JPS62206521A - 導波型光信号処理デバイス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は導波型光信号処理デバイスに関するものである
。

〔従来技術とその問題点〕

平面光回路を利用した導波型光信号処理デバイスには例
えば、音響光学（以後ＡＯと称す）効果を用いた、導波
型ＡＯスペクトラムアナライザ。

導波型ＡＯコリレータなどがある。その他に磁気光学効
果、電気光学効果、熱光学効果を用いたものなどがある
。

ＡＯ効果を用いた導波型光信号処理デバイスは、光の弾
性表面波による回折を用いたもので、弾性表面波を平面
°光導波路を伝搬する光ビームの制御に用いる。この弾
性表面波を励振する信号は平面光導波路に形成された弾
性表面波発生用電極に外部より印加され、弾性表面波に
変換される。

ＡＯ効果を用いた導波型光信号処理デバイスの１例とし
て第３図に導波型ＡＯスペクトラムアナライザを示す。

これは、推認「ソサエティ　オン　ホオトーオプティカ
ル　インストウルメントエンジニアース（５ｏｃｉｅｔ
ｙ　　ｏｆ　　Ｐｈｏｔｏ−Ｏｐｔｉｃａｌ　　Ｉｎ５
ｔｒｕａ＋ｅｎｔ　　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ）、　３２１
巻１９８２年１３４〜１４０ページの文献、及び、「フ
ォース　インターナショナルコンファレンス　オン　イ
ンチブレラティ・ソドオプティカル　アンド　オプティ
カル　ファイバ　コミュニケーション　テクニカルダイ
ジェス）（Ｆｏｒ七ｋ　　　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａ
ｌ　　　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ　　　　ｏｎ　　　Ｉｏ
ｔｅｇｒａｔｅｄ　　０ｐｔｉｃｓ　　ａｎｄ　　０ｐ
ｔｉｃａｌ　　Ｆｉｂｅｒ　　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉ
ｏｎＴｅｃｈｎｉｃａｌ　Ｄｉｇｅｓｔ　＞、　１９８
３年２５８〜２５９ページの文献等に掲載されている。

この導波型ＡＯスペクトラムアナライザの、弾性表面波
１９を発生する弾性表面波発生用電極１８は誘電体表面
全面に形成された平面光導波路１１上に形成されている
。光源１２は、例えば半導体レーザからなり平面レンズ
１３は拡がり角を有する光２４をコリメート光１７に変
換するものであり、平面レンズ１４は集光用で平面レン
ズ１３．１４はフレネルレンズ、ジオデシックレンズ等
からなる。また、信号検出にはアレー状検出器２２を用
いる。平面光導波路１１は誘電体基板がＬｉＮｂＯ３及
びＬｉＴａＯ３の場合には、例えばＴｉを基板表面に熱
拡散して形成する０弾性表面波発生用電極１８は、平面
光導波路１１に例えばＡｔ？や＾Ｕの金属膜を堆積し光
学リングラフィ法などと、ケミカルエツチング及びドラ
イエツチングなどの金属膜エツチングを用いて電極パタ
ーンとして形成される。

第４図は従来の導波型光信号処理デバイスの平面光回路
上の弾性表面波発生用電極の構成を示す断面図である。

弾性表面波発生用電極１８は光学研磨を施された誘電体
基板３２の表面に形成された平面光導波路１１の上に形
成されている。この平面光導波路１１は、誘電体基板３
２表面に熱拡散法、堆積法などを用いて形成するが、拡
散法においては、拡散時間、拡散温度、拡散物量などの
設定の差異により、また、堆積法においては、成膜の均
一性などの差異により平面光導波路１１は第４図に示す
如く、凹凸が生じる場合がある。

この様に、平面光導波路１１に凹凸が存在すと、弾性表
面波発生用電極３１の平面光導波路１１に対する付着力
が弱まり、弾性表面波発生用型８ｉ１８の耐久性に例え
ば、印加電力に対する耐久性などが弱まり、劣化が早ま
るとともに導波型光信号拠理デバイスの動作の信頼性に
影響を及ぼす。また、弾性表面波発生用電極１８のパタ
ーンがサブミクロンの微細パターンであると、弾性表面
波発生用電極１８のパターン形成が困難となり、生産の
歩留りがよくないという欠点がある。

本発明の目的は、このような問題点を解決し、導波型光
信号処理デバイスなどに用いる平面光回路上の電極形成
部が平坦な面を維持し、電極の耐久性、信頼性及び歩留
りの向上が得られ、かつ、高い信頼性を有する導波型光
信号処理デバイスを提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の構成は、誘電体基板表面に形成された平面光導
波路を伝搬する光ビームを外部信号で制御し信号処理を
行なう平面光回路を有する導波型光信号処理デバイスに
おいて、前記平面光回路上に形成された外部信号印加電
極領域に前記平面光導波路を形成しないようにした事を
特徴とする。

〔実施例〕

次に、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。

第１図は本発明の第１の実施例の導波型ＡＯスペクトラ
ムアナライザの平面図、第２図は第１図の弾性表面波発
生用電極１８の構成を中心に示す断面図である。

この図で、誘電体基板３２の表面に設けられた平面光導
波路１１に弾性表面波発生用電極１８が形成されており
、弾性表面波発生用電極１８より発生する弾性表面波１
９により光源１２がら放射され平面光導波路１１に導波
された拡がり角を有する光２４が平面レンズ１３によっ
てコリメートされたコリメート光１７が偏向され、偏向
光２０と非偏向光２１に分けられ、偏向光が平面レンズ
１４で集光され、アレイ状検出器２２で集光される。

この場合、弾性表面波発生用電極１８の形成領域は平面
光導波路１１を伝搬するコリメーＩ・光１７、偏向光２
０．非偏向光２１などの光ビームには何ら関係ないため
、弾性表面波発生用電極１８の形成領域のみに平面光導
波路１１を形成しなくとも導波型ＡＯスペクトラムアナ
ライザにとっては構わない。従って、弾性表面波発生用
電極１８の形成領域のみに平面先導波路１１を形成しな
い領域２５を形成することにより、導波型ＡＯスペクト
ラムアナライザの性能を劣化させることなく、弾性表面
波電極１８の誘電体基板３２への付着力を高め、耐久性
を増すことができるとともに、生産の歩留りをあげるこ
とができる。

ここで平面光導波路１１は、誘電体基板３２をＬｉＮｂ
０．及び１ｉＴａ０３とすると、例えばＴｉを熱拡散し
て形成される。従って、Ｔｉ熱拡散前に電極形成領域の
みＴｉを除去しておけばよい。他の平面光導波路の形成
の場合についても同様である。

また、他の平面光回路を用いた導波型光信号処理デバイ
スについても同様なことが適用できるのは明らかである
。

第２図で、弾性表面波発生用電極１８は、光学研磨を施
された誘電体基板３２の表面に直接に形成されており、
電極形成領域以外の部分には、平面光導波路３３が形成
されている。

この構造を用いることにより、平面光導波路１１を熱拡
散または堆積法などにより製作した結果凹凸が生じても
、弾性表面波発生用電極１８には全く関係なく、凹凸が
存在する平面光導波路１１に弾性表面波発生用電極１８
を形成する構造と比較して付着力がよく、印加電力など
に対する耐久性及び信頼性は高まることは明らかである
。

また、弾性表面波発生用電極１８のパターン形成が平面
光導波路１１が有する凹凸に影響されることなく容易に
行なえ、かつ、生産の歩留りが向上する。

〔発明の効果〕

本発明は以上説明したように、平面光回路を利用した導
波型光信号処理デバイスにおいて、平面光回路上に形成
する外部信号印加電極の形成領域のみに平面光導波路を
形成しないことにより耐久性、信頼性を向上させる効果
を有する。

また、電極パターン形成が容易になり生産の歩留りを向
上させる効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の導波型ＡＯスペクトラムア
ナライザの平面図、第２図は第１図の弾性表面波発生用
電極１８の構成を中心に示す断面図、第３図は従来の平
面光回路上の弾性表面波発生用電極を用いた導波型ＡＯ
スペクトラムアナライザの平面図、第４図は第３図の弾
性表面波発生用電極１８の構成を中心に示す断面図であ
る。 １１・・・平面光導波路、１２・・・光源、１３．１４
・・・平面レンズ、１７・・・コリメート光、１８・・
・弾性表面波発生用電極、１９・・・弾性表面波、２０
・・・偏向光、２１・・・非偏向光、２２・・・アレイ
状検出器、２４・・・拡がり角を有する光、２５・・・
平面光導波路を形成しない領域、３２・・・誘電体基板
。 書ちイ図 ４５２　β］

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 誘電体基板表面に形成された平面光導波路を伝搬する光
   ビームを外部信号で制御し信号処理を行なう平面光回路
   を有する導波型光信号処理デバイスにおいて、前記平面
   光回路上に形成された外部信号印加電極領域に前記平面
   光導波路を形成しないようにしたことを特徴とする導波
   型光信号処理デバイス。