JPS62212559A - ガスセンサの製法 - Google Patents
ガスセンサの製法Info
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- JPS62212559A JPS62212559A JP5668886A JP5668886A JPS62212559A JP S62212559 A JPS62212559 A JP S62212559A JP 5668886 A JP5668886 A JP 5668886A JP 5668886 A JP5668886 A JP 5668886A JP S62212559 A JPS62212559 A JP S62212559A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、ガス漏れ警報器などに用いられるガスセン
サの製法に関する。
サの製法に関する。
現在、ガスセンサとして実用化され、あるいは研究され
ているもののタイプは、大別すれば半導体式、接触燃焼
式、電気化学式、固体電解質式などにわけられる。
ているもののタイプは、大別すれば半導体式、接触燃焼
式、電気化学式、固体電解質式などにわけられる。
半導体式ガスセンサは古くから実用化されており、家庭
用ガス漏れ警報器などに内蔵されて多数用いられている
。この型のガスセンサは、被検ガスがセンサの表面に吸
着するとその抵抗値が変化するという性質を利用したも
ので、抵抗値の変化量から逆にガス濃度を検出するもの
である。このガスセンサは製作コストがやすく、かつ、
低濃度ガスを検知することが可能であるという利点を有
するので、従来から多くの研究、開発がなされてきた。
用ガス漏れ警報器などに内蔵されて多数用いられている
。この型のガスセンサは、被検ガスがセンサの表面に吸
着するとその抵抗値が変化するという性質を利用したも
ので、抵抗値の変化量から逆にガス濃度を検出するもの
である。このガスセンサは製作コストがやすく、かつ、
低濃度ガスを検知することが可能であるという利点を有
するので、従来から多くの研究、開発がなされてきた。
反面、この型のガスセンサは、特定のガスを選択的に検
出することが困難であること、時間経過とともにガス感
度が上がるという欠点を有している。とくに、後者は、
実用化された段階において、ガス漏れ検出器の誤動作を
引き起こす最大の原因と考えられており、大きな問題と
なっている。このような経時鋭敏化の原因は、いまだに
明らかにされていないが、使用時にセンサを400℃程
度に加熱するので、センサを構成する半導体材料の焼結
状態、表面状態が熱的に変化して行くことがその原因と
推察されている。
出することが困難であること、時間経過とともにガス感
度が上がるという欠点を有している。とくに、後者は、
実用化された段階において、ガス漏れ検出器の誤動作を
引き起こす最大の原因と考えられており、大きな問題と
なっている。このような経時鋭敏化の原因は、いまだに
明らかにされていないが、使用時にセンサを400℃程
度に加熱するので、センサを構成する半導体材料の焼結
状態、表面状態が熱的に変化して行くことがその原因と
推察されている。
接触燃焼式ガスセンサは、酸化触媒を担持した白金線上
において、可燃性ガスを接触燃焼させるようにすると、
白金線の抵抗値が変化することから被検ガスの検出がな
されるようになっている型のセンサである。このような
検出原理に基づくため、この型のセンサは基本的にガス
を選択する機能を持たせることができず、また、センサ
の触媒活性が消失した場合には、失報するといった危険
性もある。
において、可燃性ガスを接触燃焼させるようにすると、
白金線の抵抗値が変化することから被検ガスの検出がな
されるようになっている型のセンサである。このような
検出原理に基づくため、この型のセンサは基本的にガス
を選択する機能を持たせることができず、また、センサ
の触媒活性が消失した場合には、失報するといった危険
性もある。
上記2つの型のセンサの他、定電位電解型、ガルバニ電
池型といった電気化学式センサや、熱伝導型、赤外線型
といった物理センサも開発されている。しかし、これら
のセンサは、その一部に用いられている電解質溶液の交
換を随時行わなければならない、といった面倒な保守作
業を必要としたり、検出システム自身が複雑で高価であ
ったりする。そのため、これらのセンサは、主として工
業プロセス用のガス検知器やガス分析機器として用いら
れている。
池型といった電気化学式センサや、熱伝導型、赤外線型
といった物理センサも開発されている。しかし、これら
のセンサは、その一部に用いられている電解質溶液の交
換を随時行わなければならない、といった面倒な保守作
業を必要としたり、検出システム自身が複雑で高価であ
ったりする。そのため、これらのセンサは、主として工
業プロセス用のガス検知器やガス分析機器として用いら
れている。
一方、最近では固体電解質を使ったセンサの開発が盛ん
であるが、今のところ適用できるガスの種類が酸素、湿
気などに限られており、可燃性ガスなどには未だ応用で
きない状態にある。
であるが、今のところ適用できるガスの種類が酸素、湿
気などに限られており、可燃性ガスなどには未だ応用で
きない状態にある。
したがって、安価で、長時間安定していて、面倒な保守
作業を必要とせず、しかも高信頼性のあるガスセンサの
開発が強く望まれている。
作業を必要とせず、しかも高信頼性のあるガスセンサの
開発が強く望まれている。
以上の点に鑑み、この発明は、被検ガスの検出に適して
いるとともに、安価で、面倒な保守も不要であって取り
扱いやすく、しかも高感度であって、安定性が高く、か
つ、信頼性のあるガスセンサの製法を提供することを目
的とする。
いるとともに、安価で、面倒な保守も不要であって取り
扱いやすく、しかも高感度であって、安定性が高く、か
つ、信頼性のあるガスセンサの製法を提供することを目
的とする。
上記目的を達成するため、この発明は、光照射により触
媒作用を有するようになる半導体光触媒材料をガス感応
部として用いるとともに、この半導体光触媒材料の光照
射面に一対の電極が形成されていて、前記光照射がなさ
れて触媒作用を有しているときに被検ガスによって生ず
る前記半導体光触媒材料の電気的変化を前記被検ガスの
検出信号として前記電極間から取り出すようにしたガス
センサの製法であって、前記半導体光触媒材料を酸化性
雰囲気下で熱処理する工程を含むことを特徴とするガス
センサの製法を要旨とする。
媒作用を有するようになる半導体光触媒材料をガス感応
部として用いるとともに、この半導体光触媒材料の光照
射面に一対の電極が形成されていて、前記光照射がなさ
れて触媒作用を有しているときに被検ガスによって生ず
る前記半導体光触媒材料の電気的変化を前記被検ガスの
検出信号として前記電極間から取り出すようにしたガス
センサの製法であって、前記半導体光触媒材料を酸化性
雰囲気下で熱処理する工程を含むことを特徴とするガス
センサの製法を要旨とする。
以下にこれを、その一実施例をあられす図面を参照しつ
つ詳しく説明する。
つ詳しく説明する。
第1図は、この発明により製造されるガスセンサの構造
の主要部をあられしたものである。第2図は、このガス
センサの動作機構を説明するためのエネルギーバンドを
あられしたものである。
の主要部をあられしたものである。第2図は、このガス
センサの動作機構を説明するためのエネルギーバンドを
あられしたものである。
この発明により製造されるガスセンサは、半導体光触媒
材料(以下、「光触媒材料」と言う)をガス感応部とし
て用いている。第2図にみるように、価電子帯(充満帯
)Aの上端のエネルギーEVと導電帯Bの下端のエネル
ギーEcの差に相当するエネルギーギャップEgよりも
大きいエネルギーを有する波長の光りを光触媒材料に照
射すると、この材料の結晶内部に電子Eと正孔Hが発生
する。この光照射によって生じた電子Eと正孔Hは非常
に強い酸化力・還元力を有しているため、材料表面付近
で被検ガス分子と酸化還元反応を起こす。これらの電子
Eまたは正孔Hと被検ガス分子との反応は複雑であるた
め、つまびらかではないが、基本的には、つぎのような
ものであると推察される。すなわち、この電子Eは、接
触した被検ガス分子に与えられることとなるので、被検
ガス分子は還元され光触媒材料自身は酸化されるという
酸化還元反応を生じさせ、他方、正孔Hは、接触した被
検ガス分子から電子を受は取ることとなるので、被検ガ
ス分子は酸化され光触媒材料自身は還元されるという酸
化還元反応を生じさせることになると推察される。換言
すれば、このガスセンサの表面に吸着する被検ガス分子
のアクセプタレベルALが、伝導帯Bの下端のエネルギ
ーECより低い場合、または、被検ガス分子のドナーレ
ベルDLが価電子帯Aの上端のエネルギーEVより高い
場合に、光触媒材料と被検ガス分子との間で電子の授受
が行われるのである。したがって、被検ガスの種類によ
って上記2つの酸化還元反応のうちいずれか一方の反応
が起きて、光触媒材料に電気的変化が生じる。光触媒材
料の価電子帯Aおよび伝導帯Bのエネルギーレベルと被
検ガス分子の酸化あるいは還元のエネルギーレベルとの
相対的な位置関係によって、特定物質についての選択的
な反応を起こさせることが可能となり、結局、選択的な
被検ガスの検出を行うことができることとなる。そして
、光触媒材料の種類によって、検出できる被検ガスの種
類が決まるのである。そのため、種類の異なる光触媒材
料を備えた複数個のガスセンサを同時に用いれば、種類
の異なる被検ガスの同時測定ができるなど高機能の使用
形態がとれることとなる。
材料(以下、「光触媒材料」と言う)をガス感応部とし
て用いている。第2図にみるように、価電子帯(充満帯
)Aの上端のエネルギーEVと導電帯Bの下端のエネル
ギーEcの差に相当するエネルギーギャップEgよりも
大きいエネルギーを有する波長の光りを光触媒材料に照
射すると、この材料の結晶内部に電子Eと正孔Hが発生
する。この光照射によって生じた電子Eと正孔Hは非常
に強い酸化力・還元力を有しているため、材料表面付近
で被検ガス分子と酸化還元反応を起こす。これらの電子
Eまたは正孔Hと被検ガス分子との反応は複雑であるた
め、つまびらかではないが、基本的には、つぎのような
ものであると推察される。すなわち、この電子Eは、接
触した被検ガス分子に与えられることとなるので、被検
ガス分子は還元され光触媒材料自身は酸化されるという
酸化還元反応を生じさせ、他方、正孔Hは、接触した被
検ガス分子から電子を受は取ることとなるので、被検ガ
ス分子は酸化され光触媒材料自身は還元されるという酸
化還元反応を生じさせることになると推察される。換言
すれば、このガスセンサの表面に吸着する被検ガス分子
のアクセプタレベルALが、伝導帯Bの下端のエネルギ
ーECより低い場合、または、被検ガス分子のドナーレ
ベルDLが価電子帯Aの上端のエネルギーEVより高い
場合に、光触媒材料と被検ガス分子との間で電子の授受
が行われるのである。したがって、被検ガスの種類によ
って上記2つの酸化還元反応のうちいずれか一方の反応
が起きて、光触媒材料に電気的変化が生じる。光触媒材
料の価電子帯Aおよび伝導帯Bのエネルギーレベルと被
検ガス分子の酸化あるいは還元のエネルギーレベルとの
相対的な位置関係によって、特定物質についての選択的
な反応を起こさせることが可能となり、結局、選択的な
被検ガスの検出を行うことができることとなる。そして
、光触媒材料の種類によって、検出できる被検ガスの種
類が決まるのである。そのため、種類の異なる光触媒材
料を備えた複数個のガスセンサを同時に用いれば、種類
の異なる被検ガスの同時測定ができるなど高機能の使用
形態がとれることとなる。
上にみたように、この発明により製造されるガスセンサ
においては、光触媒材料に発生する電子や正札が、直接
、被検ガスとの反応に供与され、この反応によって光触
媒材料に電気的変化が生じるので、光触媒材料の光照射
がなされる表面に一対の電極を取りつけて、この電気的
変化を被検ガス検出信号としてとり出せばよいのである
。
においては、光触媒材料に発生する電子や正札が、直接
、被検ガスとの反応に供与され、この反応によって光触
媒材料に電気的変化が生じるので、光触媒材料の光照射
がなされる表面に一対の電極を取りつけて、この電気的
変化を被検ガス検出信号としてとり出せばよいのである
。
この際、第1図にみるように、光触媒材料の同じ面上に
両方の電極が形成され電極配置が横型構造となっている
と、製造が容易となる。
両方の電極が形成され電極配置が横型構造となっている
と、製造が容易となる。
この発明にがかるセンサでは、被検ガスの濃度に応じて
電子または正孔の増減量が変わることとなるので、取り
出される被検ガス検出信号量も被検ガスのガス濃度に応
じて変わることとなる。また、電解質溶液を用いる場合
のような、保守作業を必要とする液相が使われていない
ので、保守の必要もなく、いわゆる、メンテナンスフリ
ーのガスセンサとなっている。
電子または正孔の増減量が変わることとなるので、取り
出される被検ガス検出信号量も被検ガスのガス濃度に応
じて変わることとなる。また、電解質溶液を用いる場合
のような、保守作業を必要とする液相が使われていない
ので、保守の必要もなく、いわゆる、メンテナンスフリ
ーのガスセンサとなっている。
この発明の方法により製造されるガスセンサで検出でき
るガスの種類を例示する。可燃性や爆発性を有するガス
としては、水素ガス、メタンガス、エタンガス、エチレ
ンガス、プロパンガス、ブタンガス、ベンゼンガス、ト
ルエンガス、アセトンガス、メチルエチルケトンガスな
どのほか、メチルアルコールガス、エチルアルコールガ
ス、イソプロピルアルコールガスなどの各種アルコール
ガスがある。有毒性や有害性を有するガスとしては、−
酸化炭素ガス、酸化窒素ガス、亜硫酸ガス、硫化水素ガ
ス、アンモニアガスなどがある。その他に、半導体を製
造する工程に使われるガスとしては、アルシンガス、ホ
スフィンガス、ジボランガスなどがある。
るガスの種類を例示する。可燃性や爆発性を有するガス
としては、水素ガス、メタンガス、エタンガス、エチレ
ンガス、プロパンガス、ブタンガス、ベンゼンガス、ト
ルエンガス、アセトンガス、メチルエチルケトンガスな
どのほか、メチルアルコールガス、エチルアルコールガ
ス、イソプロピルアルコールガスなどの各種アルコール
ガスがある。有毒性や有害性を有するガスとしては、−
酸化炭素ガス、酸化窒素ガス、亜硫酸ガス、硫化水素ガ
ス、アンモニアガスなどがある。その他に、半導体を製
造する工程に使われるガスとしては、アルシンガス、ホ
スフィンガス、ジボランガスなどがある。
第1図を参照しながら、より具体的な製造例の説明をお
こなう。
こなう。
このガスセンサ1は、石英ガラス基板(縦5謳×横5m
l×厚み1龍)2の上に形成されたn型半導体であるZ
n0層3(光触媒材料)を備えているとともに、このZ
n0Ii3の表面に、くし形をした一対の電極4a、4
bを備えている。くし形の両電極4a、4bは、図示の
ように、互いに入り組んでいる。このようにすれば、互
いの対向長さが増し、感度が良くなるからである。しか
し、これは必ずしも必要ではない。電極4a、4bには
、それぞれ、リード線としてAu線5a、5bが導電ペ
ーストであるAgペースト6によって固着されている。
l×厚み1龍)2の上に形成されたn型半導体であるZ
n0層3(光触媒材料)を備えているとともに、このZ
n0Ii3の表面に、くし形をした一対の電極4a、4
bを備えている。くし形の両電極4a、4bは、図示の
ように、互いに入り組んでいる。このようにすれば、互
いの対向長さが増し、感度が良くなるからである。しか
し、これは必ずしも必要ではない。電極4a、4bには
、それぞれ、リード線としてAu線5a、5bが導電ペ
ーストであるAgペースト6によって固着されている。
Zn0層3は、市販のZnO粉末をターゲツト材として
用い、Arガス雰囲気(ガス圧3.0OX10dto
r r)中で、高周波スパッタリング法により形成した
。そのときの高周波電圧は、2.0 k Vであった。
用い、Arガス雰囲気(ガス圧3.0OX10dto
r r)中で、高周波スパッタリング法により形成した
。そのときの高周波電圧は、2.0 k Vであった。
ZnO1iの形成は、高周波スパッタリング法に限られ
るものではなく、他の方法、たとえば、イオンブレーテ
ィング法、電子ビーム蒸着法などで行ってもよい。基板
の加熱は行わなかったが、スパッタリング終了時には基
板の温度は150℃まで上昇しているのが認められた。
るものではなく、他の方法、たとえば、イオンブレーテ
ィング法、電子ビーム蒸着法などで行ってもよい。基板
の加熱は行わなかったが、スパッタリング終了時には基
板の温度は150℃まで上昇しているのが認められた。
スパッタリング終了後は、空気中(酸化性雰囲気下)に
おいて600.700.800℃で各1時間、熱処理を
行った。この熱処理時間は、雰囲気および温度により適
宜変更することができる。還元性雰囲気下で熱処理する
場合に比べて、このように、空気中で熱処理することに
より、形成されたZnO層中に存在する酸素欠陥が減少
して、ZnO中の不純物(ドナー)レベルが低くなるの
で、光照射により生成された電子−正孔がトラップされ
る確立が低下し、光触媒材料としての機能が一層高めら
れ、結果的に感度が向上することとなる。このときの熱
処理は、酸化性雰囲気で行えばよく、とくに空気中で行
うことに限定されるものではない。熱処理温度も500
℃以上であればよい。このようにして作成したZn0層
3について、X線回折分析を行ったところ(002)の
ピークのみが認められ、C軸方向に配向していることが
確認された。なお、このときのZnO層の厚みは270
0人であった。この膜厚をあまり厚くするのは、感度が
低下するので好ましいものではない。すなわち、ZnO
1i−被検ガス分子間の反応は、ZnO層の表面付近で
生じるため、膜が厚すぎると反応に寄与しない部分が多
くなるからである。Zn0層3の表面には、In材を真
空蒸着することによってくし形電極4a、4bを形成し
た。このときの電極間隔は、0.2 musであった。
おいて600.700.800℃で各1時間、熱処理を
行った。この熱処理時間は、雰囲気および温度により適
宜変更することができる。還元性雰囲気下で熱処理する
場合に比べて、このように、空気中で熱処理することに
より、形成されたZnO層中に存在する酸素欠陥が減少
して、ZnO中の不純物(ドナー)レベルが低くなるの
で、光照射により生成された電子−正孔がトラップされ
る確立が低下し、光触媒材料としての機能が一層高めら
れ、結果的に感度が向上することとなる。このときの熱
処理は、酸化性雰囲気で行えばよく、とくに空気中で行
うことに限定されるものではない。熱処理温度も500
℃以上であればよい。このようにして作成したZn0層
3について、X線回折分析を行ったところ(002)の
ピークのみが認められ、C軸方向に配向していることが
確認された。なお、このときのZnO層の厚みは270
0人であった。この膜厚をあまり厚くするのは、感度が
低下するので好ましいものではない。すなわち、ZnO
1i−被検ガス分子間の反応は、ZnO層の表面付近で
生じるため、膜が厚すぎると反応に寄与しない部分が多
くなるからである。Zn0層3の表面には、In材を真
空蒸着することによってくし形電極4a、4bを形成し
た。このときの電極間隔は、0.2 musであった。
この電極4a、4bとZn0層3の接触は、いわゆる、
オーミックコンタクトとなっている。なお、電極は、上
に例示したIn材のみに限られるものではなく、Atの
ような金属でもよい。
オーミックコンタクトとなっている。なお、電極は、上
に例示したIn材のみに限られるものではなく、Atの
ような金属でもよい。
つぎに、第3図および第4図を参照しながら、被検ガス
の具体的な検出動作の説明を行う。
の具体的な検出動作の説明を行う。
第3図は、第1図に示したガスセンサlを用いて被検ガ
スの検出を行うときのシステムの概略をあられしたもの
であり、第4図は、このガスセンサ1からの被検ガスの
検出信号の経時変化をあられしたものである。なお、被
検ガスには、エタノールガスを用いた。
スの検出を行うときのシステムの概略をあられしたもの
であり、第4図は、このガスセンサ1からの被検ガスの
検出信号の経時変化をあられしたものである。なお、被
検ガスには、エタノールガスを用いた。
光源7には、ZnO層のエネルギーギャップEgより大
きいエネルギーを供給できる、500WのXeランプを
用いた。光源7から発せられた光は、ミラー8で反射さ
れ、レンズ9によって収束されて、ガス感度測定用アク
リル製チアンバlOの上面に設けられた石英ガラス製の
窓1)を透過し、ガスセンサ1の光触媒材料(ZnOj
CJ3)上に照射されるようになっている。ガスセンサ
lは、アクリル製チアンバ10 (内容積5.:lりの
内側に配置された試料ホルダ12上に置かれている。こ
の試料ホルダ12はアルミナ製であって、裏面内側にヒ
ータ13が設けられており、ガスセンサの温度をコント
ロールできるようになっていて、その一端には熱電対1
4が接触している。一方、ポテンショスタット15によ
って、ガスセンサlの電極4a、4b間の直流電圧を常
に一定の値(0,5V)に維持できるようにされている
。そして、ポテンショスタット15はレコーダ16と接
続されていて、電極4a、4b間を流れる電流の変化が
記録されるようになっている。第4図(a)。
きいエネルギーを供給できる、500WのXeランプを
用いた。光源7から発せられた光は、ミラー8で反射さ
れ、レンズ9によって収束されて、ガス感度測定用アク
リル製チアンバlOの上面に設けられた石英ガラス製の
窓1)を透過し、ガスセンサ1の光触媒材料(ZnOj
CJ3)上に照射されるようになっている。ガスセンサ
lは、アクリル製チアンバ10 (内容積5.:lりの
内側に配置された試料ホルダ12上に置かれている。こ
の試料ホルダ12はアルミナ製であって、裏面内側にヒ
ータ13が設けられており、ガスセンサの温度をコント
ロールできるようになっていて、その一端には熱電対1
4が接触している。一方、ポテンショスタット15によ
って、ガスセンサlの電極4a、4b間の直流電圧を常
に一定の値(0,5V)に維持できるようにされている
。そして、ポテンショスタット15はレコーダ16と接
続されていて、電極4a、4b間を流れる電流の変化が
記録されるようになっている。第4図(a)。
山)に示す曲線lは、この電流の経時変化を示したもの
である。
である。
今回の測定では、この発明にかかるガスセンサに及ぼす
共存ガスの影響を調べるため、エタノールガスのほか、
水素、メタン、−酸化炭素、イソブタンの各ガスを測定
対象とした。これらのガスの所定量をチアソバ10内に
流しこみ、一定のガス濃度雰囲気を形成するようにした
。なお、第3図に示したチアンバ10では、簡略化のた
めガスの流出入口を省略しである。
共存ガスの影響を調べるため、エタノールガスのほか、
水素、メタン、−酸化炭素、イソブタンの各ガスを測定
対象とした。これらのガスの所定量をチアソバ10内に
流しこみ、一定のガス濃度雰囲気を形成するようにした
。なお、第3図に示したチアンバ10では、簡略化のた
めガスの流出入口を省略しである。
第4図(a)、 (b)は、上記の測定例を示すもので
ある。ガスセンサlには、一定の暗電流(AO)が流れ
ているが、時間T1のとき光を照射すると、光触媒材料
であるZn0層3が励起されて、素子電流(光電流)が
流れるようになり、電流が増加してA1となる。このよ
うな状態のときく時間T2)に、エタノールガスを接触
させると、ガスセンサ1の温度が低い(室温付近)場合
には、同図(alにみるように、電流値が減少してA2
の値となり、逆に、温度が高い(100℃程度)場合に
は、同図(b)にみるように、電流値が増加してA2の
値となる。このように、ガスセンサ1にエタノールガス
が反応することによって電流値が敏感に変化するため、
その存在を容易に検出することが可能となるのである。
ある。ガスセンサlには、一定の暗電流(AO)が流れ
ているが、時間T1のとき光を照射すると、光触媒材料
であるZn0層3が励起されて、素子電流(光電流)が
流れるようになり、電流が増加してA1となる。このよ
うな状態のときく時間T2)に、エタノールガスを接触
させると、ガスセンサ1の温度が低い(室温付近)場合
には、同図(alにみるように、電流値が減少してA2
の値となり、逆に、温度が高い(100℃程度)場合に
は、同図(b)にみるように、電流値が増加してA2の
値となる。このように、ガスセンサ1にエタノールガス
が反応することによって電流値が敏感に変化するため、
その存在を容易に検出することが可能となるのである。
ついで、このガスセンサlの感度を、エタノールガスの
濃度を変えて測定した。その結果を第5図(a)、 0
))、 (C)に示す。同図(a)、 (b)、 (c
)は、基板2上にZn0層3をスパッタリングした後、
熱処理温度をそれぞれ600,700.800℃に変え
てガスセンサ1を作成したときの結果をあられしている
。このときの感度は、次式に示すように、第4図におけ
る電流値の変化率であられした。
濃度を変えて測定した。その結果を第5図(a)、 0
))、 (C)に示す。同図(a)、 (b)、 (c
)は、基板2上にZn0層3をスパッタリングした後、
熱処理温度をそれぞれ600,700.800℃に変え
てガスセンサ1を作成したときの結果をあられしている
。このときの感度は、次式に示すように、第4図におけ
る電流値の変化率であられした。
ガス感度(χ) = ((A2−AI)/Al) X1
00第5図にみるように、いずれのガスセンサについて
も、エタノールガス濃度とガス感度とは、はぼ比例関係
にあるといえ、このガスセンサ1は優れた定量性を有す
ることがわかる。
00第5図にみるように、いずれのガスセンサについて
も、エタノールガス濃度とガス感度とは、はぼ比例関係
にあるといえ、このガスセンサ1は優れた定量性を有す
ることがわかる。
600℃で熱処理したガスセンサについて、その測定温
度を変えて、前記した各ガスに対するガス感度を測定し
た。その結果を第1表に示す。このときのガス感度は、
上式に準じてもとめた。すなわち、光照射時における〔
(ガス中の電流値−空気中の電流値)/(空気中の電流
値))X100(%)をガス感度とした。
度を変えて、前記した各ガスに対するガス感度を測定し
た。その結果を第1表に示す。このときのガス感度は、
上式に準じてもとめた。すなわち、光照射時における〔
(ガス中の電流値−空気中の電流値)/(空気中の電流
値))X100(%)をガス感度とした。
第1表
注、熱処理温度:600℃ (単位%)
第1表より、このガスセンサ1は、室温付近の低温から
100℃にいたるまで、エタノールガスに対して優れた
選択性を有していることがわかる。なお、光を照射しな
いときは、ZnOの光触媒作用が働かないため、どのガ
スとも反応しない。
第1表より、このガスセンサ1は、室温付近の低温から
100℃にいたるまで、エタノールガスに対して優れた
選択性を有していることがわかる。なお、光を照射しな
いときは、ZnOの光触媒作用が働かないため、どのガ
スとも反応しない。
同様に、熱処理温度を600,700.800℃に変え
たガスセンサについて、測定温度が25℃であるときの
各ガスに対するガス感度を測定した結果を第2表に示す
。
たガスセンサについて、測定温度が25℃であるときの
各ガスに対するガス感度を測定した結果を第2表に示す
。
第2表
注、測定温度:100℃ (単位%)
第2表より、熱処理温度を変えても、このガスセンサは
、優れたエタノールガス選択性を有していることがわか
る。
第2表より、熱処理温度を変えても、このガスセンサは
、優れたエタノールガス選択性を有していることがわか
る。
この実施例では、光触媒材料としてZnOを用い、被検
ガスとしてエタノールガスに対する優れた選択性を示し
たが、他の光触媒材料を用いれば、べつの被検ガスに対
する選択性を有することは言うまでもない。
ガスとしてエタノールガスに対する優れた選択性を示し
たが、他の光触媒材料を用いれば、べつの被検ガスに対
する選択性を有することは言うまでもない。
この発明にかかるガスセンサの製法は、以上のような構
成になっているので、このような方法で作成されたガス
センサは、被検ガスに対して高い感度を有しているとと
もに、優れた選択性をもっており、従来のガスセンサの
ように、他のガスの影響を受けて誤動作を起こすといっ
たおそれがなく、したがって信頼性が高く、しかも、実
質的に保守が不要であるため、取り扱いも容易である。
成になっているので、このような方法で作成されたガス
センサは、被検ガスに対して高い感度を有しているとと
もに、優れた選択性をもっており、従来のガスセンサの
ように、他のガスの影響を受けて誤動作を起こすといっ
たおそれがなく、したがって信頼性が高く、しかも、実
質的に保守が不要であるため、取り扱いも容易である。
さらに、熱処理を空気中で行うことができることに加え
て、ガスセンサの構造が複雑でないので、製造が容易で
安価であるだけでなく、安定性、信頼性の点でも優れた
ものとなっている。
て、ガスセンサの構造が複雑でないので、製造が容易で
安価であるだけでなく、安定性、信頼性の点でも優れた
ものとなっている。
この発明により製造されるガスセンサは、ガス漏れ警報
器として用いられる他、ガス濃度検出器としても適用で
きるなど広い利用範囲が考えられる。
器として用いられる他、ガス濃度検出器としても適用で
きるなど広い利用範囲が考えられる。
第1図はこの発明にかかるガスセンサの一実施例の主要
部をあられす斜視図、第2図はこのガスセンサの基本的
な動作機構を説明するエネルギーバンド図、第3図はこ
のガスセンサを用いて被検ガスの検出を行うときのシス
テムの概略説明図、第4図はガスセンサを流れる電流の
経時変化をあられしたグラフであって、(a)はガスセ
ンサの温度が低い(室温付近)場合のグラフ、(b)は
ガスセンサの温度が高い(100℃)場合のグラフ、第
5図(al、 (b)、 (C)はそれぞれ光触媒材料
の熱処理温度を600,700.800℃に変えたとき
のエタノール濃度とガス感度の関係をあられすグラフで
ある。 1・・・ガスセンサ 3・・・半導体光触媒材料 4a
、4b・・・電極 代理人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 手3俗甫正書(自発 昭和61年 7月1z日 昭和61 ’f4?s’fI9J’[i 056688
号2、発明の名称 ガスセンサの製法 3、補正をする者 羽生との関係 特許出願人 住 所 大阪府門真市大字門真104B?
!7地名 称(583)松下電工株式会社 代表者 代表I[fii?i役藤井頁夫4、代理人 な し 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1)明細古筆3頁第14〜15行に「や、熱・・セン
サ」とあるを削除する。
部をあられす斜視図、第2図はこのガスセンサの基本的
な動作機構を説明するエネルギーバンド図、第3図はこ
のガスセンサを用いて被検ガスの検出を行うときのシス
テムの概略説明図、第4図はガスセンサを流れる電流の
経時変化をあられしたグラフであって、(a)はガスセ
ンサの温度が低い(室温付近)場合のグラフ、(b)は
ガスセンサの温度が高い(100℃)場合のグラフ、第
5図(al、 (b)、 (C)はそれぞれ光触媒材料
の熱処理温度を600,700.800℃に変えたとき
のエタノール濃度とガス感度の関係をあられすグラフで
ある。 1・・・ガスセンサ 3・・・半導体光触媒材料 4a
、4b・・・電極 代理人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 手3俗甫正書(自発 昭和61年 7月1z日 昭和61 ’f4?s’fI9J’[i 056688
号2、発明の名称 ガスセンサの製法 3、補正をする者 羽生との関係 特許出願人 住 所 大阪府門真市大字門真104B?
!7地名 称(583)松下電工株式会社 代表者 代表I[fii?i役藤井頁夫4、代理人 な し 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1)明細古筆3頁第14〜15行に「や、熱・・セン
サ」とあるを削除する。
Claims (1)
- (1)光照射により触媒作用を有するようになる半導体
光触媒材料をガス感応部として用いるとともに、この半
導体光触媒材料の光照射面に一対の電極が形成されてい
て、前記光照射がなされて触媒作用を有しているときに
被検ガスによって生ずる前記半導体光触媒材料の電気的
変化を前記被検ガスの検出信号として前記電極間から取
り出すようにしたガスセンサの製法であって、前記半導
体光触媒材料を酸化性雰囲気下で熱処理する工程を含む
ことを特徴とするガスセンサの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5668886A JPS62212559A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | ガスセンサの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5668886A JPS62212559A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | ガスセンサの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62212559A true JPS62212559A (ja) | 1987-09-18 |
Family
ID=13034381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5668886A Pending JPS62212559A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | ガスセンサの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62212559A (ja) |
-
1986
- 1986-03-13 JP JP5668886A patent/JPS62212559A/ja active Pending
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