 1 as follows.

○:現形のまま変化せず ×・導体回路と樹脂層との間において、剥離、ひび割れ
、分裂などの変化がみられた 実施例 1〜4、比較例 1.2 メルトフローインデ・ソクス(JIS K−8760ニ
L タがい、温度が190℃および荷重が2.18kg
の条件で測定、以下rM、1.Jと云う)が300 g
 / 10分であるエチレン−アクリル酸共重合体(密
度0.954 g/ c m’、アクリル酸共重合割合
20重量%)100重量部および酢酸ビニル共重合割合
が28重量%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体をけ
ん化させることによって得られるけん化物(けん化度8
7.5%、M、’1.75g/10分、密度0.951
 g / c nf )100重量部をヘンシェルミキ
サーを使って5分間トライブレンドを行なった。得られ
た混合物E以下「混合物(A)」と云うlをT−ダイを
備えた押出機(径40LI1m 、ダイス幅30cm 
、回転数85回転/分)を用いてシリンダ一温度がc1
=ioo°C,C2=120℃およびC3=140℃お
よびダイス温度が160°Cの条件でフィルム(厚さ 
100ミクロン)を成形し、20℃に水冷されたロール
に巻きつけた(実施例 1〜4、比較例 1,2)。ま
た、混合物(A)を製造するさいに用いたエチレン−ア
クリル酸共重合体のかわりに、M、T、が200g/1
0分であるエチレン−メタクリル酸共重合体(密度0.
950g / c m’、メタクリル酸共重合割合25
重量%)使ったほかは、混合物(A)と同様に混合物[
以下「混合物(B)」と云うJを製造した。得られた混
合物を前記と同様にフィルムを製造した(実施例 4)
。さらに、実施例1において使用したエチレン−アクリ
ル酸共重合体(以下r EAAJ と云う。比較例 l
)およびエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物(以
下「けん化物」と云う。比較例 2)を前記と同様にフ
ィルムを製造した。
○: No change in the current form ×・Changes such as peeling, cracking, and splitting were observed between the conductor circuit and the resin layer Examples 1 to 4, Comparative Examples 1.2 Melt Flow Index (JIS) K-8760N, temperature is 190℃ and load is 2.18kg
Measured under the following conditions: rM, 1. J) is 300 g
100 parts by weight of ethylene-acrylic acid copolymer (density 0.954 g/cm', acrylic acid copolymerization ratio 20% by weight) and ethylene-acetic acid having a vinyl acetate copolymerization ratio of 28% by weight. Saponified product obtained by saponifying vinyl copolymer (saponification degree 8
7.5%, M, '1.75g/10min, density 0.951
g/cnf) was triblended for 5 minutes using a Henschel mixer. The obtained mixture E, hereinafter referred to as "mixture (A)", was transferred to an extruder equipped with a T-die (diameter: 40 LI 1 m, die width: 30 cm).
, the rotation speed is 85 revolutions/min), and the temperature of the cylinder is c1.
= ioo°C, C2 = 120°C and C3 = 140°C and the die temperature is 160°C.
(Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 and 2). Also, instead of the ethylene-acrylic acid copolymer used in producing the mixture (A), M and T were added at 200 g/1
Ethylene-methacrylic acid copolymer (density 0.0 minutes)
950g/cm', methacrylic acid copolymerization ratio 25
The mixture [wt%] was used in the same manner as the mixture (A) except that
J, hereinafter referred to as "mixture (B)", was produced. A film was produced from the obtained mixture in the same manner as above (Example 4)
. Furthermore, the ethylene-acrylic acid copolymer (hereinafter referred to as rEAAJ) used in Example 1. Comparative Example l
) and a saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer (hereinafter referred to as "saponified product", Comparative Example 2) were used to produce a film in the same manner as described above.

このようにして得られた各フィルムを320℃でそれぞ
れlO分熱プレス機を用いてそれぞれ20kg/cm’
(ゲージ圧)の加圧下で電解銅箔(厚さ 17ミクロン
)を第1図に示されるように両面に接着積層し、架橋を
行ない(厚さを第1表に示す)、両面銅箔積層板を作成
した。
Each film thus obtained was heated to 20 kg/cm' using a heat press for 10 minutes at 320°C.
Under pressure (gauge pressure), electrolytic copper foil (thickness: 17 microns) was adhesively laminated on both sides as shown in Figure 1, crosslinked (thickness is shown in Table 1), and both sides were laminated with copper foil. Created a board.

得られた積層板にドリルを使って径が0.5■園および
1.0m+sのスルーホール穴をあけ、下記の組成の無
電解銅メッキ液で72℃でメッキをスルーホール部で行
ない、膜厚が約20ミクロンの銅メッキ膜を製造した。
A through-hole hole with a diameter of 0.5mm and 1.0m+s was drilled in the obtained laminate using a drill, and the through-hole area was plated with an electroless copper plating solution having the following composition at 72°C to form a film. A copper plating film approximately 20 microns thick was produced.

Cu5Oa 争 5H2010g EDTA ・2Na Φ2H2030gHCHO(38
%) 3mJL NaOH12g メッキ終了後、水洗した後に乾燥を行なった。
Cu5Oa 5H2010g EDTA ・2Na Φ2H2030gHCHO(38
%) 3 mJL NaOH 12 g After completion of plating, the plate was washed with water and then dried.

ついで、スクリーン印刷機を用いて回路部分をマスキン
グして通常の方法で回路以外のところをエツチングによ
って取り除いて回路を形成した。
Next, a circuit was formed by masking the circuit portion using a screen printing machine and etching away parts other than the circuit using a conventional method.

得られた回路形成された基板の耐熱テストを行なった。A heat resistance test was conducted on the obtained circuit-formed substrate.

それらの結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第1表 これらの結果から、本発明によって得られるプリント配
線板は、非常に回路密度が高いのみならず、さらに耐熱
性がすぐれており、しかも柔軟な高品質プリント配線板
であることがわかったみ
Table 1 From these results, it was found that the printed wiring board obtained by the present invention not only has a very high circuit density, but also has excellent heat resistance and is a flexible, high-quality printed wiring board. fruit

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は両面銅張り基板の代表例の一部の拡大断面図で
ある。また、第2図はスルーホール用に穴をあけた部分
に無電解銅メッキ被膜を形成させた両面スルーホール基
板の代表例の一部の拡大断面図である。さらに、第3図
は第2図にポジパターンを形成させた後、エツチングを
行なって不要の銅を取り除いた、いわゆる回路が形成さ
れた基板の代表例の一部の拡大断面図である。 l・・・E−E樹脂の肉薄。 2・・・銅箔、 3・・・スルーホール部、 4・・・無電解メッキによって得られた導電性金属膜特
許出願人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 菊地精− 第2図 第3図
FIG. 1 is an enlarged sectional view of a portion of a typical example of a double-sided copper-clad board. Further, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which an electroless copper plating film is formed on the portion where a hole is made for a through-hole. Further, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a part of a typical example of a circuit board on which a so-called circuit is formed, after forming a positive pattern as shown in FIG. 2, etching is performed to remove unnecessary copper. l... Thin wall of E-E resin. 2... Copper foil, 3... Through-hole portion, 4... Conductive metal film obtained by electroless plating Patent applicant Showa Denko K.K. Representative Patent attorney Sei Kikuchi - Figure 2, Figure 3 figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (^)(1)エチレン−アクリル酸共重合体および/ま
たはエチレン−メタクリル酸共重合体ならびに (2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物であり、該混合物中に占めるエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体の混合割合は20〜80重量%であり、この混合
物を250℃以下の温度でフィッシュアイが生じない条
件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄物を 100℃な
いし400°Cの温度において加熱中加圧させることに
よって得られる架橋物 ならびに (B)導電性金属箔 からなる積層物のスルーホール部に無電解メッキまたは
無電解メッキおよび電気メッキを行なうことを特徴とす
るプリント配線基板。
[Claims] (^) A mixture consisting of (1) an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer, The proportion of the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in the mixture is 20 to 80% by weight, and the mixture is mixed at a temperature of 250°C or less under conditions that do not cause fish eyes. A crosslinked product obtained by extruding into a thin shape and pressurizing the resulting thin product while heating at a temperature of 100°C to 400°C, and (B) electroless plating on the through-hole portion of a laminate made of conductive metal foil. Or a printed wiring board characterized by electroless plating or electroplating.
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