JPS62205357A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子写真複写機、レーザービームプリンター
、ＣＲＴプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関する。

〔従来の技術〕

電子写真感光体の光導電材料としてセレン、硫化カドミ
ウム、酸化亜鉛などの無機光導電材料が従来より用いら
れている。他方ポリビニルカルバゾール、オキサジアゾ
ール、フタロシアニンなどの有機光導電材料は無機光導
電材料に較べて無公害性、高生産性などの利点があり、
広く利用されている。

一方、電子写真感光体には、当然のことであるが、適用
される電子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性
、更には光学特性を備えていることが要求される。特に
繰返し使用可能な感光体にあってはその感光体の表面層
、即ち基体より最も離隔する層にはコロナ帯電、トナー
現像、紙への転写、クリーニング処理などの電気的機械
的外力が直接に加えられるため、それらに対する耐久性
が要求される。具体的には、コロナ帯電時に発生するオ
ゾンによる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位
増加、および摺接による表面の摩耗や傷の発生などに対
する耐久性が要求されている。

又、紙との接触による紙粉の付着は、高湿下での画像流
れの原因の一つとなシ、又、トナーのフィルミングやク
リーニング不良による残留トナーは、得られる画像を著
しく損ねるものであり、従って、これらに汚染されにく
くかつ容易に除去されやすい感光体表面を形成させるこ
とが要求されている。

従来より前記欠点を解決すべく種々の方法が提案されて
いる。その一つとしてポリカーボネート系樹脂を表面層
のバインダーとして用いることが検討されている。ポリ
カーボネート系樹脂は、耐摩耗性が良好のためポリカー
ボネート系樹脂を表面層のバインダーとして用いた感光
体では機械的外力に対する耐久性は大巾に改善される。

しかしながら、表面層の削れ量が減少するため、付着し
た紙粉や残留トナーのクリーニング性が不良となシ、逆
に画質の劣化を引き起こすことＫなる。これを改良すべ
く表面層に潤滑性及び離型性を付与させ、紙粉や残留ト
ナーが付着しにくくかつクリーニングしやすいことが試
みられている。その手段として、一般的な塗膜表面改質
剤、すなわちレベリング剤、シリコーンオイル等の添加
やテフロン粉末等を分散させる方法がある。

しかしながら、これら一般的な表面改質剤は、添加され
る塗工液の成分との相溶性に乏しいため、長期使用の間
に表面層の上に移行ないし滲み出してくるので効果の持
続性に難点があった。また、表面層自体が光導電層を形
成している場合、表面改質剤が光導電性物質との相溶性
に乏しく、さらに光生成によるキャリヤーの移動に対し
てドラッグとなり易く、繰返し電子写真プロセスにより
残留電荷が増大していく傾向があった。一方テフロン粉
末などを分散させた表面層においては分散性不良、透明
性低下、キャリヤーのトラツノなどの問題を生じていた
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、従来の問題点を解決して、表面の潤滑性及び
離型性に優れ、クリーニング性が極めて良好で且つ繰返
し耐久性が優れ、表面層の損傷が少ない電子写真感光体
を提供することを目的としている。

本発明の別の目的は繰返し電子写真プロセスにおいて残
留電荷の蓄積がなく常に高品位の画像が得られる電子写
真感光体を提供することにある。

本発明は電子写真感光体の、少なくとも基体より最も離
隔する層に、特定のシリコーン系クシ型グラフトポリマ
ーとポリカーボネート系樹脂とを含有させることによっ
て上記目的を達成しようとするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち、本発明は一般式（１） （式中、Ｒ１ｒ　Ｒ２ｒ　Ｒ５ｔ　Ｒ４＋　Ｒ５は置換
基を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、
ｎは平均重合度を示す。） 及び／又は一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ６，Ｒ７は置換基を有してもよいアルキル基
またはアリール基を示し、ｎは平均重合度を示す。） で示されるシリコーンと少なくとも一般式（ト）（式中
、”８　’　Ｒ？　１　Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基
を示し、Ｒ１１は置換基を有してもよいアルキル基また
はアリール基を示し、Ａは置換基を有してもよいアリー
レン基を示し、Ｘはハロダン原子、置換基を有してもよ
いアルコキシ基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。） で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーと、ポリカーゴネート系樹脂を、少なく
とも基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴と
する電子写真感光体である。

以下本発明の詳細な説明する。

本発明で用いられるシリコーン系クシ型グラフトポリマ
ーは、下記一般式（Ｉ）および／まだは一般式（Ｉｆ）
で示されるシリコーンと、少なくとも下記一般式（至）
との縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能
基を有する化合物を共重合して得られるものであり、主
鎖に対して変性シリコーンからなるシリコーンを含有す
る側鎖基が枝状に結合した構造を有している。

一般式（１） ％式％ 但し、Ｒ１＋　Ｒ２＊　Ｒ３＋　Ｒ４ｒ　Ｒ５は置換基
を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、ｎ
は平均重合度を示す。

一般式（Ｉｆ） 但し、Ｒ６，Ｒ，は置換基を有してもよいアルキル基ま
たはアリール基を示し、ｎは平均重合度を示す。

一般式（２） 但し、ＲＢ　ｒ　Ｒｑ　ｒ　Ｒｌｏは水素原子、ハロダ
ン原子、置換器を有してもよいアルキル基またはアリー
ル基を示し、Ｒ１１は置換基を有してもよいアルキル基
まだはアリール基を示し、Ａは置換基を有してもよいア
リーレン基を示し、Ｘはハロダン原子、置換基を有して
もよいアルコキシ基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。

前記一般式（１）および（ＩＩ）式中、Ｒ１＋　Ｒ２＊
　Ｒ３＋　Ｒ４＋Ｒ５ｒ　Ｒ６およびＲ７は、具体的に
は、メチル、エチル、グロビル、ブチルなどのアルキル
基またはフェニル、ナフチルなどのアリール基でアシ、
ハロダン原子、低級アルキル基などの置換基を有しても
よい。好ましくはメチル基、フェニル基である。

ｎは平均重合度を示し、１〜１０００の範囲、好ましく
は１０〜５００の範囲である。

一般式（イ）の式中、Ｒ８，Ｒ２およびＲ１０は、具体
的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などハ
ロダン原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどの
アルキル基またはフェニル、ナフチルなどのアリール基
であシ、ハロゲン原子、低級アルキル基などの置換基を
有してもよい。好ましくは水素原子である。

Ｒ４１は、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブ
チルなどのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどの
アリール基であシ、ハロゲン原子などの置換基を有して
もよい。好ましくはメチル基、フェニル基である。

Ｘは具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などハロダン原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシなどのアルコキシ基であり、低級アルコキシ
基などの置換基を有してもよい。好ましくはメトキシ基
、エトキシ基、２−メトキシ−エトキシ基である。

Ａはフェニレン、ビフェニレン、ナフチレンなどのアリ
ーレン基であシ、ハロゲン原子、低級アルキル基などの
置換基を有してもよい。ｍは１〜３の整数である。

一般式（１）〜（至）の具体例を以下に示す。

一般式（Ｉ）の具体例 ＯＨＣＨ３ ４ＨＯ（−８１０＋−８Ｌ−Ｃ２Ｈ。

Ｃ２Ｈ５Ｃ２Ｈ５ Ｃ４Ｈ，ＣＨ。

υＬ ｔ 一般式（Ｉｆ）の具体例 ＡＣＭ。

ＣＨ３ Ｃ２Ｈ５ ■ ２７　　　　　　　）ＩＯ＋８１０う−Ｈｎ ２Ｈ５ Ｃ６Ｈ。

Ｃ４Ｈ。

Ｈ ３０ＨＯ（−Ｓ　ｉ　Ｏ−）−Ｈ ｎ ２Ｈ５ Ｈ １！′ ３１　　　　　　　ＨＯ−ｆ−８ＩＯう−ＨＣ，Ｉ（。

２Ｈ５ ３２ＨＯ＋５ＩＯ−）−Ｈ ４Ｈ９ ４Ｈ８Ｃｔ ３３　　　　　　　ＨＯ（−８１００−Ｈ着 ４Ｈ８Ｃ１ Ｈ３ ３４ＨＯ（−８１０−）−Ｈ ２Ｈ５Ｃｔ Ｈ ３９ＨＯ（−８１０−一チーＨ ２Ｈ５ 一般式（財）の具体例 ＣＨ。

ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ０ＣＨ。

Ｃ２Ｈ５ Ｃ４Ｈ９ Ｃ３Ｈ１１ ＣＨ３ Ｃ３Ｈ７ ０Ｃ４Ｈ２ ＣＨ。

０ＣＨ３ ０Ｃ２Ｈ５ ０Ｃ４Ｈ７ ０−ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３ ０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ５ Ｈ３ ３Ｈ７ Ｈ３ Ｈ３ ＣＨ。

ＣＨ３ ＣＨ３ ＱＣ，Ｈ。

Ｃ４Ｈ９ Ｃ３Ｈ１１ Ｃ２Ｈ５ Ｃ３Ｈ７ Ｃ４Ｈ９ ＯＣＨ。

ＯＣＨ。

Ｃ２Ｈ５ ＣＨ３ Ｃ２Ｈ３ ０−ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３ ０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３ Ｃ２Ｈ３ Ｃ，Ｈ。

ＣＨ３ ＣＨ。

０Ｃ２Ｈ５ ０Ｃ２Ｈ５ ０Ｃ２Ｈ５ 一般式（１）および／′４！たは一般式（Ｉｆ）で示さ
れるシリコーンと、少なくとも下記一般式（至）との縮
合反応は通常の有機化学反応操作に従いきわめて円滑に
進行し、例えばクシ型グラフトポリマーの合成方法が開
示されている特開昭５８−１６７６０６、特開昭５９−
１２６４７８に従い、その反応モル比や反応条件を適当
に制御する事により安定な変性シリコーンを得ることが
できる。例えば、一般式（至）で示される化合物のＸが
塩素原子の場合、一般式（１）および／または（ＩＩ）
のシリコーン化合物とアミン類等の酸受容体をテトラヒ
ドロフランやアセトン等の適当な溶媒に１０〜５０重量
％の濃度で溶解した溶液に一般式（至）の化合物または
その溶液を室温で滴下する。反応後、生成した酸受容体
塩酸塩を口側し、除去し、その後必要に応じて水洗を行
ない、溶媒を蒸発させれば目的とする変性シリコーンを
得ることができる。重合性官能基を有する化合物として
は、ケイ素原子を持たない重合性の単量体もしくは末端
に重合性の官能基を有する分子量が１０００から１００
００程度の比較的低分子量の重合体からなるマクロモノ
マー等が挙げられる。

重合性単量体としては、オレフィン系化合物の例トシテ
エチレン、プロピレン、ブチレンの如キ低分子量直鎖状
不飽和炭化水素、塩化ビニル及びフフ化ビニルの如きハ
ロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエス
テル、スチレン、スチレン置換体並びにビニルピリジン
及びビニルナフタレンの如きその他のビニル芳香族化合
物、アクリル酸、メタクリル酸、並びにそれらのエステ
ル、アミド及びアクリロニトリルを含むアクリル酸、メ
タクリル酸の誘導体、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビ
ニルピロリドン及びＮ−ビニルカグロラクタムの如きＮ
−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビニ
ルケイ素化合物等があげられる。ジ置換エチレンも使用
でき、その例としてフッ化ビニリデン、塩化ビニリデン
等をあげることができ、又無水マレイン酸、マレイン酸
及びフマル酸のエステル吟もあげることができる。

特にポリカーボネート樹脂との親和性から、アクリル酸
エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン系等が
好ましい。

又、重合性単量体は単独又は２種類以上の重合性単量体
を組み合わせて使用できる。

重合性マクロモノマーは、例えば、メタクリル酸メチル
をチオグリコール酸共存下にう・ソカル重合させて分子
量１０００〜１００００の片末端カルがンｆｌｌｌｆレ
ポリマーを得、これをメタクリル酸グリシジルと反応さ
せることにより得ることができる。

シリコーン系クシ型グラフトポリマーの重合法としては
溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法等のラジカル重
合やイオン重合が適用できるが、溶液重合法によるラジ
カル重合が簡便で好ましい。

共重合比はシリコーン系単値体の含有率として５〜９０
重量％が好ましく、１０〜７０′Ｍ童チが更に好ましい
。得られた重合体の分子量は数平均分子量として５００
から１０＋）０００、特に１０００から５００００が好
ましい。

本発明におけるシリコーン系クシ型グラフトポリマーは
かかる構造を有しているので本発明に係る表面層形成用
のバインダー樹脂として、ポリカーボネート系樹脂を含
有する塗工液に対する相溶性がすぐれており、従って得
られる塗膜は良好な透明性を有し、かつ本発明に係る表
面層上への移行ないし滲み出しをおこすことなく効果の
持続性を有するものであり、またシリコーン含有の技の
部分は界面移行性がすぐれているので少量の添加により
表面の改質が達成される。更にこの添加剤を表面層に含
有させてもくり返し電子写真プロセスによる残留電荷の
蓄積がなく安定した帯電特性が得られる。

本発明で用いられるｙｆｆ　ＩＪカー日日本ネート系樹
脂、下記一般式［ＩＶ）で示される繰返し単位の１種又
は２種以上を成分とする線状ポリマーを含有するもので
ある。

一般式［ＩＶ） 但し、式中、Ｒ１□及びＲ１３はそれぞれ水素原子、ア
ルキル基又はアリール基であり、具体的には、メチル、
エチル、ゾロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル
、ナフチルなどのアリール基であり、ハロダン原子、低
級アルキル基などの置換基を有してもよい。又、Ｒ１２
とＲ１３とで結合している炭素原子と共に環状構造を形
成してもよく、具体的にシクロヘキシル環やラクトン構
造が挙げられる。

Ｘ、ｒ　Ｘ２　ｒ　Ｘ５　＊及びＸ４は、具体的には水
素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原
子、メチル、エチル、プロピル、ブチルナトのアルキル
基、シクロヘキシルなどの脂環アルキル基、フェニル、
ナフチルなどのアリール基、メトキシ、エトキシなどの
フルコキシ基などである。

本発明に用いられるポリカーボネート系樹脂は、例えば
下記一般式シＶ）で示されるジオール化合物の１種又は
２種以上を用い、ホスダン法等の一般的なポリカーボネ
ート合成法により得ることができる。

一般式〔ｖ〕 但し、式中、Ｒ１□及び”１３はそれぞれ水素原子、ア
ルキル基又はアリール基であり、具体的には、メチル、
エチル、ゾロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル
、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲン原子、低
級アルキル基などの置換基を有してもよい、又、Ｒ１□
と”１３とで結合している炭素原子と共に環状構造を形
成してもよく、具体的にシクロヘキシル環やラクトン構
造が挙げられる。

Ｘｌ　＋　Ｘ２　、Ｘ５　＋及びＸ４は、具体的には水
素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロダン原
子、メチル、エチル、プロピル、グチルなどのアルキル
基、シクロヘキシル々どの脂環アルキル基、フェニル、
ナフチルなどのアリール基、メトキシ、エトキシ々どの
アルコキシ基などである。

本発明で使用する前記ジオール化合物の代表的具体例を
以下に構造式によって示す。

一般式〔ｖ〕の具体例　　　構　造　式Ｈ３ ＣＨ。

（ＣＨ２）２ ＣＭ。

構造式 ％式％ 構造式 構造式 ％式％） 構造式 （ＣＨ２）８ ■ ＣＨ。

ＣＨ５ Ｃ６Ｈ。

構造式 構造式 ＣＨ５ ＣＨ３ （ＣＨ２）２ Ｃ００Ｃ４Ｈ２ 構造式 構造式 ＣＨ０Ｐ−ＯＣＲ。

シリコーン系クシ型グラフトポリマーの添加量は表面層
の固形分重量にもとづいて０．０１〜１０チが適当であ
り、特に０．０５〜５％が好ましい。

添加量がｏ、ｏｉｓ未満では十分な表面改質効果が得ら
れず、一方１０チをこえるとグラフトポリマーが塗膜表
面だけでなくバルク中にも存在するようになるため表面
層の主成分である樹脂や光導電性物質との相溶性の問題
から白化をひきおこしたり、繰返し電子写真グロセスを
行なったとき残留電荷の蓄積が生じてくる。

本発明の電子写真感光体を製造する場合、基体トシては
、アルミニウム、ステンレスなどの金属、紙、プラスチ
ックなどの円筒状シリンダーまたはフィルムが用いられ
る。これらの基体の上には、バリアー機能と下引機能を
もつ下引層（接着層）を設けることができる。

下引層は感光層の接着性改良、塗工性改良、基体の保護
、基体上の欠陥の被覆、基体からの電荷注入性改良、感
光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される
。下引層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ
−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エ
チルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ
ル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合ナイロ
ン、ニカワ、ゼラチン、等が知られている。これらはそ
れぞれに適した溶剤に溶解されて基体上に塗布される。

その膜厚は０．２〜２μ程度である。

電荷発生物質としては、ビＩＪ　ＩＪウム、チオピリリ
ウム系染料、フタロシアニン系顔料アントアントロン顔
料、ジベンズピレンキノン顔料、ビラントロン顔料、ト
リスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、アゾＭＩＰｒ、インジゴ
顔料、キナクリドン系顔料、非対称キノシアニン、キノ
シアニンなどを用いることができる。電荷輸送物質とし
ては、ピレン、Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−イソプロ
ピルカルバゾール、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルヒドラジ
ノ−３−メチリデン−９−エチルカルバソール、Ｎ、Ｎ
−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−９−エチル
カルバゾール、Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メ
チリデン−１０−エチルフェノチアジン、Ｎ、Ｎ−ジフ
ェニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０−二チルフェ
ノキサジン、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ
、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、ｐ−ジエチルアミノベン
ズアルデヒド−Ｎ−α−ナフチル−Ｎ−フェニルヒドラ
ゾン、ｐ−ピロリジノベンズアルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジフ
ェニルヒドラゾン、　１，３．３−　トリメチルインド
レニン−ω−アルデヒドーＮ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾ
ン、ｐ−ジエチルベンズアルデヒド−３−メチルベンズ
チアゾリノン−２−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、２．
５−　ヒス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，
４−オキサジアゾール、１−フェニル−３−（ｐ−ジエ
チルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）ピラゾリン、１−〔キノリル（２）　〕−３−（
ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル〕ピラゾリン、１−〔ピリジル（２）　〕
−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジ
エチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−［６−メドキ
シービリジル（２）　：］　−３−（ｐ−ジエチルアミ
ノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピ
ラゾリン、１−〔ピリジル（３））−３−（ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン、１−〔レビジル（２）：］−３−（ｐ
−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミ
ノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル（２）　）　
−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−
５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ビーｙゾリン、１
−〔ピリジル（２））−３−（α−メチル−ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ヒラゾリン、１−フェニル−３−（ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−４−メチル−５−（ｐ−ジエチルアミ
ノフェニル）ピラゾリン、■−７エニルー３−（α−ベ
ンゾルーｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジ
エチルアミノフェニル）ピラゾリン、スピロピラゾリン
などのピラゾリン類、２−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−６−ジニチルアミノベンズオキサソール、２−（
ｐ−ジエチルアミノフェニル）−４−（ｐ−ジメチルア
ミノフェニル）−５−（２−クロロフェニル）オキサゾ
ール等のオ・ｒサゾール系化合物、２−（ｐ−・ジエチ
ルアミノスチリル）−６−−、７エチルアミノベンゾチ
アゾール等のチアゾール系化合物、ビス（４−ジエチル
アミノ−２−メチルフェニル）−フェニルメタン等のト
リアリールメタン系化合物、１．１−ビス（４−Ｎ、Ｎ
−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）へブタン、　
１，１，２．２−テトラキス（４−Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミン−２−メチルフェニル）エタン等の？リアリールア
ルカン類などを用いることができる。

本発明の感光体は以下に示す方法等により調製できる。

前記の電荷発生物質を０．３〜１０倍量のポリカーブネ
ート樹脂および溶剤と共に、ホモジナイザー、超音波、
ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライタ
ー、ロールミルなどの方法でよく分散する。次に本発明
に係るシリコーン系クシ型グラフトポリマーと前記の電
荷輸送物質を溶解し基体上に塗布される。電荷輸送物質
とポリカーブネート樹脂との混合割合は２：１〜１：２
程度である。溶剤としては、アセトン、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエ
ステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類
、クロルベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素などの塩
素系炭化水素類などが用いられる。この溶液を塗布する
際には、例えば浸漬コーティング法、スプレーコーチイ
ンク法、スピンナーコーティング法、ビードコーティン
グ法、ブレードコーティング法、カーテンコーティング
法などのコーティング法を用いることができ、乾燥は１
０℃〜２００℃、好ましくは２０℃〜１５０℃の範囲の
温度で５分〜５時間、好ましくは１０分〜２時間の時間
で送風乾燥または静止乾燥下で行なうことができる。生
成した感光層の膜厚は５〜２０μ程度である。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例に従って説明する。

以下の実施例で用いたシリコーン系クシ型グラフトポリ
マー（試料Ａａ〜０）は、クシ型グラフトポリマーの合
成方法が開示されている特開昭５８−１６７６０６　、
特開昭５９−１２６４７８に準じて合成したものである
。具体的には、前述の合成法にて合成した変性シリコー
ンとスチレンやメチルメタクリレート等の重合性不飽和
結合含有単量体を、アゾビスイソブチロニトリル等のラ
ジカル重合開始剤の存在下でトルエン等の溶剤中で溶液
重合を行うことにより得られる反応温度は、好ましくは
６０〜９０℃、反応時間は好ましくは１０〜２５時間で
ある。反応終了後内容物を大量のメタノール中に投入、
ポリマーを析出させ、日別後乾燥し、目的物を得る。そ
の組成は表１に示す如くである。

合成したシリコン系クシ型グラフトポリマーの構造を、
試料Ａａおよびｂについて代表例として以下に示す。

本発明で用いるポリカーボネートは一般式いりで示され
るビスフェノール類とホスゲンとの反応によって合成さ
れる。

具体的には、攪拌器付５００ｄセノＲラブルフラスコに
ビスフェノール５０．１５モル、フェノール０．３５３
ｇ、ＮａＯＨ１６，８ｇ、水２３８−を入れ、５０℃に
加熱溶解後２５℃に冷却し、塩化メチ１／ン１４７−を
加える。次いで２５℃において攪拌しながら、ホスゲン
ｉ　９．　ｉ　ｇを６０分間かけて導入する。その後ト
リメチルベンシルアンモニウムクロライド０．０３４２
ｇ、ＮａＯＨ４，５ｊｉ、水３０−を加えた後、２５℃
で攪拌しながら、４．５時間重合を行う。重合終了後、
塩化メチレン３６０−を加えて希釈し、塩酸で弱酸性と
して洗浄し、さらに５回水洗する。ポリマー溶液をメタ
ノール中に投入し凝固させ、１００℃、］、ｗＨｇで１
５時間乾燥し、白色ポリマーが得られる。

実施例１ ニューシーラント産うクチックカゼインを１０部（重量
部、以下同様）計りとり、水９０部に分散させた後、ア
ンモニア水１部を加えて溶解させた。一方、ヒドロキシ
ゾロビルメチルセルロース樹脂（商品名：メトローズ６
０８Ｈ５０、信越化学製）３部を水２０部に溶解させ、
次いで両者を混合して下引き層の塗布液を作った。

この液を８０φＸ３００ｍのＡｔシリンダーに浸漬法で
塗布し、８０℃で１０分間乾燥させ、２μ厚の下引き層
を形成した。

光導電体としてε−銅フタロシアニン顔料２部、一般式
〔■〕の具体例Ａ１２２のビスフェノールを用いて前記
ポリカーボネートの合成法に準じて合成したポリカーボ
ネート樹脂１０部および１，２−ジクロルエタン６０部
を１φガラスピーズを用いたサンドミル装置で２０時間
分散した。この液に試料＆ａのシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーを固形分として０．２部加えた。この分散
溶液を前記下引き層上に浸漬塗布し、１００℃１時間乾
燥して１９μの光導電層を形成した。これを試料１とす
る。同様に試料Ａｂ＝’ｏのシリコン系クシ型グラフト
ポリマーを用いて調製した電子写真感光体を試料２〜１
５とする。

比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。

これを試料】６とする。

これらの試料に対し、−５，５ｋＶ、コロナ帯電、画像
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレードによるクリーニングからなる電子写真プ
ロセスにて１００００枚の耐久性評価を行なった。その
結果を下記表２に示した。

評価環境は３２．５℃ＲＪ（９０％であった。

表２ 実施例２ 実施例１におけるポリカーブネート樹脂に代えて、一般
式［Ｖ）の具体例４１２７．１３０，１３１　。

１３８．１４１．１４３．１４８などのビスフェノール
類を用いて合成した各々のポリカーボネート樹脂を使用
しても実施例１のポリカーボネート樹脂の場合と同様の
結果が得られた。

実施例３ 下記構造式のジスアゾ顔料３部、及び、一般式〔■〕の
具体例Ａ１２７のビスフェノールを用いて合成したポリ
カーボネート樹脂１０部、モノクロルベンゼン５０部を
１φガラスピーズを用いたサンドミル装置で２０時間分
散した。この液に試料＆ａのシリコーン系クシ壓グラフ
トポリマーｅ固形分として０．２部、下記構造式のヒド
ラゾン化合物１０部を加え溶解した。この分散溶液を実
施例１と同様にして作成した下引き層を有する基体上に
浸漬塗布し、１００℃１時間乾燥して１９μの光導電層
を形成した。これを試料１７とする。

比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。

これを試料１８とする。

これらの試料を実施例１と同一の条件下で耐久性評価を
行なった。その結果を表３に示す。

表３ 実施例４ 実施例３におけるポリカーがネート樹脂に代えて、一般
式〔■〕の具体例Ａｌ２２．１３０．１３１゜１３８．
１４１．１４３．１４８などのビスフェノール類を用い
て合成した各々のポリカーボネート樹脂を使用しても実
施例３のポリカーボネート樹脂の場合と同様の結果が得
られた。

比較例 シリコーン系クシ型ポリマーの代わシにシリコーンオイ
ル（商品名ＫＦ９６信越シリコーン（株）製）を固形分
として１．０部を用いたほかは実施例１と同様に作成し
た試料を試料１９とする。

同様に上記のシリコーンオイル１．０部を用いるほかは
実施例３と同様に作成した試料を試料２０とする。これ
らの試料を実施例１及び３と同様の条件下で耐久性評価
を行なったが、地力ブリがはなはだしく、更にくシ返し
コピーによってカプリの度合が大きくなった。また試料
１９．２０を作成して１か刃稜に観察するとシリコーン
オイルが表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方
、シリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料
においてはこの様な経時変化は認められず初期と同様の
外観、特性を示した。

実施例５ 次に試料ＡＩ　、１７．１９．２０についチー　５．５
　ｋＶコロナ帯電器を有する電子写真複写機に取シ付け
て、常温、常温下１００００枚の空帯電耐久試験を行な
い、ｖＤ電位並びに７．５ルックス秒露光させたＶ、電
位の変動を測定した。結果を表４に示す。

表４ 上表に示す様にシリコーンオイルを添加して試料の１０
０００枚耐久後のＶシ変動は非常に大きい。

それに対し本発明品は耐久時の電位が極めて安定してい
ることがわかる。

実施例６ 次に前記試料１　、５　、１０　、１６　、１７　、１
８　。

１９．２０についてウレタンブレードと表面層との間の
摩擦力を測定した。その結果を表５に示す。

表５ 相対値で示す。

上表に示す様にシリコーン系クシ型ポリマーを添加した
本発明並びにシリコーンオイルを添加した比較試料は、
無添加試料に比較し、著しく摩擦力が軽減されている。

しかしながらシリコーンオイルを添加した比較資料は前
記のように放置安定性や耐久時の電位安定性が悪いもの
であった。

この様にシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加す
ることにより表面層の摩擦力が低減し、クリーニング性
の向上、トナ、紙粉等の付着物がつき難いといった効果
を奏するものであり、特にポリカーボネート系樹脂との
組み合ぜは、耐久性にすぐれ、残留電位の上昇も少なく
長期に渡り安定した特性を発揮するものである。

〔発明の効果〕

以上から明らかな如く本発明の電子写真感光体は、特定
のシリコーン系クシ型グラフト、ｔリマーをポリカーボ
ネート系樹脂に配合することにより表面の潤滑性及び離
型性に優れ、クリーニング性が極めて良好で、且つ繰返
ｌ〜耐久性が優れており、繰返し電子写真ノロセスにお
いて残留電荷の蓄積がなく常に高品位の画像を得ること
ができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は置
   換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し
   、ｎは平均重合度を示す。） 及び／又は一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿６、Ｒ＿７は置換基を有してもよいアルキ
   ル基またはアリール基を示し、ｎは平均重合度を示す。 ） で示されるシリコーンと少なくとも一般式（III）▲数
   式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０は水素原子、ハロ
   ゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基またはアリ
   ール基を示し、Ｒ＿１＿１は置換基を有してもよいアル
   キル基またはアリール基を示し、Ａは置換基を有しても
   よいアリーレン基を示し、Ｘはハロゲン原子、置換基を
   有してもよいアルコキシ基を示し、ｍは１〜３の整数を
   示す。） で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
   合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
   ラフトポリマーと、ポリカーボネート系樹脂を、少なく
   とも基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴と
   する電子写真感光体。
2. （２）基体より最も離隔する層として感光層を有する特
   許請求の範囲第（１）項記載の電子写真感光体。
3. （３）基体より最も離隔する感光層が電荷発生物質と電
   荷輸送物質とを含む単一層からなる特許請求の範囲第（
   ２）項記載の電子写真感光体。
4. （４）基体より最も離隔する層におけるシリコーン系ク
   シ型グラフトポリマーの含量が０．０１〜１０重量％の
   範囲内である特許請求の範囲第（１）項乃至第（３）項
   のうちの１に記載の電子写真感光体。