JPS6220231A - Icp質量分析装置 - Google Patents
Icp質量分析装置Info
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- JPS6220231A JPS6220231A JP60159180A JP15918085A JPS6220231A JP S6220231 A JPS6220231 A JP S6220231A JP 60159180 A JP60159180 A JP 60159180A JP 15918085 A JP15918085 A JP 15918085A JP S6220231 A JPS6220231 A JP S6220231A
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- JP
- Japan
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- ion
- vacuum chamber
- mass spectrometer
- vacuum
- ions
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/34—Dynamic spectrometers
- H01J49/42—Stability-of-path spectrometers, e.g. monopole, quadrupole, multipole, farvitrons
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
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- H—ELECTRICITY
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- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ICP(高周波誘導結合プラズマ)質量分析
において使用される装置に関する。
において使用される装置に関する。
ICPイオン源とイオンを引き出し収束させるイオンレ
ンズ系とイオンを分析検出する質量分析計で構成された
装置において、上記イオンレンズ系の構造を簡単にしイ
オンの吸収を少なくするために、イオンレンズ系を有す
る真空室の真空度を向」二さゼる構造にする。本発明の
結果、イオンレンズ系でのイオンの吸収が少な(なり、
質量分析計に入るイオン量が増大し、分析感度が向上す
る。
ンズ系とイオンを分析検出する質量分析計で構成された
装置において、上記イオンレンズ系の構造を簡単にしイ
オンの吸収を少なくするために、イオンレンズ系を有す
る真空室の真空度を向」二さゼる構造にする。本発明の
結果、イオンレンズ系でのイオンの吸収が少な(なり、
質量分析計に入るイオン量が増大し、分析感度が向上す
る。
従来、icp質量分析装置においては、次の2種類の構
造が用いられてきた。第2図fa)では、ICPIのイ
オン源のイオンを引き出すサンプリング室と、イオンレ
ンズ系6と質量分析計10を有する真空室11との構造
を示す。サンプリング室の真空度はl Torrs次の
真空室の真空度は1O−6Torrである。第2図[b
)では、ICPイオン源のイオンを引き出すサンプリン
グ室、イオンレンズ系を有する真空室、質量分析計を有
する真空室の構造を示す。サンプリング室と2つの真空
室の真空度はそれぞれl Torr、10−’Torr
、10−’Torrである。
造が用いられてきた。第2図fa)では、ICPIのイ
オン源のイオンを引き出すサンプリング室と、イオンレ
ンズ系6と質量分析計10を有する真空室11との構造
を示す。サンプリング室の真空度はl Torrs次の
真空室の真空度は1O−6Torrである。第2図[b
)では、ICPイオン源のイオンを引き出すサンプリン
グ室、イオンレンズ系を有する真空室、質量分析計を有
する真空室の構造を示す。サンプリング室と2つの真空
室の真空度はそれぞれl Torr、10−’Torr
、10−’Torrである。
文献1)雑誌 アナリスト 1983出版著者 A、L
、グレイ、ARデート [インダクティビティ カップルド プラズマ マス スペクトロメトリー ユージング コンティニューム フロラ イオン エクストラクション−1〔発明が解決
しようとする問題点〕 従来、用いられてきた第2図ialの装置では゛、イオ
ンレンズ系と質量分析計を有する真空室の真空度を高め
るために大排気量の真空ポンプが必要となり、大型化す
るという欠点がある。第2図(blに示す装置(文献1
)では、イオンレンズ系を有する真空室の真空度が低い
ため、イオンの散乱を防くためにイオンレンズ系を多段
に配し、イオンを収束させる必要がある。イオンレンズ
系を多段にし、真空度が低いため、イオンの吸収が多く
なり、火室の質量分析計へのイオンの導入量が減少し、
分析感度が低下するという欠点がある。
、グレイ、ARデート [インダクティビティ カップルド プラズマ マス スペクトロメトリー ユージング コンティニューム フロラ イオン エクストラクション−1〔発明が解決
しようとする問題点〕 従来、用いられてきた第2図ialの装置では゛、イオ
ンレンズ系と質量分析計を有する真空室の真空度を高め
るために大排気量の真空ポンプが必要となり、大型化す
るという欠点がある。第2図(blに示す装置(文献1
)では、イオンレンズ系を有する真空室の真空度が低い
ため、イオンの散乱を防くためにイオンレンズ系を多段
に配し、イオンを収束させる必要がある。イオンレンズ
系を多段にし、真空度が低いため、イオンの吸収が多く
なり、火室の質量分析計へのイオンの導入量が減少し、
分析感度が低下するという欠点がある。
当該発明者は、従来用いられてきたICP質量分析装置
の欠点を解決するため、イオンレンズ系を存する真空室
をイオン引き出し部とイオン収束部に分割し、イオン収
束部と質量分析計を一つの真空室とする構造にし、真空
室は第2図tb+のように3室とし、イオンの吸収を可
能な限り少なくするために、第3真空室のイオン収束部
の構造を簡単にする。
の欠点を解決するため、イオンレンズ系を存する真空室
をイオン引き出し部とイオン収束部に分割し、イオン収
束部と質量分析計を一つの真空室とする構造にし、真空
室は第2図tb+のように3室とし、イオンの吸収を可
能な限り少なくするために、第3真空室のイオン収束部
の構造を簡単にする。
本発明により、ICP質量分析装置の構造を簡単にし、
可能な限り小型化し、質量分析計へのイオン導入量を増
大し、ICP質量分析装置の感度を向上させる。
可能な限り小型化し、質量分析計へのイオン導入量を増
大し、ICP質量分析装置の感度を向上させる。
以下、本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第1図において、1は被分析試料が導入されているIC
P、2はICPIのイオンを引き込むための穴径0.3
〜1 、5mmを有するサンプリングコーンであり、3
は排気管4が接続されサンプリングコーン2を有する仕
切により大気と仕切られ、図示しない真空ポンプにより
約I Torrの真空度に保たれるサンプリング室であ
る。5はサンプリング室3よりイオンを引き込むために
穴径0.5〜2.01を有するスキマーであり、6はイ
オンを引き出すために図示しない直流電源より+50〜
500Vの電圧を印加されるイオン引き出しレンズであ
る。7は排気管8が接続され、5のスキマーを有する仕
切により3の真空室と仕切られ、図示しない真空ポンプ
により真空度10−’Torr程度に保たれる第2真空
室である。9はICPIよりサンプリングコーン2、ス
キマー5をimす、イオンレンズ6により引き出された
イオンを質量分析計10に収束させるためのイオン収束
レンズである。11は排気管12が接続され、イオンレ
ンズ系を有する仕切により真空室7と仕切られ図示しな
い真空ポンプにより真空度10−6Torr程度に保た
れる第3真空室である。
P、2はICPIのイオンを引き込むための穴径0.3
〜1 、5mmを有するサンプリングコーンであり、3
は排気管4が接続されサンプリングコーン2を有する仕
切により大気と仕切られ、図示しない真空ポンプにより
約I Torrの真空度に保たれるサンプリング室であ
る。5はサンプリング室3よりイオンを引き込むために
穴径0.5〜2.01を有するスキマーであり、6はイ
オンを引き出すために図示しない直流電源より+50〜
500Vの電圧を印加されるイオン引き出しレンズであ
る。7は排気管8が接続され、5のスキマーを有する仕
切により3の真空室と仕切られ、図示しない真空ポンプ
により真空度10−’Torr程度に保たれる第2真空
室である。9はICPIよりサンプリングコーン2、ス
キマー5をimす、イオンレンズ6により引き出された
イオンを質量分析計10に収束させるためのイオン収束
レンズである。11は排気管12が接続され、イオンレ
ンズ系を有する仕切により真空室7と仕切られ図示しな
い真空ポンプにより真空度10−6Torr程度に保た
れる第3真空室である。
ICPIより引き出されたイオンは、イオン引き出しレ
ンズ6を通り、真空度が10−6Torr程度に保たれ
ている第3真空室11内のイオン収束レンズ9を通り質
量分析計10に到達する。イオン収束レンズ9内でのイ
オンの運動する距離は真空度10−’Torr程度の真
空中に比べて100倍程度長くなり、またイオンの散乱
を防ぐことが可能となり、1段の簡単な構造をもつイオ
ンレンズ系を通して質量分析計10にイオンを導入する
ことが可能となる。第1図に示すICP質量分析装置に
おける前記のイオンレンズ6.9を通過するイオン量は
運動する距離に比例して増大し、ICP質量分析装置の
分析感度は向」ニする。
ンズ6を通り、真空度が10−6Torr程度に保たれ
ている第3真空室11内のイオン収束レンズ9を通り質
量分析計10に到達する。イオン収束レンズ9内でのイ
オンの運動する距離は真空度10−’Torr程度の真
空中に比べて100倍程度長くなり、またイオンの散乱
を防ぐことが可能となり、1段の簡単な構造をもつイオ
ンレンズ系を通して質量分析計10にイオンを導入する
ことが可能となる。第1図に示すICP質量分析装置に
おける前記のイオンレンズ6.9を通過するイオン量は
運動する距離に比例して増大し、ICP質量分析装置の
分析感度は向」ニする。
本発明により、従来の真空度の低い真空室に収納されて
いるイオンレンズ系を有するICP質量分析装置に比較
して、分析感度が格段に向上した。
いるイオンレンズ系を有するICP質量分析装置に比較
して、分析感度が格段に向上した。
第1図は、本発明のICP質量分析装置の概略図である
。第2図fat、(blは従来のtcp質量分析装置の
概略図である。 1・・・■CP 2・・ ・サンプリングコーン 3・・・サンプリング室 4・・・排気管 5・・・スキマー 6・・・イオン引き出しレンズ 7・・・第1真空室 8・・・排気管 9・・・イオン収束レンズ 10・・・質量分析計 11・・・第2真空室 12・・・排気管 以 −ト IAL
。第2図fat、(blは従来のtcp質量分析装置の
概略図である。 1・・・■CP 2・・ ・サンプリングコーン 3・・・サンプリング室 4・・・排気管 5・・・スキマー 6・・・イオン引き出しレンズ 7・・・第1真空室 8・・・排気管 9・・・イオン収束レンズ 10・・・質量分析計 11・・・第2真空室 12・・・排気管 以 −ト IAL
Claims (2)
- (1)大気圧下のICP(高周波誘導プラズマ)のイオ
ンを取り入れるサンプリングコーン、該サンプリングコ
ーンに接続されるサンプリング室、該サンプリング室を
通過したイオンを引き出し収束させるイオンレンズ系、
該イオンレンズ系を通過したイオンを分析するための質
量分析計及びイオンレンズ系及び質量分析計を収納する
ための真空室よりなるICP質量分析装置において、該
真空室は、イオン通過口を有する仕切により第1真空室
及び第2真空室に2分されており、サンプリング室に隣
接する第1真空室は、イオンレンズ系の一部を収納し、
かつ排気系により排気され、第1真空室に隣接する第2
真空室は、イオンレンズ系の残部及び質量分析計を収納
し、かつ排気系により排気されているとともに、第2真
空室は第1真空室より高真空に保たれていることを特徴
とするICP質量分析装置。 - (2)前記第2真空室に収納されるイオンレンズ系の残
部は、対称な数枚の電極より構成されていることを特徴
とする第1項記載のICP質量分析装置(3)前記IC
P質量分析装置は4重極質量分析計と2次電子増倍管よ
り成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のI
CP質量分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60159180A JPS6220231A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | Icp質量分析装置 |
US06/886,977 US4740696A (en) | 1985-07-18 | 1986-07-17 | ICP mass spectrometer |
DE19863624355 DE3624355A1 (de) | 1985-07-18 | 1986-07-18 | Massenspektrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60159180A JPS6220231A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | Icp質量分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6220231A true JPS6220231A (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15688047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60159180A Pending JPS6220231A (ja) | 1985-07-18 | 1985-07-18 | Icp質量分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4740696A (ja) |
JP (1) | JPS6220231A (ja) |
DE (1) | DE3624355A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8813149D0 (en) * | 1988-06-03 | 1988-07-06 | Vg Instr Group | Mass spectrometer |
JP2753265B2 (ja) * | 1988-06-10 | 1998-05-18 | 株式会社日立製作所 | プラズマイオン化質量分析計 |
GB8901975D0 (en) * | 1989-01-30 | 1989-03-22 | Vg Instr Group | Plasma mass spectrometer |
JPH03194843A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-26 | Hitachi Ltd | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
JP2913924B2 (ja) * | 1991-09-12 | 1999-06-28 | 株式会社日立製作所 | 質量分析の方法および装置 |
US6002130A (en) * | 1991-09-12 | 1999-12-14 | Hitachi, Ltd. | Mass spectrometry and mass spectrometer |
US5495107A (en) * | 1994-04-06 | 1996-02-27 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Analysis |
DE19523860A1 (de) * | 1995-06-30 | 1997-01-02 | Bruker Franzen Analytik Gmbh | Ionenfallen-Massenspektrometer mit vakuum-externer Ionenerzeugung |
ATE331631T1 (de) | 1999-02-24 | 2006-07-15 | Canon Kk | Druckapparat und drucksteuerungsverfahren |
GB0021902D0 (en) * | 2000-09-06 | 2000-10-25 | Kratos Analytical Ltd | Ion optics system for TOF mass spectrometer |
US7119330B2 (en) * | 2002-03-08 | 2006-10-10 | Varian Australia Pty Ltd | Plasma mass spectrometer |
US7405397B2 (en) * | 2002-03-28 | 2008-07-29 | Mds Sciex Inc. | Laser desorption ion source with ion guide coupling for ion mass spectroscopy |
US9105457B2 (en) * | 2010-02-24 | 2015-08-11 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Cone-shaped orifice arrangement for inductively coupled plasma sample introduction system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5291494A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-01 | Hitachi Ltd | Mass spectrometer |
US4300044A (en) * | 1980-05-07 | 1981-11-10 | Iribarne Julio V | Method and apparatus for the analysis of chemical compounds in aqueous solution by mass spectroscopy of evaporating ions |
US4501965A (en) * | 1983-01-14 | 1985-02-26 | Mds Health Group Limited | Method and apparatus for sampling a plasma into a vacuum chamber |
US4682026A (en) * | 1986-04-10 | 1987-07-21 | Mds Health Group Limited | Method and apparatus having RF biasing for sampling a plasma into a vacuum chamber |
-
1985
- 1985-07-18 JP JP60159180A patent/JPS6220231A/ja active Pending
-
1986
- 1986-07-17 US US06/886,977 patent/US4740696A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-18 DE DE19863624355 patent/DE3624355A1/de not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3624355A1 (de) | 1987-02-05 |
US4740696A (en) | 1988-04-26 |
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