JPS62208052A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真複写機、レーザービームプリンター
、CRTプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関する。
、CRTプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関する。
電子写真感光体の光導電材料としてセレン、硫化カドミ
ウム、酸化亜鉛などの無機光導電材料が従来より用いら
れている。一方ポリビニルカルバゾール、オキサジアゾ
ール、フタロシアニンなどのを曙光導電材料は無機光導
電材料に較べて無公害性、高生産性などの利点があり広
く利用されている。
ウム、酸化亜鉛などの無機光導電材料が従来より用いら
れている。一方ポリビニルカルバゾール、オキサジアゾ
ール、フタロシアニンなどのを曙光導電材料は無機光導
電材料に較べて無公害性、高生産性などの利点があり広
く利用されている。
一方、電子写真感光体には、当然のことであるが、適用
される電子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性
、更には光学特性を備えていることが要求される。特に
繰返し使用可能な感光体にあってはその感光体の表面層
、即ち基体より最も離隔する層にはコロナ帯電、トナー
現像、紙への転写、クリーニング処理などの電気的機械
的外力が直接に加えられるため、それらに対する耐久性
が要求される。具体的には、コロナ帯電時に発生するオ
ゾンによる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位
増加、および摺擦による表面の摩耗や傷の発生などに対
する耐久性が要求されている。
される電子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性
、更には光学特性を備えていることが要求される。特に
繰返し使用可能な感光体にあってはその感光体の表面層
、即ち基体より最も離隔する層にはコロナ帯電、トナー
現像、紙への転写、クリーニング処理などの電気的機械
的外力が直接に加えられるため、それらに対する耐久性
が要求される。具体的には、コロナ帯電時に発生するオ
ゾンによる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位
増加、および摺擦による表面の摩耗や傷の発生などに対
する耐久性が要求されている。
又、紙との接触による紙粉の付着は、高湿下での画像流
れの原因の一つとなり、又、トナーのフィルミングやク
リーニング不良による残留トナーは、得られる画像を著
しく損ねるものであり、従って、これらに汚染されにく
くかつ容易に除去されやすい感光体表面を形成させるこ
とが要求されている。
れの原因の一つとなり、又、トナーのフィルミングやク
リーニング不良による残留トナーは、得られる画像を著
しく損ねるものであり、従って、これらに汚染されにく
くかつ容易に除去されやすい感光体表面を形成させるこ
とが要求されている。
従来より前記欠点を解決すべく種々の方法が提案されて
いる。その一つとして、ボリアリレート系樹脂を表面層
のバインダーとして用いることが検討されている。ボリ
アリレート系樹脂は、耐摩耗性が良好のためボリアリレ
ート系樹脂を表面層のバインダーとして用いた感光体で
は機械的外力に対する耐久性は大巾に改善される。しか
しながら、表面層の削れ量が減少するため、付着した紙
粉や残留トナーのピ゛リーニング性が不良となり、逆に
画質の劣化を引き起こすことになる。これを改良すべく
表面層に潤滑性及び離型性を付与させ、紙粉や残留トナ
ーが付着しにくくかつクリーニング性やすいことが試み
られている。その手段として、一般的な塗膜表面改質剤
、すなわちレベリング剤、シリコーンオイル等の添加や
テフロン粉末等を分散させる方法がある。
いる。その一つとして、ボリアリレート系樹脂を表面層
のバインダーとして用いることが検討されている。ボリ
アリレート系樹脂は、耐摩耗性が良好のためボリアリレ
ート系樹脂を表面層のバインダーとして用いた感光体で
は機械的外力に対する耐久性は大巾に改善される。しか
しながら、表面層の削れ量が減少するため、付着した紙
粉や残留トナーのピ゛リーニング性が不良となり、逆に
画質の劣化を引き起こすことになる。これを改良すべく
表面層に潤滑性及び離型性を付与させ、紙粉や残留トナ
ーが付着しにくくかつクリーニング性やすいことが試み
られている。その手段として、一般的な塗膜表面改質剤
、すなわちレベリング剤、シリコーンオイル等の添加や
テフロン粉末等を分散させる方法がある。
しかしながら、これら一般的な表面改質剤は、添加され
る塗工液の成分との相溶性に乏しいため、長期使用の間
に表面層の上に移行ないし滲み出してくるので効果の持
続性に難点があった。また、表面層自体が光導電層を形
成している場合、表面改質剤が光導電性物質との相溶性
に乏しく、さらに光生成によるキャリヤーの移動に対し
てトラップとなり易く、繰返し電子写真プロセスにより
残留電荷が増大していく傾向があった。一方テフロン粉
末などを分散させた表面層においては分散性不良、透明
性低下、キャリヤーのトラップなどの問題を生じていた
。
る塗工液の成分との相溶性に乏しいため、長期使用の間
に表面層の上に移行ないし滲み出してくるので効果の持
続性に難点があった。また、表面層自体が光導電層を形
成している場合、表面改質剤が光導電性物質との相溶性
に乏しく、さらに光生成によるキャリヤーの移動に対し
てトラップとなり易く、繰返し電子写真プロセスにより
残留電荷が増大していく傾向があった。一方テフロン粉
末などを分散させた表面層においては分散性不良、透明
性低下、キャリヤーのトラップなどの問題を生じていた
。
本発明は、従来の問題点を解決して、表面の潤滑性及び
離型性に優れ、クリーニング性が極めて良好で且つ繰返
し耐久性が優れ、表面層の損傷が少ない電子写真感光体
を提供することを目的としている。
離型性に優れ、クリーニング性が極めて良好で且つ繰返
し耐久性が優れ、表面層の損傷が少ない電子写真感光体
を提供することを目的としている。
本発明の別の目的は繰返し電子写真プロセスにおいて残
留電荷の蓄積がなく常に高品位の画像が得られる電子写
真感光体を提供することにある。
留電荷の蓄積がなく常に高品位の画像が得られる電子写
真感光体を提供することにある。
本発明は電子写真感光体の、少なくとも基体より最も離
隔する層に、特定のシリ−コン系クシ型グラフトポリマ
ーとボリアリレート系樹脂とを含有させることによって
上記目的を達成しようとするものである。
隔する層に、特定のシリ−コン系クシ型グラフトポリマ
ーとボリアリレート系樹脂とを含有させることによって
上記目的を達成しようとするものである。
すなわち、本発明は一般式(I)
II
R2R4
(式中、R+ 、Rz 、R3、Ra 、Rsは置換基
を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、n
は平均重合度を示す。) 及び/又は一般式(II) Rh ■ HO−f S i Oh−H(IF )Rマ (式中、Rh、R1は置換基を有してもよいアルキル基
またはアリール基を示し、nは平均重合度を示す。) で示されるシリコーンと少なくとも一般式(II)(式
中、Rs 、Ra 、RIoは水素原子、ハロゲン原子
、置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を
示し、R8は置換基を有してもよいアルキル基または了
り−ル基を示し、Xはハロゲン原子、置換基を有しても
よいアルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。) で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーとボリアリレート系樹脂を、少なくとも
基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴とする
電子写真感光体である。
を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、n
は平均重合度を示す。) 及び/又は一般式(II) Rh ■ HO−f S i Oh−H(IF )Rマ (式中、Rh、R1は置換基を有してもよいアルキル基
またはアリール基を示し、nは平均重合度を示す。) で示されるシリコーンと少なくとも一般式(II)(式
中、Rs 、Ra 、RIoは水素原子、ハロゲン原子
、置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を
示し、R8は置換基を有してもよいアルキル基または了
り−ル基を示し、Xはハロゲン原子、置換基を有しても
よいアルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。) で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーとボリアリレート系樹脂を、少なくとも
基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴とする
電子写真感光体である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明で用いられるシリコーン系クシ型グラフトポリマ
ーは下記一般式(I)および/または一般式(n)で示
されるシリコーンと少なくとも下記一般式(I[[)と
の縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基
を有する化合物を共重合して得られるものであり、主鎖
に対して変性シリコーンからなるシリコーンを含有する
側鎖基が枝状に結合した構造を有している。
ーは下記一般式(I)および/または一般式(n)で示
されるシリコーンと少なくとも下記一般式(I[[)と
の縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基
を有する化合物を共重合して得られるものであり、主鎖
に対して変性シリコーンからなるシリコーンを含有する
側鎖基が枝状に結合した構造を有している。
一般式(1)
%式%
但し、R+ 、Rz、R2,Rs、Rsは置換基を有し
てもよいアルキル基またはアリール基を示し、nは平均
重合度を示す。
てもよいアルキル基またはアリール基を示し、nは平均
重合度を示す。
一般式(n)
HO−+310升−H
但し、Rh、R’tは置換基を有してもよいアルキル基
またはアリール基を示し、nは平均重合度を示す。
またはアリール基を示し、nは平均重合度を示す。
一般式(III)
R1
但し、Re 、R9、R+。は水素原子、ハロゲン原子
、置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を
示し、R1+は置換基を有してもよいアルキル基または
アリール基を示し、Xはハロゲン原子、置換基を有して
もよいアルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。
、置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を
示し、R1+は置換基を有してもよいアルキル基または
アリール基を示し、Xはハロゲン原子、置換基を有して
もよいアルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。
前記一般式(I)および(II)式中、RI+ R2゜
R2,Ra、Rs、R&およびR叩は、具体的には、メ
チル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基また
はフェニル、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基などの置換基を有してもよい。
R2,Ra、Rs、R&およびR叩は、具体的には、メ
チル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基また
はフェニル、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基などの置換基を有してもよい。
好ましくはメチル基、フェニル基である。
nは平均重合度を示し、1〜1000の範囲、好ましく
は10〜500の範囲である。
は10〜500の範囲である。
一般式(III)の式中、R1,R9およびR1゜は、
具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
どハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどのアリー
ル基であり、ハロゲン原子、低級アルキル基などの置換
基を有してもよい。好ましくは水素原子である。
具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
どハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどのアリー
ル基であり、ハロゲン原子、低級アルキル基などの置換
基を有してもよい。好ましくは水素原子である。
R8は、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ルなどのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどのア
リール基であり、ハロゲン原子などの置換基を有しても
よい。好ましくはメチル基、 2フエニル基である。
ルなどのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどのア
リール基であり、ハロゲン原子などの置換基を有しても
よい。好ましくはメチル基、 2フエニル基である。
Xは具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などハロゲン原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシなどのアルコキシ基であり、低級アルコキシ
基などの置換基を有してもよい。好ましくはメトキシ基
、エトキシ基、2−メトキシ−エトキシ基である。
3mは1〜3の整数である。
素などハロゲン原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシなどのアルコキシ基であり、低級アルコキシ
基などの置換基を有してもよい。好ましくはメトキシ基
、エトキシ基、2−メトキシ−エトキシ基である。
3mは1〜3の整数である。
一般式(1)〜(I[[)の具体例を以下に示す。
一般式(1)の具体例
隘
Ct Hs Cz Hs
CHx CHs
C1
一般式(II)の具体例
階
CH。
26 HO−+S i Oh−HHff
2HS
薯
27 H0−fS t Oh−HC2f(。
Cs H”r
28 HO−+ S i Oh−HCz H
り Ca Hq ■ 29 HO→S i Oh−HC4H。
り Ca Hq ■ 29 HO→S i Oh−HC4H。
H3
30HO→SiO:FVH
C,H。
H3
31HO−+ S i Oh−H
CゴH)
Ct Hs
32 HO−+ S i Oh−HCa
H9 C4Hs C1 33HO−f S i O計H CaHec tt Hx 34 HO−+SiO皓−HC2H4C1 CH’s ■ ― Cz Hs r ■ 一般式(I[r)の具体例 I HOCH3 H0CzHs I HOCsHr HOCH。
H9 C4Hs C1 33HO−f S i O計H CaHec tt Hx 34 HO−+SiO皓−HC2H4C1 CH’s ■ ― Cz Hs r ■ 一般式(I[r)の具体例 I HOCH3 H0CzHs I HOCsHr HOCH。
HCI
I
HOCtHs
61 C=C−3i−C1HCtHs
H0CH3
63C”CSt 0CzHs
HOCzHs
HHCH。
ll
HCH3
HF
67 C=== CSt 0Cz
HsI HOCzHs )I CzHs OCHs II 1 H0CH3 HOc2H。
HsI HOCzHs )I CzHs OCHs II 1 H0CH3 HOc2H。
HC!
H0CJnOCIh
I
Hoc411aOcglls
I
H0CJnOCIIs
HOCJ*0CII+
一般式(1)および/または一般式(II)で示される
シリコーンと、少なくとも下記一般式(DI)との縮合
反応は、通常の有機化学反応操作に従いきわめて円滑に
進行し、クシ型グラフトポリマーの合成方法が開示され
ている特開昭58−167606、特開昭59−126
478に従いその反応モル比や反応条件を適当に制御す
る事により安定な変性シリコーンを得ることができる。
シリコーンと、少なくとも下記一般式(DI)との縮合
反応は、通常の有機化学反応操作に従いきわめて円滑に
進行し、クシ型グラフトポリマーの合成方法が開示され
ている特開昭58−167606、特開昭59−126
478に従いその反応モル比や反応条件を適当に制御す
る事により安定な変性シリコーンを得ることができる。
例えば、一般式(III)で示される化合物のXが塩素
原子の場合、一般式(I)および/または(n)のシリ
コーン化合物とアミン類等の酸受容体をテトラヒドロフ
ランやアセトン等の適当な溶媒に10〜50TXf%の
濃度で溶解した溶液に一般式(III)の化合物または
その溶液を室温で滴下する。反応後、生成した酸受容体
塩酸塩を口別、除去し、その後必要に応じて水洗を行な
い、溶媒を蒸発させれば目的とする変形シリコーンを得
ることができる。
原子の場合、一般式(I)および/または(n)のシリ
コーン化合物とアミン類等の酸受容体をテトラヒドロフ
ランやアセトン等の適当な溶媒に10〜50TXf%の
濃度で溶解した溶液に一般式(III)の化合物または
その溶液を室温で滴下する。反応後、生成した酸受容体
塩酸塩を口別、除去し、その後必要に応じて水洗を行な
い、溶媒を蒸発させれば目的とする変形シリコーンを得
ることができる。
重合性官能基を有する化合物としては、ケイ素原子を持
たない重合性の単量体もしくは末端に重合性の官能基を
有する分子量が1000から10000程度の比較的低
分子量の重合体からなるマクロ七ツマー等が挙げられる
。重合性単量体としては、オレフィン系化合物の例とし
てエチレン、プロピレン、ブチレンの如き低分子量直鎖
状不飽和炭化水素、塩化ビニル及びフン化ビニルの如き
ハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエ
ステル、スチレン、スチレン置換体並びにビニルピリジ
ン及びビニルナフタレンの如きその他のビニル芳香族化
合物、アクリル酸、メタクリル酸、並びにそれらのエス
テル、アミド及びアクリロニトリルを含むアクリル酸、
メタクリル酸の誘導体、N−ビニルカルバゾール、N−
ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如き
N−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビ
ニルケイ素化合物等があげられる。ジ置換エチレンも使
用でき、その例としてフッ化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン等をあげることができ、又無水マレイン酸、マレイン
酸及びフマル酸のエステル等もあげることができる。
たない重合性の単量体もしくは末端に重合性の官能基を
有する分子量が1000から10000程度の比較的低
分子量の重合体からなるマクロ七ツマー等が挙げられる
。重合性単量体としては、オレフィン系化合物の例とし
てエチレン、プロピレン、ブチレンの如き低分子量直鎖
状不飽和炭化水素、塩化ビニル及びフン化ビニルの如き
ハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエ
ステル、スチレン、スチレン置換体並びにビニルピリジ
ン及びビニルナフタレンの如きその他のビニル芳香族化
合物、アクリル酸、メタクリル酸、並びにそれらのエス
テル、アミド及びアクリロニトリルを含むアクリル酸、
メタクリル酸の誘導体、N−ビニルカルバゾール、N−
ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如き
N−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビ
ニルケイ素化合物等があげられる。ジ置換エチレンも使
用でき、その例としてフッ化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン等をあげることができ、又無水マレイン酸、マレイン
酸及びフマル酸のエステル等もあげることができる。
特に、ボリアリレート系樹脂との親和性から、アクリル
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン系等
が好ましい。
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン系等
が好ましい。
又、重合性単量体は単独又は2種類以上の重合性単量体
を組み合わせて使用できる。
を組み合わせて使用できる。
重合性マクロモノマーは、例えば、メタクリル酸メチル
をチオグリコール酸共存下にラジカル重合させて分子量
1000〜10000の片末端カルボン酸プレポリマー
を得、これをメタクリル酸グリシジルと反応させること
により得ることができる。
をチオグリコール酸共存下にラジカル重合させて分子量
1000〜10000の片末端カルボン酸プレポリマー
を得、これをメタクリル酸グリシジルと反応させること
により得ることができる。
シリコーン系クシ型グラフトポリマーの重合法としては
溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法等のラジカル重
合やイオン重合が適用できるが、溶液重合法によるラジ
カル重合が筒便で好ましい。
溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法等のラジカル重
合やイオン重合が適用できるが、溶液重合法によるラジ
カル重合が筒便で好ましい。
共重合比はシリコーン系単量体の含有率として5〜90
重量%が好ましく、10〜70重量%が更に好ましい。
重量%が好ましく、10〜70重量%が更に好ましい。
得られた重合体の分子量は数平均分子量として500か
ら100000、特に1000から50000が好まし
い。
ら100000、特に1000から50000が好まし
い。
本発明におけるシリコーン系クシ型グラフトポリマーは
かかる構造を有しているので本発明に係る表面層形成用
のバインダー樹脂として、ポリカーボネート系樹脂を含
有する塗工液に対する相溶性がすぐれており、従って得
られる塗膜は良好な透明性を有し、かつ本発明に係る表
面層上への移行ないし滲み出しをおこすことなく効果の
持続性を有するものであり、またシリコーン含有の技の
部分は界面移行性がすぐれているので少量の添加により
表面の改質が達成される。更にこの添加剤を表面層に含
有させてもくり返し電子写真プロセスによる残留電荷の
蓄積がなく安定した帯電特性が得られる。
かかる構造を有しているので本発明に係る表面層形成用
のバインダー樹脂として、ポリカーボネート系樹脂を含
有する塗工液に対する相溶性がすぐれており、従って得
られる塗膜は良好な透明性を有し、かつ本発明に係る表
面層上への移行ないし滲み出しをおこすことなく効果の
持続性を有するものであり、またシリコーン含有の技の
部分は界面移行性がすぐれているので少量の添加により
表面の改質が達成される。更にこの添加剤を表面層に含
有させてもくり返し電子写真プロセスによる残留電荷の
蓄積がなく安定した帯電特性が得られる。
本発明で用いられるポリカーボネート系樹脂は、下記一
般式(IV)で示される繰り返し単位の1種又は2種以
上を成分とする線状ポリマーを含有するものである。
般式(IV)で示される繰り返し単位の1種又は2種以
上を成分とする線状ポリマーを含有するものである。
一般式(IV)
但し、式中R12及びR1ffはそれぞれ水素原子、ア
ルキル基又はアリール基であり、具体的には、メチル、
エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル
、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲン原子、低
級アルキル基などの置換基を有してもよい。又、R1□
とR13とで結合している炭素原子と共に環状構造を形
成してもよく、具体的にシクロヘキシル環やラクトン構
造が挙げられる。
ルキル基又はアリール基であり、具体的には、メチル、
エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル
、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲン原子、低
級アルキル基などの置換基を有してもよい。又、R1□
とR13とで結合している炭素原子と共に環状構造を形
成してもよく、具体的にシクロヘキシル環やラクトン構
造が挙げられる。
X+ 、X2.Xs及びX4は、具体的には水素原子、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、シク
ロヘキシルなどの脂環アルキル基、フェニル、ナフチル
などのアリール基、メトキシ、エトキシなどのアルコキ
シ基などである。
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、シク
ロヘキシルなどの脂環アルキル基、フェニル、ナフチル
などのアリール基、メトキシ、エトキシなどのアルコキ
シ基などである。
本発明に用いられるボリアリレート系樹脂は、例えば下
記一般式(V)で示されるジオール化合物の1種又は2
種以上を用い、テレフタル酸塩化物法等の一般的なボリ
アリレート合成法により得ることができる。
記一般式(V)で示されるジオール化合物の1種又は2
種以上を用い、テレフタル酸塩化物法等の一般的なボリ
アリレート合成法により得ることができる。
一般式(V)
X、 X。
但し、式中R1□及びR13はそれぞれ水素原子、アル
キル基又は了り−ル基であり、具体的には、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル、
ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲン原子、低級
アルキル基などの置換基を有してもよい。又、R,□と
R1ffとで結合している炭素原子と共に環状構造を形
成してもよく、具体向にシクロヘキシル環やラクトン構
造が挙げられる。
キル基又は了り−ル基であり、具体的には、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル、
ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲン原子、低級
アルキル基などの置換基を有してもよい。又、R,□と
R1ffとで結合している炭素原子と共に環状構造を形
成してもよく、具体向にシクロヘキシル環やラクトン構
造が挙げられる。
X+ 、Xz 、Xz及びX4は、具体的には水素原子
、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、メ
チル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、シ
クロヘキシルなどの脂環アルキル基、フェニル、ナフチ
ルなどのアリール基、メトキシ、エトキシなどのアルコ
キシ基などである。
、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、メ
チル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基、シ
クロヘキシルなどの脂環アルキル基、フェニル、ナフチ
ルなどのアリール基、メトキシ、エトキシなどのアルコ
キシ基などである。
本発明で使用する前記ジオール化合物の代表的具体例を
以下に構造式によって示す。
以下に構造式によって示す。
一般式(V)の具体例
構 造 式
:
%式%
CH。
C1(1I
CH。
CH。
CH3
COOC4Hq
CH3
COCH3
シリコーン系クシ型グラフトポリマーの添加量は表面層
の固形分重量にもとづいて0.01〜10%が適当であ
り、特に0.05〜5%が好ましい。
の固形分重量にもとづいて0.01〜10%が適当であ
り、特に0.05〜5%が好ましい。
添加量が0.01%未満では十分な表面改質効果が得ら
れず、一方10%をこえるとグラフトポリマーが塗膜表
面だけでなくバルク中にも存在するようになるため表面
層の主成分である樹脂や光導電性物質との相溶性の問題
から白化をひきおこしたり、繰返し電子写真プロセスを
行なったとき残留電荷の蓄積が生じてくる。
れず、一方10%をこえるとグラフトポリマーが塗膜表
面だけでなくバルク中にも存在するようになるため表面
層の主成分である樹脂や光導電性物質との相溶性の問題
から白化をひきおこしたり、繰返し電子写真プロセスを
行なったとき残留電荷の蓄積が生じてくる。
本発明の電子写真感光体を製造する場合、基体としては
、アルミニウム、ステンレスなどの金属、紙、プラスチ
ックなどの円筒状シリンダーまたはフィルムが用いられ
る。これらの基体の上には、バリアー機能と下引機能を
もつ下引層(接着層)を設けることができる。
、アルミニウム、ステンレスなどの金属、紙、プラスチ
ックなどの円筒状シリンダーまたはフィルムが用いられ
る。これらの基体の上には、バリアー機能と下引機能を
もつ下引層(接着層)を設けることができる。
下引層は感光層の接着性改良、塗工性改良、基体の保護
、基体上の欠陥の被覆、基体からの電荷注入性改良、感
光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される
。下引層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ
−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エ
チルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ
ル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合ナイロ
ン、ニカワ、ゼラチン、等が知られている。これらはそ
れぞれに適した溶剤に溶解されて基体上に塗布される。
、基体上の欠陥の被覆、基体からの電荷注入性改良、感
光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される
。下引層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ
−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エ
チルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ
ル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合ナイロ
ン、ニカワ、ゼラチン、等が知られている。これらはそ
れぞれに適した溶剤に溶解されて基体上に塗布される。
その膜厚は0.2〜2μ程度である。
電荷発生物質としては、ピリリウム、チオピリリウム系
染料、フタロシアニン系顔料アントアントロン顔料、ジ
ベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスア
ゾ顔料、ジスアゾ顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナ
クリドン系顔料、非対称キノシアニン、キノシアニンな
どを用いることができる。電荷輸送物質としては、ピレ
ン、N−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカルバ
ゾール、N−メチル−N−フェニルヒドラジノ−3−メ
チリデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフェニ
ルヒドラジノ−3−メチリデン−9=エチルカルバゾー
ル、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−
10−エチルフェノチアジン、N、N−ジフェニルヒド
ラジノ−3−メチリデン−10−エチルフェノキサジン
、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N、N−ジフ
ェニルヒドラゾン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒ
ド−N−α−ナフチル−N−フェニルヒドラゾン、p−
ピロリジノベンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒド
ラゾン、1,3.3−トリメチルインドレニン−ω−ア
ルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエチ
ルベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾリノン−
2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2,5−ビス(p−
ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール、1−フェニル−3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−〔キノリル(2)) −3−(p−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−〔ピリジル(2)) −3−(p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、1−〔6−メドキシーピリジル(2
)) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(
p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−(ピリ
ジル(3)) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−〔レピジル(2)) −3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ピリジル(2)〕−3−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−4−メチル−5−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2))−3
−(α−メチル−p−ジエチルアミノスチリル)−5(
p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニ
ル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル
−5τ(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−フェニル−3−(α−ベンジル−p−ジエチルアミノ
スチリル) −5(p−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン類、2−(
p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチルアミノベ
ンズオキサゾール、2− (p−ジエチルアミノフェニ
ル)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)−5−(2
−クロロフェニル)オキサゾール等のオキサゾール系化
合物、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニ
チルアミノヘンズオキサゾール等のチアゾール系化合物
、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−
フェニルメタン等のトリアリールメタン系化合物、1,
1−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−2−メチルフ
ェニル)へブタン、1,1,2.2−テトラキス(4−
N、N−ジェノルアミノ−2−メチルフェニル)エタン
等のボリアリールアルカン類などを用いることができる
。
染料、フタロシアニン系顔料アントアントロン顔料、ジ
ベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスア
ゾ顔料、ジスアゾ顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナ
クリドン系顔料、非対称キノシアニン、キノシアニンな
どを用いることができる。電荷輸送物質としては、ピレ
ン、N−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカルバ
ゾール、N−メチル−N−フェニルヒドラジノ−3−メ
チリデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフェニ
ルヒドラジノ−3−メチリデン−9=エチルカルバゾー
ル、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−
10−エチルフェノチアジン、N、N−ジフェニルヒド
ラジノ−3−メチリデン−10−エチルフェノキサジン
、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N、N−ジフ
ェニルヒドラゾン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒ
ド−N−α−ナフチル−N−フェニルヒドラゾン、p−
ピロリジノベンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒド
ラゾン、1,3.3−トリメチルインドレニン−ω−ア
ルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエチ
ルベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾリノン−
2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2,5−ビス(p−
ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール、1−フェニル−3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−〔キノリル(2)) −3−(p−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−〔ピリジル(2)) −3−(p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、1−〔6−メドキシーピリジル(2
)) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(
p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−(ピリ
ジル(3)) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−〔レピジル(2)) −3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ピリジル(2)〕−3−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−4−メチル−5−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2))−3
−(α−メチル−p−ジエチルアミノスチリル)−5(
p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニ
ル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル
−5τ(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−フェニル−3−(α−ベンジル−p−ジエチルアミノ
スチリル) −5(p−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン類、2−(
p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチルアミノベ
ンズオキサゾール、2− (p−ジエチルアミノフェニ
ル)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)−5−(2
−クロロフェニル)オキサゾール等のオキサゾール系化
合物、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニ
チルアミノヘンズオキサゾール等のチアゾール系化合物
、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−
フェニルメタン等のトリアリールメタン系化合物、1,
1−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−2−メチルフ
ェニル)へブタン、1,1,2.2−テトラキス(4−
N、N−ジェノルアミノ−2−メチルフェニル)エタン
等のボリアリールアルカン類などを用いることができる
。
本発明の感光体は以下に示す方法等により調製できる。
前記の電荷発生物質を0.3〜10倍量のボリアリレー
ト樹脂および溶剤と共に、ホモジナイザー、超音波、ボ
ールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター
、ロールミルなどの方法でよく分散する。次に本発明に
係るシリコーン系クシ型グラフトポリマーと前記の電荷
輸送物質を溶解し、基体上に塗布される。電荷輸送物質
とボリアリレート樹脂との混合il1合は2:1〜1:
2程度である。溶剤としては、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどの
エステル類、+−ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素類、クロルベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素など
の塩素系炭化水素類などが用いられる。この溶液を塗布
する際には、例えば浸漬コーティング法、スプレーコー
ティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーテ
ィング法、ブレードコーティング法、カーテンコーティ
ング法などのコーティング法を用いることができ、乾燥
は10℃〜200℃、好ましくは20℃〜150℃の範
囲の温度で5分〜5時間、好ましくは10分〜2時間の
時間で送風乾燥または静止乾燥下で行なうことができる
。生成した感光層の膜厚は5〜20μ程度である。
ト樹脂および溶剤と共に、ホモジナイザー、超音波、ボ
ールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター
、ロールミルなどの方法でよく分散する。次に本発明に
係るシリコーン系クシ型グラフトポリマーと前記の電荷
輸送物質を溶解し、基体上に塗布される。電荷輸送物質
とボリアリレート樹脂との混合il1合は2:1〜1:
2程度である。溶剤としては、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどの
エステル類、+−ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素類、クロルベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素など
の塩素系炭化水素類などが用いられる。この溶液を塗布
する際には、例えば浸漬コーティング法、スプレーコー
ティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーテ
ィング法、ブレードコーティング法、カーテンコーティ
ング法などのコーティング法を用いることができ、乾燥
は10℃〜200℃、好ましくは20℃〜150℃の範
囲の温度で5分〜5時間、好ましくは10分〜2時間の
時間で送風乾燥または静止乾燥下で行なうことができる
。生成した感光層の膜厚は5〜20μ程度である。
以下、本発明を実施例に従って説明する。
以下の実施例で用いたシリ−コン系クシ型グラフトポリ
マー(試料Nll a % O)はクシ型グラフトポリ
マーの合成方法が開示されている特開昭58−1676
06、特開昭59−126478に準じて合成したもの
である。具体的には、前述の合成法にて合成した変性シ
リコーンとスチレンやメチルメタクリレート等の重合性
不飽和結合含有単量体を、アゾビスイソブチロニトリル
等のラジカル重合開始剤の存在下でトルエン等の溶剤中
で溶液重合を行うことにより得られる。反応温度は好ま
しくは60〜90℃、反応時間は好ましくは10〜25
時間である。
マー(試料Nll a % O)はクシ型グラフトポリ
マーの合成方法が開示されている特開昭58−1676
06、特開昭59−126478に準じて合成したもの
である。具体的には、前述の合成法にて合成した変性シ
リコーンとスチレンやメチルメタクリレート等の重合性
不飽和結合含有単量体を、アゾビスイソブチロニトリル
等のラジカル重合開始剤の存在下でトルエン等の溶剤中
で溶液重合を行うことにより得られる。反応温度は好ま
しくは60〜90℃、反応時間は好ましくは10〜25
時間である。
反応終了後内容物を大量のメタノール中に投入し、ポリ
マーを析出させ、日別後乾燥し、目的物を得る。その組
成は表1に示す如くである。
マーを析出させ、日別後乾燥し、目的物を得る。その組
成は表1に示す如くである。
合成したシリコーン型グラフトポリマーの構造を、試料
maおよびhについて代表例として以下に示す。
maおよびhについて代表例として以下に示す。
試料a
AI BI
n=平均=30
P+l q+:正の整数
A、/B、: 30/70 (重量比)試料り
本発明で用いるボリアリレートは一般式(V)で示され
るビスフェノール類とテレフタル酸塩化物によって合成
される。
るビスフェノール類とテレフタル酸塩化物によって合成
される。
具体的には、ビスフェノール類1.0モルを1モルの水
酸化ナトリウム水溶液に溶解し、界面活性剤を加えて激
しく攪拌しながら、テレフタル酸塩化物1.0モルをク
ロロホルムに溶解した溶液を加える。攪拌を続けたのち
、得られた乳濁液をアセトン中に注いでポリマーを析出
させ、これを充分水洗後濾別し、加熱乾燥後白色ポリマ
ーが得られる。
酸化ナトリウム水溶液に溶解し、界面活性剤を加えて激
しく攪拌しながら、テレフタル酸塩化物1.0モルをク
ロロホルムに溶解した溶液を加える。攪拌を続けたのち
、得られた乳濁液をアセトン中に注いでポリマーを析出
させ、これを充分水洗後濾別し、加熱乾燥後白色ポリマ
ーが得られる。
実施例1
ニューシーラント産うクチックカゼインを10部(重量
部、以下同様)計りとり、水90部に分散させた後、ア
ンモニア水1部を加えて溶解させた。一方、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロース樹脂(商品名:メトローズ6
0SH50、信越化学制)3部を水20部に溶解させ、
次いで両者を混合して下引き層の塗布液を作った。
部、以下同様)計りとり、水90部に分散させた後、ア
ンモニア水1部を加えて溶解させた。一方、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロース樹脂(商品名:メトローズ6
0SH50、信越化学制)3部を水20部に溶解させ、
次いで両者を混合して下引き層の塗布液を作った。
この液を80φX 300 n+のAβシリンダーに浸
漬法で塗布し、80℃で10分間乾燥させ、2μ厚の下
引き層を形成した。
漬法で塗布し、80℃で10分間乾燥させ、2μ厚の下
引き層を形成した。
光導電体としてε−銅フタロシアニン顔料2部、一般式
(V)の具体例阻85のビスフェノールを用いて前期ボ
リアリレートの合成法に準じて合成したボリアリレート
樹脂10部および1.2−ジクロルエタン60部を1φ
ガラスピーズを用いたサンドミル装置で20時間分散し
た。この液に試料111ilaのシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーを固形分として0.2部加えた。この分
散溶液を前記下引き層上に浸漬塗布し、100℃1時間
乾燥して19μの光導電層を形成した。これを試料1と
する。同様に試料Nl b w oのシリコーン系クシ
型グラフトポリマーを用いて調製した電子写真感光体を
試料2〜15とする。
(V)の具体例阻85のビスフェノールを用いて前期ボ
リアリレートの合成法に準じて合成したボリアリレート
樹脂10部および1.2−ジクロルエタン60部を1φ
ガラスピーズを用いたサンドミル装置で20時間分散し
た。この液に試料111ilaのシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーを固形分として0.2部加えた。この分
散溶液を前記下引き層上に浸漬塗布し、100℃1時間
乾燥して19μの光導電層を形成した。これを試料1と
する。同様に試料Nl b w oのシリコーン系クシ
型グラフトポリマーを用いて調製した電子写真感光体を
試料2〜15とする。
比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。
しないものを上記と同様にして作成した。
これを試料16とする。
これらの試料に対し、−5,5kV、コロナ帯電、画像
露光、乾式トナー現象、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレードによるクリーニングからなる電子写真プ
ロセスにて1oooo枚の耐久性評価を行なった。その
結果を下記表2に示した。
露光、乾式トナー現象、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレードによるクリーニングからなる電子写真プ
ロセスにて1oooo枚の耐久性評価を行なった。その
結果を下記表2に示した。
評価環境は32.5℃R1190%であった。
表2
実施例2
実施例1におけるボリアリレート樹脂に代えて、一般式
CV)の具体例11h90,93,94.101゜10
4.106,111などのビスフェノール類を用いて合
成した各々のボリアリレートを使用しても実施例1のボ
リアリレート樹脂の場合と同様の結果が得られた。
CV)の具体例11h90,93,94.101゜10
4.106,111などのビスフェノール類を用いて合
成した各々のボリアリレートを使用しても実施例1のボ
リアリレート樹脂の場合と同様の結果が得られた。
実施例3
下記構造式のジスアゾ顔料 3部、及び一般式(V)の
具体例患90のビスフェノールを用いて合成したボリア
リレート樹脂10部、モノクロルベンゼン50部を1φ
ガラスピーズを用いたサンドミル装置で20時間分散し
た。この液にi&料11haのシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーを固形分として0.2部、下記構造式のヒ
ドラゾン化合物lO部を加え溶解した。この分散溶液を
実施例1と同様にして作成した下引き層を有する基体上
に浸漬塗布し、100℃1時間乾燥して19μの光導電
層を形成した。これを試料17とする。
具体例患90のビスフェノールを用いて合成したボリア
リレート樹脂10部、モノクロルベンゼン50部を1φ
ガラスピーズを用いたサンドミル装置で20時間分散し
た。この液にi&料11haのシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーを固形分として0.2部、下記構造式のヒ
ドラゾン化合物lO部を加え溶解した。この分散溶液を
実施例1と同様にして作成した下引き層を有する基体上
に浸漬塗布し、100℃1時間乾燥して19μの光導電
層を形成した。これを試料17とする。
比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。
しないものを上記と同様にして作成した。
これを試料18とする。
これらの試料を実施例1と同一の条件下で耐久性評価を
行なった。その結果を表3に示す。
行なった。その結果を表3に示す。
表3
実施例4
実施例3におけるボリアリレート樹脂に代えて、一般式
(V)の具体例11h85,93,94,101゜10
4.106,111などのビスフェノール類を用いて合
成した各々のボリアリレートを使用しても実施例3のボ
リアリレート樹脂の場合と同様の結果が得られた。
(V)の具体例11h85,93,94,101゜10
4.106,111などのビスフェノール類を用いて合
成した各々のボリアリレートを使用しても実施例3のボ
リアリレート樹脂の場合と同様の結果が得られた。
比較例
シリコーン系クシ型ポリマーの代わりにシリコーンオイ
ル(商品名KF96信越シリコーン(株)製)を固形分
として1.0部を用いたほかは実施例1と同様に作成し
た試料を試料19とする。
ル(商品名KF96信越シリコーン(株)製)を固形分
として1.0部を用いたほかは実施例1と同様に作成し
た試料を試料19とする。
同様に上記のシリコーンオイル1.0部を用いるほかは
実施例3と同様に作成した試料を試料20とする。これ
らの試料を実施例1及び3と同様の条件下で耐久性評価
を行なったが、地力プリがはなはだしく、更にくり返し
コピーによってカブリの度合が大きくなった。また試料
19.20を作成して1か刃稜に観察するとシリコーン
オイルが表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方
、シリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料
においてはこの様な経時変化は認められず初期と同様の
外観、特性を示した。
実施例3と同様に作成した試料を試料20とする。これ
らの試料を実施例1及び3と同様の条件下で耐久性評価
を行なったが、地力プリがはなはだしく、更にくり返し
コピーによってカブリの度合が大きくなった。また試料
19.20を作成して1か刃稜に観察するとシリコーン
オイルが表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方
、シリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料
においてはこの様な経時変化は認められず初期と同様の
外観、特性を示した。
実施例5
次に試料Il&ll、17,19.20について−5,
5kVコロナ帯電器を有する電子写真複写機に取り付け
て、常温、常温下10000枚の空帯電耐久試験を行な
い、v00部並びに7.5ルックス秒露光させた■、電
位の変動を測定した。結果を表4に示す。
5kVコロナ帯電器を有する電子写真複写機に取り付け
て、常温、常温下10000枚の空帯電耐久試験を行な
い、v00部並びに7.5ルックス秒露光させた■、電
位の変動を測定した。結果を表4に示す。
表4
上表に示す様にシリコーンオイルを添加した試料の10
000枚耐久後のvL変動は非常に大きい。それに対し
本発明品は耐久時の電位が極めて安定していることがわ
かる。
000枚耐久後のvL変動は非常に大きい。それに対し
本発明品は耐久時の電位が極めて安定していることがわ
かる。
実施例6
次に前記試料1.5.10,16.17.18゜19.
20についてウレタンブレードと表面層との間の摩擦力
を測定した。その結果を表5に示す。
20についてウレタンブレードと表面層との間の摩擦力
を測定した。その結果を表5に示す。
表 5
*摩擦カニ試料16の摩擦力を基準値1とし、相対値で
示す。
示す。
上表に示す様にシリコーン系クシ型ポリマーを添加した
本発明並びにシリコーンオイルを添加した比較試料は、
無添加試料に比較し、著しく摩擦力が軽減されている。
本発明並びにシリコーンオイルを添加した比較試料は、
無添加試料に比較し、著しく摩擦力が軽減されている。
しかしながらシリコーンオイルを添加した比較資料は前
記のように放置安定性や耐久時の電位安定性が悪いもの
であった。
記のように放置安定性や耐久時の電位安定性が悪いもの
であった。
この様にシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加す
ることにより表面層の摩擦力が低減し、クリーニング性
の向上、トナ、紙粉等の付着物がつき難いといった効果
を奏するものであり、特にボリアリレート系樹脂との組
み合せは、耐久性にすぐれ、残留電位の上昇も少な(長
期に渡り安定した特性を発揮するものである。
ることにより表面層の摩擦力が低減し、クリーニング性
の向上、トナ、紙粉等の付着物がつき難いといった効果
を奏するものであり、特にボリアリレート系樹脂との組
み合せは、耐久性にすぐれ、残留電位の上昇も少な(長
期に渡り安定した特性を発揮するものである。
以上から明らかな如く本発明の電子写真感光体は、特定
のシリコーン系クシ型グラフトポリマーをボリアリレー
ト系樹脂に配合することにより表面の潤滑性及び離型性
に優れ、クリーニング性が極めて良好で、且つ繰返し耐
久性が優れており、繰返し電子写真プロセスにおいて残
留電荷の蓄積がなく常に高品位の画像を得ること、がで
きる。
のシリコーン系クシ型グラフトポリマーをボリアリレー
ト系樹脂に配合することにより表面の潤滑性及び離型性
に優れ、クリーニング性が極めて良好で、且つ繰返し耐
久性が優れており、繰返し電子写真プロセスにおいて残
留電荷の蓄積がなく常に高品位の画像を得ること、がで
きる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は置
換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し
、nは平均重合度を示す。) 及び/又は一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_6、R_7は置換基を有してもよいアルキ
ル基またはアリール基を示し、nは平均重合度を示す。 ) で示されるシリコーンと少なくとも一般式(III)▲数
式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_8、R_9、R_1_0は水素原子、ハロ
ゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基またはアリ
ール基を示し、R_1_1は置換基を有してもよいアル
キル基またはアリール基を示し、Xはハロゲン原子、置
換基を有してもよいアルコキシ基を示し、mは1〜3の
整数を示す。) で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーとポリアリレート系樹脂を、少なくとも
基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴とする
電子写真感光体。 (2)基体より最も離隔する層として感光層を有する特
許請求の範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 (3)基体より最も離隔する感光層が電荷発生物質と電
荷輸送物質とを含む単一層からなる特許請求の範囲第(
2)項記載の電子写真感光体。 (4)基体より最も離隔する層におけるシリコーン系ク
シ型グラフトポリマーの含量が0.01〜10重量%の
範囲内である特許請求の範囲第(1)項乃至第(3)項
のうちの1に記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5068086A JPS62208052A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5068086A JPS62208052A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62208052A true JPS62208052A (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=12865644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5068086A Pending JPS62208052A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62208052A (ja) |
-
1986
- 1986-03-10 JP JP5068086A patent/JPS62208052A/ja active Pending
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