JPS6221195Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6221195Y2 JPS6221195Y2 JP6767382U JP6767382U JPS6221195Y2 JP S6221195 Y2 JPS6221195 Y2 JP S6221195Y2 JP 6767382 U JP6767382 U JP 6767382U JP 6767382 U JP6767382 U JP 6767382U JP S6221195 Y2 JPS6221195 Y2 JP S6221195Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve body
- fluid
- valve seat
- fluid passage
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 21
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 3
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Temperature-Responsive Valves (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案を通路内を通る流体の温度変化に応じ
てその磁力が変化する永久磁石から成る弁体を使
用した自動流量制御弁に関するものである。
てその磁力が変化する永久磁石から成る弁体を使
用した自動流量制御弁に関するものである。
第１図はこの種の従来の流量制御弁を示すもの
で図において１，２は内側に流体通路Ａを形成す
る上下流通管でその各々のフランジ１ａとフラン
ジ２ａとでその間にパツキン３を介して一連に締
付けられている。４は下部流通管２内に設けた強
磁性体から成る筒状の弁座、５はこの弁座の開口
部に設けた坑圧スプリング、６は上記両フランジ
１ａ，２ｂの結合面に介挿された支え板で複数の
貫通穴６ａが形成され、かつその中央部には後記
弁体８のガイド棒７が下方に向つて突設されてい
る。８は温度変化でその吸着力が変化する永久磁
石から成る上記の円板状弁体で複数の貫通穴８ａ
を有すると共に中央部で上記ガイド棒７に上下可
動状態に支承されている。９は上記ガイド棒７に
巻装されたスプリングで上記弁体８を常時弁座４
に当接する方向に押している。
で図において１，２は内側に流体通路Ａを形成す
る上下流通管でその各々のフランジ１ａとフラン
ジ２ａとでその間にパツキン３を介して一連に締
付けられている。４は下部流通管２内に設けた強
磁性体から成る筒状の弁座、５はこの弁座の開口
部に設けた坑圧スプリング、６は上記両フランジ
１ａ，２ｂの結合面に介挿された支え板で複数の
貫通穴６ａが形成され、かつその中央部には後記
弁体８のガイド棒７が下方に向つて突設されてい
る。８は温度変化でその吸着力が変化する永久磁
石から成る上記の円板状弁体で複数の貫通穴８ａ
を有すると共に中央部で上記ガイド棒７に上下可
動状態に支承されている。９は上記ガイド棒７に
巻装されたスプリングで上記弁体８を常時弁座４
に当接する方向に押している。
第２図は上記流体通路Ａ内に通る流体１０の温
度変化に応じてその磁力が変化する（温度が上昇
するにつれ磁力が低下する）上記弁体８の特性を
示すもので、例えば上記流体１０の温度が所定の
設定値より低い時は弁体８と弁座４は密着し合
い、これによつて流体通路が最も狭くなつてい
る。
度変化に応じてその磁力が変化する（温度が上昇
するにつれ磁力が低下する）上記弁体８の特性を
示すもので、例えば上記流体１０の温度が所定の
設定値より低い時は弁体８と弁座４は密着し合
い、これによつて流体通路が最も狭くなつてい
る。
この状態で弁体８に設けられている貫通穴８ａ
を通る流体１０の温度が上昇しはじめると弁体８
の吸着力が低下し、スプリング５の押圧力によつ
て弁体８は弁座４から離れはじめその間隙から、
この弁体８の外周面と流通管２の内壁面テーパー
部２ｂに生じた隙間を通して流体１０が流れる。
このような温度による弁体の上下動作のくりかえ
しによつて、この弁体８がその時の流通流体の温
度と流量に応じた所定位置に停止するようになつ
ている。
を通る流体１０の温度が上昇しはじめると弁体８
の吸着力が低下し、スプリング５の押圧力によつ
て弁体８は弁座４から離れはじめその間隙から、
この弁体８の外周面と流通管２の内壁面テーパー
部２ｂに生じた隙間を通して流体１０が流れる。
このような温度による弁体の上下動作のくりかえ
しによつて、この弁体８がその時の流通流体の温
度と流量に応じた所定位置に停止するようになつ
ている。
しかしながらこの従来の流量制御弁では上記の
ように弁体８が流通路Ａ中の中央に設けられてい
るため、流体１０の流量、流速が増加してその動
圧エネルギー分が増加すると、これによつて弁体
８の正面に渦が生じ弁体に動作むらが生ずる欠点
があつた。
ように弁体８が流通路Ａ中の中央に設けられてい
るため、流体１０の流量、流速が増加してその動
圧エネルギー分が増加すると、これによつて弁体
８の正面に渦が生じ弁体に動作むらが生ずる欠点
があつた。
この考案は上記した従来の欠点を解消するため
になされたもので、以下この考案の一実施例を第
３図によつて説明する。すなわち第３図中第１図
のものと同一個所は同一符号で示しているが、こ
の考案の場合は図中１１で示すように弁体８の正
面流体流入側に、先細部を正面側にした円錐形の
ガイド板をその脚部１１ａで一体に固着させてい
る点に特徴を有するものである。
になされたもので、以下この考案の一実施例を第
３図によつて説明する。すなわち第３図中第１図
のものと同一個所は同一符号で示しているが、こ
の考案の場合は図中１１で示すように弁体８の正
面流体流入側に、先細部を正面側にした円錐形の
ガイド板をその脚部１１ａで一体に固着させてい
る点に特徴を有するものである。
この考案の自動流量制御弁は以上のように構成
されているので流体の流量・流速が増加した弁体
の開放状態ではその正面ガイド板により弁座との
隙間を通る当該流体の流通抵抗が低下し、弁体の
正面に従来のもののように渦を生ずることがな
く、弁体の動作むらもなくなる等の利点を有する
ものである。
されているので流体の流量・流速が増加した弁体
の開放状態ではその正面ガイド板により弁座との
隙間を通る当該流体の流通抵抗が低下し、弁体の
正面に従来のもののように渦を生ずることがな
く、弁体の動作むらもなくなる等の利点を有する
ものである。
第１図は従来の自動流量制御弁を示す断面図、
第２図は弁体の磁力と温度との関係を示す特性
図、第３図は本考案の自動流量制御弁を示す断面
図である。なお図中Ａは流体通路、４は弁座、８
は弁体、１０は流体、１１はそのガイド板を示
す。その他図中同一符号は同一または相当部分を
示すものとする。
第２図は弁体の磁力と温度との関係を示す特性
図、第３図は本考案の自動流量制御弁を示す断面
図である。なお図中Ａは流体通路、４は弁座、８
は弁体、１０は流体、１１はそのガイド板を示
す。その他図中同一符号は同一または相当部分を
示すものとする。
Claims (1)
- 内側に流体通路を形成した筒状の強磁性体より
成る弁座、および、この流体通路内を通る流体の
温度変化に応じて上記弁座への吸着力を変化する
永久磁石から成り、この吸着力によつて上記弁座
の端部に密着して上記流体通路を閉じ、上記吸着
力の低下に応じ上記弁座と離隔して生ずる環状間
隙で上記流体通路を開放する円板状弁体を備え、
この弁体の正面流体流入側に、それの開放時に生
ずる上記環状間隙へ当該流体を案内する、先細部
を正面側にした略円錐形のガイド板を固着したこ
とを特徴とする自動流量制御弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6767382U JPS58170470U (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 自動流量制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6767382U JPS58170470U (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 自動流量制御弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58170470U JPS58170470U (ja) | 1983-11-14 |
| JPS6221195Y2 true JPS6221195Y2 (ja) | 1987-05-29 |
Family
ID=30077489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6767382U Granted JPS58170470U (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 自動流量制御弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58170470U (ja) |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP6767382U patent/JPS58170470U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58170470U (ja) | 1983-11-14 |
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