JPS60226192A - Printed circuit board - Google Patents

Printed circuit board

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Publication number
JPS60226192A
JPS60226192A JP8193284A JP8193284A JPS60226192A JP S60226192 A JPS60226192 A JP S60226192A JP 8193284 A JP8193284 A JP 8193284A JP 8193284 A JP8193284 A JP 8193284A JP S60226192 A JPS60226192 A JP S60226192A
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JP
Japan
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ethylene
acid copolymer
plating
thin
acrylic acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP8193284A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
前田 正彦
員也 永田
斉藤 泰旻
大谷 武次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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Publication of JPS60226192A publication Critical patent/JPS60226192A/en
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [1]発明の目的 本発明は積層配線基板を製造するさい、銅箔のかわりに
無電解メッキまたは電解メッキを行なうことによって絶
縁肉薄物の表面に導電性回路を形成するいわゆるフルー
アディティブ法によるプリント基板であり、特にフォト
レジストを用いたフル・アディティブ法に適したもので
ある。さらにくわしくは、(A)(+)エチレン−アク
リル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸
共重合体ならびに(2)エチレン−酢酸ビニル共重合体
のけん化物からなる混合物を250°C以下の温度でフ
ィッシュアイが生じない条件下で肉薄状に押出し、得ら
れる肉薄物を100°Cないし400°Cの温度におい
て加熱・加圧させることによって得られる肉薄物に(B
) fi電解メッキまたは無電解メッキおよび電解メッ
キを行なって上記肉薄物の表面に200ミクロン以下の
導体回路を形成させてなるプリント配線板に関するもの
であり、耐熱性が良好であるのみならず、柔軟性に富む
プリント配線板を提供することを目的とするものである
[Detailed Description of the Invention] [1] Purpose of the Invention The present invention is directed to forming a conductive circuit on the surface of a thin insulating material by performing electroless plating or electrolytic plating instead of copper foil when manufacturing a laminated wiring board. This is a printed circuit board manufactured using the so-called full additive method, and is particularly suitable for the full additive method using photoresist. More specifically, a mixture consisting of a saponified product of (A) (+) ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) ethylene-vinyl acetate copolymer is heated at 250°C or less. A thin-walled product obtained by extruding the thin-walled product under conditions that do not cause fish eyes at a temperature and heating and pressurizing the obtained thin-walled product at a temperature of 100°C to 400°C (B
) This relates to a printed wiring board in which a conductor circuit of 200 microns or less is formed on the surface of the above-mentioned thin material by electrolytic plating, electroless plating, and electrolytic plating, and it not only has good heat resistance but also flexibility. The purpose of this invention is to provide a printed wiring board with rich characteristics.

[II ]発明の背景 最近の電子機器は小型化、軽量化、薄形化、高密度実装
化が急速に進められている。特に、プリント配線板はラ
ジオなどの民生機器用として商品化されはじめ、現在で
は量産性、高信頼性に支えられて電話機、電算機などの
産業機器用として用途を拡大している。
[II] Background of the Invention Recent electronic devices are rapidly becoming smaller, lighter, thinner, and more densely packaged. In particular, printed wiring boards began to be commercialized for consumer equipment such as radios, and are now being used in industrial equipment such as telephones and computers, supported by mass production and high reliability.

特に、フレキシブルプリント配線板は当初電線、ケーブ
ルの代替として使用されてきたが、可撓性があるために
狭い空間に立体的に高密度実装することができるのみな
らず、繰り返し屈曲に酎え得るために電子機器の可動部
への配線、ケーブル、コネクター機能を付与した複合部
品としてその用途が拡大されつつある。
In particular, flexible printed wiring boards were initially used as an alternative to electric wires and cables, but due to their flexibility, they can not only be mounted three-dimensionally at high density in a narrow space, but also can be repeatedly bent. Therefore, its use is expanding as a composite component that provides wiring, cable, and connector functions for the moving parts of electronic devices.

現在、カメラ、電気卓上針li機、電話機、プリンター
などの機器内立体配線材料として用いられているものは
、厚さが約25ミクロンのポリイミドまたはポリエステ
ルのフィルムの両面または片面ニ35ミクロンの電解銅
箔を接着したフレキシブル銅張板を使用した配線パター
ンを形成したものである。この配線パターンにスルホー
ルメッキを施し、さらに両面および外層にカバーレイ被
覆を行なったものも用いられている。
Currently, the materials used as three-dimensional wiring materials in devices such as cameras, electric desktop devices, telephones, and printers are electrolytic copper with a thickness of 35 microns on both sides or one side of a polyimide or polyester film with a thickness of about 25 microns. The wiring pattern is formed using a flexible copper-clad board with foil bonded to it. A wiring pattern in which through-hole plating is applied, and both sides and the outer layer are coated with a coverlay is also used.

現在のフレキシブルプリント配線基板は基材としてポリ
イミドまたはポリエステル樹脂のフィルムが一般に使わ
れているが、ポリエステル樹脂では、吸水率が高く、2
0℃ないし250°Cにおける熱膨張係数も大きいため
、スルホール接続信頼性に欠ける。さらに、製造するさ
いに170℃において蒸気プレスによる硬化を行なうこ
ともあり、多層化する場合に樹脂間の接着性が低下する
ばかりでなく、可撓性も低下する傾向がある。
Current flexible printed wiring boards generally use polyimide or polyester resin films as the base material, but polyester resin has a high water absorption rate and
Since the coefficient of thermal expansion is large between 0° C. and 250° C., through-hole connection reliability is lacking. Furthermore, during production, curing is sometimes carried out by steam press at 170° C., which tends not only to reduce adhesiveness between resins but also to reduce flexibility when multi-layered.

一方、ポリイミドフィルムは通常の半田施工温度(26
0°C以上)で容易に半田接続を行なうことができると
いう利点があるが、表面活性が乏しいために金属箔との
接着が非常に難しいという欠点がある。この接着性を解
決するために一般的には苛性ソーダ、クロム酸混液、水
酸化アルミニウムなどを用いて化学的処理をする方法な
どによってフィルムの表面に施した後に接着剤を使って
接着する方法が行なわれている。しかし、これらの方法
で接着を行なったとしても、プリント基板として充分な
接着性を有するものが得られず、耐薬品性、耐熱性など
が劣るため、エツチング処理や/\ンダフローなどによ
って銅箔浮きが発生するなどの欠点がある。
On the other hand, polyimide film is soldered at the normal soldering temperature (26
Although it has the advantage that solder connection can be easily performed at temperatures above 0°C, it has the disadvantage that it is extremely difficult to bond with metal foil due to poor surface activity. To solve this problem of adhesion, the general method is to apply a chemical treatment using caustic soda, a chromic acid mixture, aluminum hydroxide, etc. to the surface of the film, and then bond it with an adhesive. It is. However, even if these methods are used for adhesion, it is not possible to obtain a printed circuit board with sufficient adhesion, and the chemical resistance and heat resistance are poor. There are disadvantages such as the occurrence of

さらに、耐熱性がすぐれた熱硬化性接着剤(たとえば、
エポキシ樹脂)を使用して金属箔と接着する方法では、
接着剤を塗布したポリイミドフィルムを金属箔と重ね合
わせ、プレス機で1〜20時間程時間熱・加圧して硬化
させる必要があり、生産性、量産性、コストなどの点に
おいて問題がある。
In addition, thermosetting adhesives with excellent heat resistance (for example,
In the method of bonding with metal foil using epoxy resin,
It is necessary to overlap a polyimide film coated with an adhesive with a metal foil and heat and pressurize it in a press for about 1 to 20 hours to cure it, which poses problems in terms of productivity, mass production, cost, etc.

プリント配線基板(プリント回路基板)を製造する方法
においても、従来の銅張積層板のエツチング法にかわっ
てプラスチックへのメ・ンキ技術を応用して回路を樹脂
板の上に無電解メッキで直接描くアディティブ法、さら
にはこのメッキとエツチング法とを併用したサブストラ
ッテイブ法が用いられるようになった。このアディティ
ブ法が普及してきた原因は、アディティブ法が多量少品
種型の樹脂積層板のスルホールおよびパターンメッキを
同時に形成する有効な方法に起因するからであり、また
ここ数年逆パターンレジストインクなどの性能が向上し
、高度のファインラインが得られるようになった。最近
では、紫外線を直接フォトマスクを通して接着層に混入
した光反応触媒に当てて金属核を析出させ、無電解メッ
キをかけるレジストレスの方法も開発されている。
In the method of manufacturing printed wiring boards (printed circuit boards), instead of the conventional etching method for copper-clad laminates, we apply coating technology to plastics to directly plate circuits onto resin boards by electroless plating. Additive drawing methods and substrative methods that combine plating and etching have come into use. The reason why this additive method has become popular is that it is an effective method for simultaneously forming through-holes and pattern plating for high-volume, low-mix resin laminates. The performance has been improved and it is now possible to obtain highly fine lines. Recently, a resistless method has also been developed in which ultraviolet rays are directly applied to a photoreaction catalyst mixed in the adhesive layer through a photomask to precipitate metal nuclei and electroless plating is performed.

しかし、これらのアディティブ法において使われている
従来の紙−フェノール樹脂、ガラス会エポキシ樹脂、ポ
リイミド系樹脂の基板においてはメッキ膜との接着性が
良くないため、ふくれ、剥離などが生じたり、厚さ方向
の熱膨張率が太きいる。また、多層板の穴あけ加工では
、スミアの発生があり、メッキとの接続を妨げたりする
ことによって接続信頼性を低下させているのが現状であ
る。さらに、エツチングやメッキ工程では、種々の水溶
液または水洗用水が多量に使用されるために吸湿時の寸
法変化が小さいことも重要な条件となっている。
However, the conventional paper-phenolic resin, glass-based epoxy resin, and polyimide resin substrates used in these additive methods do not have good adhesion to the plating film, resulting in blistering, peeling, etc. The coefficient of thermal expansion in the horizontal direction is large. Furthermore, when drilling holes in multilayer boards, smear occurs, which impedes the connection with the plating and reduces connection reliability. Furthermore, in etching and plating processes, large quantities of various aqueous solutions or washing water are used, so it is also an important condition that dimensional changes upon absorption of moisture be small.

[m1発明の構成 以上のことから、本発明者らは、これらの欠点を改良す
べく、耐熱性が良好であり、かつ電気絶縁性もすぐれた
プリント基板を得るべく種々探索した結果、 (A)(1)エチレン−アクリル酸共重合体および/ま
たはエチレン−メタクリル酸共重合体ならびに (2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物であり、該混合物中に占めるエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体の混合割合は20〜80重量%であり、この混合
物を250℃以下の温度でフィッシュアイが生じない条
件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄物を 100°C
ないし400℃の温度において加熱・加圧させることに
よって得られる肉薄物に(B)無電解メッキまたは無電
解メッキおよび電解メッキを行なって上記肉薄物の表面
に200ミクロン以下の導体回路 を形成させてなるプリント配線板が、 柔軟性がすぐれ、かつ耐久性が良好であるばかりでなく
、電気絶縁性についてもすぐれていることを見出し、本
発明に到達した。
[m1 Structure of the Invention Based on the above, the present inventors conducted various searches in order to improve these drawbacks and obtain a printed circuit board with good heat resistance and excellent electrical insulation properties, and as a result, (A ) A mixture consisting of saponified products of (1) ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) ethylene-vinyl acetate copolymer, and the ethylene-acrylic acid occupied in the mixture is The mixing ratio of the copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer is 20 to 80% by weight, and this mixture is extruded into a thin shape at a temperature of 250°C or lower under conditions that do not cause fish eyes. things at 100°C
(B) electroless plating or electroless plating and electrolytic plating to form a conductor circuit of 200 microns or less on the surface of the thin wall object obtained by heating and pressurizing at a temperature of 400 ° C. The inventors have discovered that a printed wiring board of the following types not only has excellent flexibility and durability, but also has excellent electrical insulation properties, and has thus arrived at the present invention.

[IV]発明の効果 本発明によって得られるプリント配線板はその製造工程
も含めて下記のごとき効果(特徴)を発揮する。
[IV] Effects of the invention The printed wiring board obtained by the invention exhibits the following effects (characteristics) including its manufacturing process.

(1) エポキシ系樹脂のごとき熱硬化性樹脂の接着剤
を使用しないために接着の工程が省略するばかりか、そ
の工程に附随する煩雑さく乾燥など)もない。
(1) Since no thermosetting resin adhesive such as epoxy resin is used, not only the adhesion process is omitted, but also the complicated drying process that accompanies that process is eliminated.

(2) 電気的特性(たとえば、絶縁性、耐電圧、M電
正接性能)がすぐれている。
(2) Excellent electrical properties (for example, insulation, withstand voltage, M electric dissipation factor performance).

(3) 耐熱性が良好であり、250℃以−Lの温度に
おいても酎え得るのみならず、100℃以上の温度にお
いて加圧させることによって前記の接着剤を使用するこ
となく、無電解メッキまたは電解メッキによって導電性
金属薄膜を基板上に良好に接着させることができる。
(3) It has good heat resistance and can not only be plated at temperatures of 250°C or higher, but also can be electroless plated without using the adhesive by applying pressure at temperatures of 100°C or higher. Alternatively, a conductive metal thin film can be well adhered to a substrate by electrolytic plating.

(4) 柔軟性がすぐれている。(4) Excellent flexibility.

(5) とりわけ、本発明のフレキシブルプリント基板
の特徴は従来用いられているポリイミドフィルムおよび
ポリエステルフィルムを単独に使用した場合に比べ、後
記のごとく比較的高温(200°C以上)において架橋
処理を行なうために寸法安定性がすぐれているのみなす
、高温においてもメッキ層との接着性が良好であり、さ
らに密着性も良く、残留ボイドも極めて少ない。
(5) In particular, the flexible printed circuit board of the present invention is characterized in that the crosslinking process is performed at a relatively high temperature (200°C or higher) as described below, compared to the case where conventionally used polyimide films and polyester films are used alone. Therefore, it is considered to have excellent dimensional stability, has good adhesion to the plating layer even at high temperatures, has good adhesion, and has extremely few residual voids.

以上のごとく、本発明のプリント配線板に要求される絶
縁抵抗、誘電率などの電気的特性はもちろんのこと、寸
法安定性、耐熱性、耐薬品性、耐湿性などが良好である
ばかりか、フレキシブル基板における耐折性は従来得ら
れなかったフレギシビリティーを示す。また、メッキ処
方による導電性金属薄膜との接着性については、熱圧着
によって比較的高温(約360℃)まで良い接着性を示
すなどの特徴を有する。
As described above, the printed wiring board of the present invention not only has good electrical properties such as insulation resistance and dielectric constant, but also has good dimensional stability, heat resistance, chemical resistance, moisture resistance, etc. The bending durability of flexible substrates exhibits flexibility that has not been previously available. Furthermore, the adhesion to the conductive metal thin film due to the plating recipe is characterized by good adhesion even at relatively high temperatures (approximately 360° C.) by thermocompression bonding.

[V]発明の詳細な説明 (A)エチレンルアクリル酸共重合体およびエチレン−
メタクリル酸共重合体 本発明において使用されるエチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体はエ
チレンとアクリル酸またはエチレンとメタクリル酸とを
高圧(一般には、50kg/c m’以上、好適には1
00kg/ c rn’以上)においてフリーラジカル
発生剤(通常、有機過酸化物)の存在下で共重合させる
ことによって得られるものである。これらの々の物性に
ついてはよく知られているものである。これらの共重合
体のアクリル酸またはメタクリル酸の共重合割合はそれ
ぞれ1〜50重量%であり、5〜50重量%が望ましい
[V] Detailed description of the invention (A) Ethylene acrylic acid copolymer and ethylene-
Methacrylic Acid Copolymer The ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer used in the present invention is prepared by combining ethylene and acrylic acid or ethylene and methacrylic acid at high pressure (generally 50 kg/cm' Above, preferably 1
00 kg/c rn' or more) in the presence of a free radical generator (usually an organic peroxide). The physical properties of each of these are well known. The copolymerization ratio of acrylic acid or methacrylic acid in these copolymers is 1 to 50% by weight, preferably 5 to 50% by weight.

これらの共重合体のアクリル酸またはメタクリル酸の共
重合割合が1重量%未満では、均一な薄肉物を得ること
ができない。一方、50重量%を越えると、軟化点が低
くなり過ぎ、取り扱いおよび輸送が不便になる。
If the copolymerization ratio of acrylic acid or methacrylic acid in these copolymers is less than 1% by weight, a uniformly thin product cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 50% by weight, the softening point will be too low, making handling and transportation inconvenient.

(B)エチμ・ンー酢酸ビニル共重合体のけん化物また
、本発明において使用されるエチレン−酢酸ビニル共重
合体のけん化物はエチレン−酢酸ビニル共重合体をけん
化(加水分解)させることによって得られる。加水分解
は一般にはメチルアルコール中で苛性ソーダを用いて行
なわれる。本発明のけん化物を製造するにあたり、通常
加水分解率が80%以上のものが望ましい。なお、原料
であるエチレン−酢酸ビニル共重合体はエチレンと酢酸
ビニルとを前記のエチレン−アクリル酸共重合体および
エチレン−メタクリル酸共重合体と同様な方法によって
共重合させることによって得られるものである。このエ
チレン−酢酸ビニル共重合体中の酢酸ビニルの共重合割
合は一般には 1〜60重量%であり、とりわけ5〜6
0重量%が好ましい。この共重合体の酢酸ビニルの共重
合割合が1重華%未満では、均一な薄肉物を得ることが
できない。一方、60重量%を越えると、軟化点が下が
り、室温における取り扱いが困難となる。
(B) Saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer Also, the saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer used in the present invention can be obtained by saponifying (hydrolyzing) the ethylene-vinyl acetate copolymer. can get. Hydrolysis is generally carried out using caustic soda in methyl alcohol. In producing the saponified product of the present invention, it is usually desirable to have a hydrolysis rate of 80% or more. The raw material ethylene-vinyl acetate copolymer is obtained by copolymerizing ethylene and vinyl acetate in the same manner as the ethylene-acrylic acid copolymer and ethylene-methacrylic acid copolymer described above. be. The copolymerization ratio of vinyl acetate in this ethylene-vinyl acetate copolymer is generally 1 to 60% by weight, particularly 5 to 6% by weight.
0% by weight is preferred. If the copolymerization ratio of vinyl acetate in this copolymer is less than 1% by weight, a uniformly thin product cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 60% by weight, the softening point decreases and handling at room temperature becomes difficult.

これらのエチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メ
タクリル酸共重合体およびエチレン−酢酸ビニル共重合
体のけん化物は工業的に生産され多方面にわたって利用
されているものであり、それらの製造方法についてもよ
く知られているものである。
Saponified products of these ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-methacrylic acid copolymers, and ethylene-vinyl acetate copolymers are industrially produced and used in a wide variety of fields, and we will discuss their manufacturing methods. is also well known.

(G)混合割合 本発明の混合物中に占めるエチレン−アクリル酸共重合
体および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体の混
合割合は20〜80重量%であり(すなわち、エチレン
−酢酸ビニル共重合体の混合割合は80〜20重量%で
ある)、25〜75重量%が好ましく、特に30〜70
重量%が好適である。これらの混合物中に占めるエチレ
ン−アクリル酸共重合体および/またはエチレン−メタ
クリル酸共重合体の混合割合が20重量%未満では、カ
ルボキシル基(−COOH)の数がヒドロキシル基(−
OH)に比較して少なくなるため、縮合反応に寄与しな
いヒドロキシル基が残存し、耐熱性が劣る。一方、80
重量%を越えると、逆に縮合反応に寄与するカルボキシ
ル基が多すぎるため、未反応基が残存し、耐熱性および
耐温性を改善しないため望ましくない。
(G) Mixing ratio The mixing ratio of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in the mixture of the present invention is 20 to 80% by weight (i.e., ethylene-vinyl acetate copolymer The mixing ratio is preferably 80-20% by weight), 25-75% by weight, particularly 30-70%
% by weight is preferred. If the mixing ratio of the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in these mixtures is less than 20% by weight, the number of carboxyl groups (-COOH) is lower than the hydroxyl group (-
OH), hydroxyl groups that do not contribute to the condensation reaction remain, resulting in poor heat resistance. On the other hand, 80
If it exceeds % by weight, on the contrary, there are too many carboxyl groups contributing to the condensation reaction, so that unreacted groups remain and heat resistance and temperature resistance are not improved, which is not desirable.

(D)混合方法 本発明の混合物を製造するには以上のエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物を均
一に混合させることによって達成することができる。混
合方法としては、オレフィン系重合体の分野において通
常行なわれているヘンシェルミキサーのごときの混合機
を用いてトライブレンドしてもよく、バンバリーミキサ
−、ニーダ−、ロールミルおよびスクリュ一式押出機の
ごとき混合機を使用して溶融混練させることによって得
ることができる。このさい、あらかじめトライブレンド
し、得られる混合物を溶融混練させることによって均−
状の混合物を製造することができる。なお、溶融混練す
るさいに使われるエチレン−アクリル酸および/または
エチレン−メタクリル酸共重合体が有するカルボン酸基
(−Cool)とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん
化物が有するヒドロキシル基(−0)1)が木質的に架
橋反応(縮合反応)せず、フィッシュアイが生じないこ
とが必要である(僅かに架橋してもよい)。このことか
ら、溶融温度はこれらのエチレン−アクリル酸共重合体
および/またはエチレン−メタクリル酸共重合体とエチ
レン−酢酸ビニル共重合体のけん化物が溶融する温度で
あるが、架橋反応が起らない(フィッシュアイが生じな
い)温度である。溶融温度は後期の架橋促進剤の配合の
南無ならびにそれらの種類および添加量によって異なる
が、架橋促進剤を配合しない場合では通常180°C以
下であり、特に100ないし150℃が好ましい。10
0℃未満では、これらの樹脂が完全に溶融されないため
に好ましくない。一方、架橋促進剤を添加(配合)する
場合では、一般には 14000以下であり、100°
C以上で実施される。
(D) Mixing method To produce the mixture of the present invention, the saponified products of the above ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer are uniformly mixed. This can be achieved by As a mixing method, tri-blending may be performed using a mixer such as a Henschel mixer, which is commonly used in the field of olefin polymers, or mixing may be performed using a mixer such as a Banbury mixer, kneader, roll mill, or screw extruder. It can be obtained by melt-kneading using a machine. At this time, the mixture is tri-blended in advance and the resulting mixture is melt-kneaded to create a homogeneous mixture.
mixtures can be produced. In addition, the carboxylic acid group (-Cool) possessed by the ethylene-acrylic acid and/or ethylene-methacrylic acid copolymer used during melt-kneading and the hydroxyl group (-0 ) It is necessary that 1) does not cause a crosslinking reaction (condensation reaction) in terms of wood quality and does not cause fish eyes (it may be slightly crosslinked). From this, the melting temperature is the temperature at which the saponified products of these ethylene-acrylic acid copolymers and/or ethylene-methacrylic acid copolymers and ethylene-vinyl acetate copolymers melt, but the crosslinking reaction does not occur. (no fish eyes occur). The melting temperature varies depending on the combination of crosslinking accelerators in the latter stage as well as their types and amounts added, but when no crosslinking accelerator is incorporated, it is usually 180°C or less, and 100 to 150°C is particularly preferable. 10
If the temperature is below 0°C, these resins will not be completely melted, which is not preferable. On the other hand, when a crosslinking accelerator is added (blended), it is generally 14,000 or less, and 100°
Conducted at C or above.

この混合物を製造するにあたり、オレフィン系重合体の
分野において一般に使われている酸素、光(紫外!I)
および熱に対する安定剤、金属劣化防1に剤、難燃化剤
、電気的特性改良剤、帯電防止剤、滑剤、加工性改良剤
ならびに粘着性改良剤のごとき添加剤を本発明の肉薄物
が有する特性(物性)を損なわない範囲で添加してもよ
い。さらに、エポキシ系化合物、P−)ルエンスルホン
酸およびAn−イソプロポキシドのごとき架橋促進剤を
添加させることによって前記のごと〈エチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体とエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物との
架橋を一層完結させることができる。添加量はこれらの
樹脂100重量部に対して通常多くとも0.1重量部(
好適には0.O1〜0.05重量部)である。
In producing this mixture, oxygen and light (ultraviolet!I) commonly used in the field of olefin polymers are used.
and additives such as heat stabilizers, metal deterioration inhibitors, flame retardants, electrical property improvers, antistatic agents, lubricants, processability improvers, and tack improvers. It may be added within a range that does not impair the properties (physical properties) it has. Furthermore, by adding a crosslinking accelerator such as an epoxy compound, P-)luenesulfonic acid, and An-isopropoxide, the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer Crosslinking of the ethylene-vinyl acetate copolymer with the saponified product can be further completed. The amount added is usually at most 0.1 part by weight per 100 parts by weight of these resins.
Preferably 0. 1 to 0.05 parts by weight).

(E)肉薄物の製造 本発明の肉薄物をフィルム状またはシート状として利用
する場合、熱可塑性樹脂の分野において一般に用いられ
ているT−グイフィルム、インフレーション法によるフ
ィルムを製造するさいに広く使用されている押出機を使
ってフィルム状ないしシート状に押出させることによっ
て薄状物を得ることができる。このさい、押出温度は2
50°C以下である。かりに、250℃を越えて押出す
と、エチレン−アクリル酸共重合体および/またはエチ
レン−メタ・グリル酸共重合体とエチレン−酢酸ビニル
共重合体のけん化物の一部が架橋し、ゲル状物の小塊が
発生することによって均−状の押出成形物が得られない
。これらのことから、押出温度は架橋促進剤を添加(配
合)する場合でも添加しない場合でも前記の溶融混練の
場合と同じ温度範囲である。
(E) Production of thin-walled products When the thin-walled products of the present invention are used in the form of a film or sheet, T-Guy film, which is commonly used in the field of thermoplastic resins, is widely used when producing films by the inflation method. A thin product can be obtained by extruding it into a film or sheet using a conventional extruder. At this time, the extrusion temperature is 2
The temperature is below 50°C. On the other hand, when extruded at temperatures exceeding 250°C, some of the saponified products of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-meth-glyric acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer crosslink, resulting in a gel-like structure. A uniform extrudate cannot be obtained due to the formation of small lumps of material. For these reasons, the extrusion temperature is in the same temperature range as in the case of melt-kneading described above, regardless of whether a crosslinking accelerator is added (blended) or not.

以上のいずれの場合でも、肉薄物を製造した後、肉薄物
間または肉薄物と引取ロールなどとの接着を防止するた
めに水冷ロールまたは水槽中に急冷させることによって
透明性の良好な肉薄物が得られる。このようにして得ら
れる肉薄物の厚さは3ミクロンないし5mm未満であり
、柔軟性および絶縁性を考慮すると、10ミクロンない
し 1ffl111が望ましく、とりわけ10ミクロン
ないし400ミクロンが好適である。
In any of the above cases, after manufacturing the thin-walled objects, the thin-walled objects with good transparency are made by rapidly cooling them in a water-cooling roll or a water bath to prevent adhesion between the thin-walled objects or between the thin-walled objects and a take-up roll. can get. The thickness of the thin-walled material thus obtained is from 3 microns to less than 5 mm, preferably from 10 microns to 1 ffl111, preferably from 10 microns to 400 microns, taking into account flexibility and insulation.

(F)加熱・加圧処理 前記のようにして得られる肉薄物は架橋がほとんど進行
していないために通常の肉薄物と同一の挙動を示す。該
肉薄物に前記の耐熱性を付与するために100〜400
℃の範囲で加熱・加圧させることが重要である。加熱温
度が100〜160°Cの範囲では20〜30分、18
0〜240℃の範囲では10〜20分、240〜400
℃の範囲では0.1〜10分加熱・加圧させることによ
って前記の樹脂内で架橋反応(縮合反応)が起り、耐熱
性が著しく向上する。
(F) Heat/pressure treatment The thin-walled product obtained as described above exhibits the same behavior as a normal thin-walled product because crosslinking has hardly progressed. 100 to 400 in order to impart the above-mentioned heat resistance to the thin-walled material.
It is important to heat and pressurize within the range of ℃. When the heating temperature is in the range of 100 to 160°C, 20 to 30 minutes, 18
10-20 minutes in the range of 0-240℃, 240-400℃
℃ range, by heating and pressurizing for 0.1 to 10 minutes, a crosslinking reaction (condensation reaction) occurs within the resin, and heat resistance is significantly improved.

すなわち、エチレン−アクリル酸共重合体および/また
はエチレン−メタクリル酸共重合体とエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体のけん化物との混合物が250°C以下の
温度で熱可塑性を示すが、該混合物を 160°C以上
に加熱・加圧処理させることによって架橋反応され、耐
熱性のすぐれた積層物を得ることができる。
That is, a mixture of an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer exhibits thermoplasticity at a temperature of 250°C or less; By heating and pressurizing the material to 160° C. or higher, a crosslinking reaction is carried out, and a laminate with excellent heat resistance can be obtained.

(G)無電解メッキ 一般的に無電解メッキ、すなわち化学メ・ンキとして、
ニッケルメッキ、高耐食性亜鉛・ニッケル合金メッキ、
銅メッキなどが知られているが、プリント配線基板用と
しては処理液の触れるすべての表面に厚さが均一であり
、かつ退室なメッキ被膜が得られる素材(基板)とメッ
キ被膜との間に抜群の密着性、延性をもつものとして硫
酸銅メッキが通常実用化されている。この硫酸銅メッキ
によれば、結晶が微細でレベリング(均一の厚さ)を付
与するとともに、安定した作業性とすぐれた物理的特性
を有しているものが得られる。
(G) Electroless plating Generally, electroless plating, that is, chemical coating,
Nickel plating, highly corrosion resistant zinc/nickel alloy plating,
Copper plating is known, but for printed wiring boards, it is necessary to use a method between the material (substrate) and the plating film that has a uniform thickness on all surfaces that come into contact with the processing solution and that provides a stable plating film. Copper sulfate plating is usually put into practical use as it has excellent adhesion and ductility. This copper sulfate plating provides fine crystals and leveling (uniform thickness), as well as stable workability and excellent physical properties.

一般に、硫酸銅メッキは液中に金属銅を供給し、液の電
導性と均一電着性を高めるために硫酸銅および硫酸が使
われる。さらに、塩素イオン(触媒として)および適量
の光沢剤が用いられる。また、レベリングを増進させる
ためにポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン誘導
体を用いることもある。代表的な組成は1文の水溶液中
に5〜40gの硫酸鋼(CuSO4−5H20)を添加
させ、さらにpH調整剤(緩衝剤)としてたとえば苛性
ソーダ(NaOH)、塩化アンモニウム(NH,Ca1
)などが使われ、また水溶液中での銅の異常析出を防止
するためにたとえばEDT^−2Na (エチレンジア
ミン四酢酸のナトリウム塩)、さらに還元剤としてホル
マリン(HCHO)が添加される。さらに、これらの化
学(無電解)メッキの導通面(路)に銅、ニッケル、金
などの金属を電気メッキをほどこして表面保護、腐食防
止を行なったり、また半田浴を通して導通路の上に半田
をのせることも可能である。
Generally, in copper sulfate plating, copper sulfate and sulfuric acid are used to supply metallic copper into the solution and improve the conductivity and uniform electrodeposition of the solution. Additionally, chloride ions (as a catalyst) and appropriate amounts of brighteners are used. Additionally, polyoxyethylene and polyoxypropylene derivatives may be used to enhance leveling. A typical composition is to add 5 to 40 g of sulfuric acid steel (CuSO4-5H20) to one aqueous solution, and further add pH adjusters (buffers) such as caustic soda (NaOH), ammonium chloride (NH, Ca1
), and to prevent abnormal precipitation of copper in an aqueous solution, for example, EDT^-2Na (sodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid) and formalin (HCHO) as a reducing agent are added. Furthermore, metals such as copper, nickel, and gold are electroplated on the conductive surfaces (paths) of these chemical (electroless) plated to protect the surface and prevent corrosion, and solder is applied to the conductive paths through a solder bath. It is also possible to put

(H)回路形成方法 未発明において実施される化学メッキによって前記の肉
薄物の表面およびスルホール穴の内面に無電解銅メッキ
により、回路を形成するいわゆるフル・アディティブ法
であり、銅箔を張った積層板のようにエツチング工程が
不要であるのが特徴である。一般的には、フル・アディ
ティブ法で使われる絶縁物材料には、メッキ用の触媒が
添加されていたり、また表面に接着剤を塗布したものが
使われているが、本発明の「エチレン−アクリル酸共重
合体および/棗たはエチレン−メタクリル酸共重合体な
らびにエチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物から得られる肉薄物」 (以下rE−E肉薄物
」と云う)はたとえ触媒または接着剤を使わなくても、
無電解銅との密着性がすぐれている。さらに、一般的な
回路形成方法によって導体回路を形成させること、が可
能であり、−例をあげると、E−E肉薄物を規定の寸法
に切断して穴あけを行なう(パンチング法、ドリル法お
よびプレス加工のいずれも可)。ついで、パターン形成
はネガパターンでスクリーン印刷または感光剤で不必要
部分をマスクする。このマスクされたE−E肉薄物を無
電解銅メッキ液に入れ、マスクされていない回路部分に
規定の厚さの銅メッキを析出させてパターンを形成する
。マスク印刷および感光剤は無電解メッキ液中に長時間
浸漬させるために耐アルカリ性がすぐれていることが必
要条件である。
(H) Circuit Formation Method This is a so-called full additive method in which a circuit is formed by electroless copper plating on the surface of the thin-walled object and the inner surface of the through-hole hole by chemical plating carried out in the uninvention. It is characterized by the fact that it does not require an etching process unlike laminates. Generally, the insulating material used in the fully additive method has a plating catalyst added to it, or has an adhesive coated on its surface. "thin material obtained from a saponified product of acrylic acid copolymer and/jujube or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer" (hereinafter referred to as "rE-E thin material") is an analogy. without the use of catalysts or adhesives.
Excellent adhesion to electroless copper. Furthermore, it is possible to form a conductor circuit by a general circuit forming method, for example, by cutting an E-E thin material into specified dimensions and drilling holes (punching method, drilling method, etc.). (Press processing is also possible). Next, pattern formation is performed by screen printing with a negative pattern or by masking unnecessary portions with a photosensitive agent. This masked E-E thin object is placed in an electroless copper plating solution, and copper plating of a specified thickness is deposited on the unmasked circuit portions to form a pattern. Mask printing and photosensitizers must have excellent alkali resistance because they are immersed in electroless plating solution for a long time.

通常、一般に行なわれているフル・アディティブ法で用
いられる感光剤と接着剤とを兼ねた層を形成し、この層
を感光させることによって回路部分だけ接着および無電
解銅メッキの析出し易い層にすることが行なわれている
。しかし、本発明のプリント配線板では、これらを使用
する必要がなく、直接無電解銅メッキ層がE−E肉薄物
の表面に密着性および接着性が良好に形成されるために
量産方式に適しているばかりか、通常のエツチングによ
って欠点(ヒゲの発生、パターン切れ)がなく、精密な
回路形成が可能である。化学メッキの後に回路保護用腐
食防止、さらにはICチップのモールドを行なうために
金、すす、ハンダなどをメッキさせることも行なうこと
が可能である。
Usually, a layer is formed that serves as both a photosensitive agent and an adhesive, which is used in the commonly used full additive method, and by exposing this layer to light, only the circuit area becomes a layer that is easy to bond and deposit electroless copper plating. things are being done. However, in the printed wiring board of the present invention, it is not necessary to use these, and the electroless copper plating layer is directly formed on the surface of the E-E thin object with good adhesion and adhesion, so it is suitable for mass production. Not only is it possible to form precise circuits without any defects (such as hair formation or pattern breakage) due to normal etching. After chemical plating, it is also possible to plate with gold, soot, solder, etc. for circuit protection, corrosion prevention, and for IC chip molding.

本発明のプリント配線板はフル・アディティブ法で行な
われている接着剤印刷法、接着剤写真法および直接法の
いずれも用いることができるが、直接法が行なえるのが
最大の特徴である。
The printed wiring board of the present invention can use any of the fully additive adhesive printing method, adhesive photography method, and direct method, but the greatest feature is that the direct method can be used.

(J)プリント配線板 以下本発明によって得られるプリント配線板を図面を用
いて説明する。第1図ないし第3図はフル・アディティ
ブ法のうち直接法によって本発明のプリント配線板の製
造工程の代表例の拡大断面図である。なお、これ以外の
接着剤印刷法および接着剤写真法について同様に製造す
ることが可能であることは当然である。
(J) Printed Wiring Board The printed wiring board obtained by the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 3 are enlarged cross-sectional views of representative examples of the manufacturing process of the printed wiring board of the present invention by the direct method among the full additive methods. It should be noted that it is of course possible to manufacture in the same manner using other adhesive printing methods and adhesive photography methods.

第1図はネガ法によって回路形成以外のところをマスキ
ングされた状態の両面スルホール基板の代表例の一部の
拡大断面図である。また、第2図は両面およびスルホー
ル部に無電解銅メッキ被膜を形成させた両面スルホール
基板の代表例の部分拡大断面図である。さらに、第3図
はマスキングされた部分を取り除いたいわゆる回路が形
成された基板の代表例の一部の拡大断面図である。第1
図ないし第3図において、いずれも1はE−E肉薄物(
エチレン−アクリル酸共重合体および/またはエチレン
−メタクリル酸共重合体ならびにエチレン−酢酸ビニル
共重合体のけん化物からなる混合物から得られる肉薄物
)であり、2は1から得られたスルホール部である。3
はレジスト材であり、4は化学メッキ(無電解メッキ)
によって得られた導電性金属薄膜である。
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a representative example of a double-sided through-hole board in which areas other than circuit formation are masked by a negative method. Further, FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which an electroless copper plating film is formed on both sides and through-hole portions. Further, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a part of a typical example of a substrate on which a so-called circuit is formed, with masked portions removed. 1st
In the figures to FIG. 3, 1 denotes E-E thin wall material
2 is a thin material obtained from a mixture consisting of a saponified product of ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer and ethylene-vinyl acetate copolymer), and 2 is the throughhole part obtained from 1. be. 3
is a resist material, and 4 is chemical plating (electroless plating)
This is a conductive metal thin film obtained by

[VI]実施例および比較例 以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
[VI] Examples and Comparative Examples The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

なお、実施例および比較例において、耐熱性のテストは
得られたフィルムをUL 713B (プリント配線板
)7.1図に示されたテストパターンをもった基板を3
00℃に保持された鉛/錫= 9o/10(重量比)で
あるハンダ浴に180秒浮べて評価した。なお、第1表
に評価を下記のように示す。
In addition, in the Examples and Comparative Examples, the heat resistance test was carried out by testing the obtained film on a board with the test pattern shown in UL 713B (Printed Wiring Board) 7.1.
Evaluation was made by floating for 180 seconds in a solder bath with lead/tin = 9o/10 (weight ratio) held at 00°C. The evaluation is shown in Table 1 as follows.

○:現形のまま変化せず ×:導体回路と樹脂層との間において、剥離、ひび割れ
、分裂などの変化がみられた 実施例 1〜4、比較例 1,2 メルトフローインデックス(JIS K−6760にし
たがい、温度が190℃および荷重が2.18kgの条
件で測定、以下rM、1.Jと云う)が300 g /
 10分であるエチレン−アクリル酸共重合体(密度0
.954g/ c m’、アクリル酸共重合割合20重
量%)100重量部および酢酸ビニル共重合割合が28
重量%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体をけん化さ
せることによって得られるけん化物(けん化度87.5
%、M、1.75g710分、密度0.951 g /
 c m’ )100重量部をヘンシェルミキサーを使
って5分間トライブレンドを行なった。得られた混合物
[以下「混合物(A)」と云う1をT−ダイを備えた押
出機(径40mm 、ダイス幅30cm 、回転数85
回転/分)を用いてシリンダ一温度がC1=100°C
,C2=120℃およびC3=140℃およびダイス温
度が160℃の条件でフィルム(厚さ100ミクロン)
を成形し、20°Cに水冷されたロールに巻きつけた(
実施例 1〜4、比較例 1.2)。また、混合物(A
)を製造するさいに用いたエチレン−アクリル酸共重合
体のかわりに、M、1.が200g/10分であるエチ
レン−メタクリル酸共重合体(密度0.!350g /
 c m’、メタクリル酸共重合割合25重量%)使っ
たほかは、混合物(A)と同様に混合物[以下「混合物
(B)」と云う1を製造した。得られた混合物を前記と
同様にフィルムを製造した(実施例 4)。さらに、実
施例1において使用したエチレン−アクリル酸共重合体
(以下r EAAJ と云う。比較例 1)およびエチ
レン−酢酸ビニル共重合体のけん化物(以下「けん化物
」と云う。比較例 2)を前記と同様にフィルムを製造
した。
○: No change in the current form ×: Changes such as peeling, cracking, and splitting were observed between the conductor circuit and the resin layer Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 and 2 Melt flow index (JIS K- 6760, measured at a temperature of 190°C and a load of 2.18 kg, hereinafter referred to as rM, 1.J) is 300 g /
Ethylene-acrylic acid copolymer (density 0
.. 954 g/cm', acrylic acid copolymerization ratio 20% by weight) 100 parts by weight and vinyl acetate copolymerization ratio 28
Saponified product obtained by saponifying ethylene-vinyl acetate copolymer (saponification degree 87.5 by weight)
%, M, 1.75g710min, density 0.951g/
cm') was triblended for 5 minutes using a Henschel mixer. The obtained mixture [hereinafter referred to as "mixture (A)" 1] was transferred to an extruder equipped with a T-die (diameter 40 mm, die width 30 cm, rotation speed 85
revolutions per minute) and the temperature of the cylinder is C1 = 100°C.
, film (thickness 100 microns) under the conditions of C2 = 120 °C and C3 = 140 °C and die temperature of 160 °C.
was formed and wound around a roll that was water-cooled at 20°C (
Examples 1 to 4, Comparative Example 1.2). Moreover, the mixture (A
) instead of the ethylene-acrylic acid copolymer used in producing M, 1. Ethylene-methacrylic acid copolymer with a density of 200 g/10 minutes (density 0.!350 g/10 minutes)
A mixture [hereinafter referred to as "mixture (B)" 1] was produced in the same manner as mixture (A), except that the mixture (cm', methacrylic acid copolymerization ratio: 25% by weight) was used. A film was produced from the resulting mixture in the same manner as described above (Example 4). Furthermore, saponified products of the ethylene-acrylic acid copolymer (hereinafter referred to as rEAAJ, Comparative Example 1) and ethylene-vinyl acetate copolymer (hereinafter referred to as "saponified product", Comparative Example 2) used in Example 1 were used. A film was produced in the same manner as above.

このようにして得られた各フィルムを320°Cでそれ
ぞれ10分熱プレス機を用いてそれぞれ20kg/Cm
’(ゲージ圧)の加圧下で架橋を行ない(厚さを第1表
に示す)、シートを作成した。
Each film obtained in this way was heated at 320°C for 10 minutes using a heat press to give a mass of 20kg/cm.
Crosslinking was carried out under a pressure of ' (gauge pressure) (thickness is shown in Table 1) to produce a sheet.

このようにして得られた各シートにスクリーン印刷機を
用いて回路以外のところにマスキングを施した。
Each sheet thus obtained was masked except for the circuit using a screen printing machine.

得られたシートを1文の水溶液中に下記の組成の化学メ
ッキ液で72℃でメッキを行ない、シートの両面に約3
0ミクロンの銅メッキ膜を得た。
The obtained sheet was plated at 72°C with a chemical plating solution having the following composition in an aqueous solution, and approximately 3.
A 0 micron copper plating film was obtained.

Cu5Oa ・5H20Log EDTA” 2Na ・2H2030g。Cu5Oa・5H20Log EDTA” 2Na・2H2030g.

Hill:HO(38%) 3m 1 NaOH12g メ・ンキ終了後、」−記マスキングを洗い落し、水洗し
、乾燥を行なった。
Hill: HO (38%) 3 m 1 NaOH 12 g After finishing the coating, the masking was washed off, washed with water, and dried.

得られた回路形成された基板の耐熱テストを行なった。A heat resistance test was conducted on the obtained circuit-formed substrate.

それらの結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第1表 これらの結果から1本発明によって得られるプリント配
線板は、非常に回路密度が高いのみならず、さらに耐熱
性がすぐれており、しかも柔軟な高品質プリント配線板
であることがわかった。
Table 1 From these results, it was found that the printed wiring board obtained by the present invention not only has a very high circuit density, but also has excellent heat resistance and is a flexible, high-quality printed wiring board. .

【図面の簡単な説明】 第1図はネガ法によって回路形成以外のところをマスキ
ングされた状態の両面スルホール基板の代表例の一部の
拡大断面図である。また、第2図は両面およびスルホー
ル部に無電解銅メッキ被膜を形成させた両面スルホール
基板の代表例の部分拡大断面図である。さらに、第3図
はマスキングされた部分を取り除いたいわゆる回路が形
成された基板の代表例の一部の拡大断面図である。 l・・・E−E肉薄物 ?・・・lから得られたスルホール部 3・・・レジスト材 4・・・化学メッキ(無電解メ・ンキ)によって得られ
た導電性金属薄膜 特許出願人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 菊地精−
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an enlarged sectional view of a portion of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which areas other than circuit formation are masked by a negative method. Further, FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of a typical example of a double-sided through-hole substrate in which an electroless copper plating film is formed on both sides and through-hole portions. Further, FIG. 3 is an enlarged sectional view of a part of a typical example of a substrate on which a so-called circuit is formed, with masked portions removed. l...E-E thin material? Through-hole portion 3 obtained from l...Resist material 4... Conductive metal thin film obtained by chemical plating (electroless metal plating) Patent applicant Showa Denko K.K. Representative Patent attorney Kikuchi Spirit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (A)(1)エチレン−アクリル酸共重合体および/ま
たはエチレン−メタクリル酸共重合体ならびに (2)エチレン−酢酸ビニル共重合体のけん化物からな
る混合物であり、該混合物中に占めるエチレン−アクリ
ル酸共重合体および/またはエチレン−メタクリル酸共
重合体の混合割合は20〜80重量%であり、この混合
物を250°C以下の温度でフィッシュアイが生じない
条件下で肉薄状に押出し、得られる肉薄物を 100 
’Cないし400°Cの温度において加熱拳加圧させる
ことによって得られる肉薄物に (B)無電解メッキまたは無電解メッキおよび電解メッ
キを行なって上記肉薄物の表面に200ミクロン以下の
導体回路 を形成させてなるプリント配線板。
[Scope of Claims] (A) A mixture consisting of (1) an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-methacrylic acid copolymer and (2) a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer, The mixing ratio of the ethylene-acrylic acid copolymer and/or ethylene-methacrylic acid copolymer in the mixture is 20 to 80% by weight, and the mixture is heated at a temperature of 250°C or less under conditions that do not cause fish eyes. extrude into a thin shape with 100
(B) Electroless plating or electroless plating and electrolytic plating are applied to the thin walled object obtained by heating and pressurizing the object at a temperature between 'C and 400°C to form a conductor circuit of 200 microns or less on the surface of the thin walled object. Printed wiring board made by forming.
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