JPS6220231A - Icp質量分析装置 - Google Patents

Icp質量分析装置

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JPS6220231A
JPS6220231A JP60159180A JP15918085A JPS6220231A JP S6220231 A JPS6220231 A JP S6220231A JP 60159180 A JP60159180 A JP 60159180A JP 15918085 A JP15918085 A JP 15918085A JP S6220231 A JPS6220231 A JP S6220231A
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JP
Japan
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ion
vacuum chamber
mass spectrometer
vacuum
ions
Prior art date
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Pending
Application number
JP60159180A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Osawa
大澤 隆雄
Tetsumasa Itou
哲雅 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/26Mass spectrometers or separator tubes
    • H01J49/34Dynamic spectrometers
    • H01J49/42Stability-of-path spectrometers, e.g. monopole, quadrupole, multipole, farvitrons
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/04Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/06Electron- or ion-optical arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/10Ion sources; Ion guns
    • H01J49/105Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]

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  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ICP(高周波誘導結合プラズマ)質量分析
において使用される装置に関する。
〔発明の概要〕
ICPイオン源とイオンを引き出し収束させるイオンレ
ンズ系とイオンを分析検出する質量分析計で構成された
装置において、上記イオンレンズ系の構造を簡単にしイ
オンの吸収を少なくするために、イオンレンズ系を有す
る真空室の真空度を向」二さゼる構造にする。本発明の
結果、イオンレンズ系でのイオンの吸収が少な(なり、
質量分析計に入るイオン量が増大し、分析感度が向上す
る。
〔従来の技術〕
従来、icp質量分析装置においては、次の2種類の構
造が用いられてきた。第2図fa)では、ICPIのイ
オン源のイオンを引き出すサンプリング室と、イオンレ
ンズ系6と質量分析計10を有する真空室11との構造
を示す。サンプリング室の真空度はl Torrs次の
真空室の真空度は1O−6Torrである。第2図[b
)では、ICPイオン源のイオンを引き出すサンプリン
グ室、イオンレンズ系を有する真空室、質量分析計を有
する真空室の構造を示す。サンプリング室と2つの真空
室の真空度はそれぞれl Torr、10−’Torr
、10−’Torrである。
文献1)雑誌 アナリスト 1983出版著者 A、L
、グレイ、ARデート [インダクティビティ カップルド プラズマ マス スペクトロメトリー ユージング コンティニューム フロラ イオン エクストラクション−1〔発明が解決
しようとする問題点〕 従来、用いられてきた第2図ialの装置では゛、イオ
ンレンズ系と質量分析計を有する真空室の真空度を高め
るために大排気量の真空ポンプが必要となり、大型化す
るという欠点がある。第2図(blに示す装置(文献1
)では、イオンレンズ系を有する真空室の真空度が低い
ため、イオンの散乱を防くためにイオンレンズ系を多段
に配し、イオンを収束させる必要がある。イオンレンズ
系を多段にし、真空度が低いため、イオンの吸収が多く
なり、火室の質量分析計へのイオンの導入量が減少し、
分析感度が低下するという欠点がある。
〔問題点を解決するための手段〕
当該発明者は、従来用いられてきたICP質量分析装置
の欠点を解決するため、イオンレンズ系を存する真空室
をイオン引き出し部とイオン収束部に分割し、イオン収
束部と質量分析計を一つの真空室とする構造にし、真空
室は第2図tb+のように3室とし、イオンの吸収を可
能な限り少なくするために、第3真空室のイオン収束部
の構造を簡単にする。
〔作用〕
本発明により、ICP質量分析装置の構造を簡単にし、
可能な限り小型化し、質量分析計へのイオン導入量を増
大し、ICP質量分析装置の感度を向上させる。
〔実施例〕
以下、本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第1図において、1は被分析試料が導入されているIC
P、2はICPIのイオンを引き込むための穴径0.3
〜1 、5mmを有するサンプリングコーンであり、3
は排気管4が接続されサンプリングコーン2を有する仕
切により大気と仕切られ、図示しない真空ポンプにより
約I Torrの真空度に保たれるサンプリング室であ
る。5はサンプリング室3よりイオンを引き込むために
穴径0.5〜2.01を有するスキマーであり、6はイ
オンを引き出すために図示しない直流電源より+50〜
500Vの電圧を印加されるイオン引き出しレンズであ
る。7は排気管8が接続され、5のスキマーを有する仕
切により3の真空室と仕切られ、図示しない真空ポンプ
により真空度10−’Torr程度に保たれる第2真空
室である。9はICPIよりサンプリングコーン2、ス
キマー5をimす、イオンレンズ6により引き出された
イオンを質量分析計10に収束させるためのイオン収束
レンズである。11は排気管12が接続され、イオンレ
ンズ系を有する仕切により真空室7と仕切られ図示しな
い真空ポンプにより真空度10−6Torr程度に保た
れる第3真空室である。
ICPIより引き出されたイオンは、イオン引き出しレ
ンズ6を通り、真空度が10−6Torr程度に保たれ
ている第3真空室11内のイオン収束レンズ9を通り質
量分析計10に到達する。イオン収束レンズ9内でのイ
オンの運動する距離は真空度10−’Torr程度の真
空中に比べて100倍程度長くなり、またイオンの散乱
を防ぐことが可能となり、1段の簡単な構造をもつイオ
ンレンズ系を通して質量分析計10にイオンを導入する
ことが可能となる。第1図に示すICP質量分析装置に
おける前記のイオンレンズ6.9を通過するイオン量は
運動する距離に比例して増大し、ICP質量分析装置の
分析感度は向」ニする。
〔発明の効果〕
本発明により、従来の真空度の低い真空室に収納されて
いるイオンレンズ系を有するICP質量分析装置に比較
して、分析感度が格段に向上した。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のICP質量分析装置の概略図である
。第2図fat、(blは従来のtcp質量分析装置の
概略図である。 1・・・■CP 2・・ ・サンプリングコーン 3・・・サンプリング室 4・・・排気管 5・・・スキマー 6・・・イオン引き出しレンズ 7・・・第1真空室 8・・・排気管 9・・・イオン収束レンズ 10・・・質量分析計 11・・・第2真空室 12・・・排気管 以  −ト IAL

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)大気圧下のICP(高周波誘導プラズマ)のイオ
    ンを取り入れるサンプリングコーン、該サンプリングコ
    ーンに接続されるサンプリング室、該サンプリング室を
    通過したイオンを引き出し収束させるイオンレンズ系、
    該イオンレンズ系を通過したイオンを分析するための質
    量分析計及びイオンレンズ系及び質量分析計を収納する
    ための真空室よりなるICP質量分析装置において、該
    真空室は、イオン通過口を有する仕切により第1真空室
    及び第2真空室に2分されており、サンプリング室に隣
    接する第1真空室は、イオンレンズ系の一部を収納し、
    かつ排気系により排気され、第1真空室に隣接する第2
    真空室は、イオンレンズ系の残部及び質量分析計を収納
    し、かつ排気系により排気されているとともに、第2真
    空室は第1真空室より高真空に保たれていることを特徴
    とするICP質量分析装置。
  2. (2)前記第2真空室に収納されるイオンレンズ系の残
    部は、対称な数枚の電極より構成されていることを特徴
    とする第1項記載のICP質量分析装置(3)前記IC
    P質量分析装置は4重極質量分析計と2次電子増倍管よ
    り成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のI
    CP質量分析装置。
JP60159180A 1985-07-18 1985-07-18 Icp質量分析装置 Pending JPS6220231A (ja)

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JP60159180A JPS6220231A (ja) 1985-07-18 1985-07-18 Icp質量分析装置
US06/886,977 US4740696A (en) 1985-07-18 1986-07-17 ICP mass spectrometer
DE19863624355 DE3624355A1 (de) 1985-07-18 1986-07-18 Massenspektrometer

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JP60159180A JPS6220231A (ja) 1985-07-18 1985-07-18 Icp質量分析装置

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US4740696A (en) 1988-04-26

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