JPH05129001A - イオン分析計 - Google Patents
イオン分析計Info
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- JPH05129001A JPH05129001A JP3318424A JP31842491A JPH05129001A JP H05129001 A JPH05129001 A JP H05129001A JP 3318424 A JP3318424 A JP 3318424A JP 31842491 A JP31842491 A JP 31842491A JP H05129001 A JPH05129001 A JP H05129001A
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- Japan
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- energy filter
- ion
- type
- ion analyzer
- ions
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- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 76
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
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- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 スパッタリング装置等、実際の装置へ容易に
取り付けることができ、分析するイオンの収率を従来よ
りも高くすることのできるイオン分析計を提供すること
を目的としている。 【構成】 イオンの種類及びそのエネルギーを分析する
ためのエネルギーフィルター2a及び四極子質量分析器
1で構成されるイオン分析計である。エネルギーフィル
ター2aに入射するイオンの軌道3と、出射したイオン
の軌道3を平行且つ同方向にする。エネルギーフィルタ
ーは、同軸円筒型、平行平板型、同心半球型などの静電
偏向型エネルギーフィルターを点対称に配置して構成す
る。
取り付けることができ、分析するイオンの収率を従来よ
りも高くすることのできるイオン分析計を提供すること
を目的としている。 【構成】 イオンの種類及びそのエネルギーを分析する
ためのエネルギーフィルター2a及び四極子質量分析器
1で構成されるイオン分析計である。エネルギーフィル
ター2aに入射するイオンの軌道3と、出射したイオン
の軌道3を平行且つ同方向にする。エネルギーフィルタ
ーは、同軸円筒型、平行平板型、同心半球型などの静電
偏向型エネルギーフィルターを点対称に配置して構成す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、イオンの種類及びその
エネルギーを同時に分析するためのイオン分析計の改良
に関する。
エネルギーを同時に分析するためのイオン分析計の改良
に関する。
【0002】
【従来の技術】最近の薄膜技術においては、2種類以上
の元素からなる複雑な系の化合物をスパッタリング等の
方法によって薄膜形成する場合が多いが、形成する薄膜
が複雑な系の化合物になるに従って高品質の薄膜を得る
ことが困難になっている。これは成膜中の現象が複雑に
なるためで、現在ではこの複雑な現象を解明するため
に、プラズマ中のイオンの分析や基板に入射するイオン
の分析が行われている。
の元素からなる複雑な系の化合物をスパッタリング等の
方法によって薄膜形成する場合が多いが、形成する薄膜
が複雑な系の化合物になるに従って高品質の薄膜を得る
ことが困難になっている。これは成膜中の現象が複雑に
なるためで、現在ではこの複雑な現象を解明するため
に、プラズマ中のイオンの分析や基板に入射するイオン
の分析が行われている。
【0003】イオンの持つ質量とエネルギーは、四極子
型質量分析器とエネルギーフィルターを組み合せたイオ
ン分析計により同時測定が可能で、二次イオン質量分析
計(SIMS)等においてよく用いられている。
型質量分析器とエネルギーフィルターを組み合せたイオ
ン分析計により同時測定が可能で、二次イオン質量分析
計(SIMS)等においてよく用いられている。
【0004】図6は前記SIMS等において一般に用い
られている同軸円筒型のエネルギーフィルターを用いた
イオン分析計の概略である。図中、1は四極子型質量分
析計、2はエネルギーフィルターである。四極子型質量
分析計1は四極子11、検出器12、四極子制御電源1
3及び直流電源14から成り、エネルギーフィルター2
は引き込み電極21、スリット22、偏向電極211、
212及び偏向電極制御電源20から成る。直流電源1
4は四極子11の電位をエネルギーフィルター2の透過
エネルギーに対応した電位にするための電源で、偏向電
極制御電源20と連動して動作するように構成されてい
る。点線3は分析されるイオンの軌道である。エネルギ
ーフィルター2にはこの従来例で示したような同軸円筒
型の他に、平行平板型、同心半球型、同軸円筒鏡型、四
枚球型グリッド等がある。これらエネルギーフィルター
の説明は表面分析等の文献に詳細に述べられているので
省略する。
られている同軸円筒型のエネルギーフィルターを用いた
イオン分析計の概略である。図中、1は四極子型質量分
析計、2はエネルギーフィルターである。四極子型質量
分析計1は四極子11、検出器12、四極子制御電源1
3及び直流電源14から成り、エネルギーフィルター2
は引き込み電極21、スリット22、偏向電極211、
212及び偏向電極制御電源20から成る。直流電源1
4は四極子11の電位をエネルギーフィルター2の透過
エネルギーに対応した電位にするための電源で、偏向電
極制御電源20と連動して動作するように構成されてい
る。点線3は分析されるイオンの軌道である。エネルギ
ーフィルター2にはこの従来例で示したような同軸円筒
型の他に、平行平板型、同心半球型、同軸円筒鏡型、四
枚球型グリッド等がある。これらエネルギーフィルター
の説明は表面分析等の文献に詳細に述べられているので
省略する。
【0005】図7は、スパッタリング中にターゲットか
ら放出され基板に垂直入射するイオンを分析するため
に、図6に示した同軸円筒型エネルギーフィルター2を
用いたイオン分析計を実際のスパッタリング装置に取り
付けた例を示す概略図である。本図ではスパッタリング
装置におけるガス導入系や電源及びイオン分析系におけ
る制御電源等は省略してある。また、図6に示した要素
と同じ要素には同符号を付して説明を省略する。4はス
パッタリング装置で、40は排気系、41はスパッタリ
ング室、42はカソード、43はターゲット、44は基
板ホルダーである。5はイオン分析計で、50は四極子
型質量分析計1の動作圧力を保つための差動排気系、5
1は分析室容器である。6は基板ホルダー44に設けら
れたサンプリングオリフィスで、イオンはこのサンプリ
ングオリフィス6を通してスパッタリング室41からイ
オン分析計5へ導入される。
ら放出され基板に垂直入射するイオンを分析するため
に、図6に示した同軸円筒型エネルギーフィルター2を
用いたイオン分析計を実際のスパッタリング装置に取り
付けた例を示す概略図である。本図ではスパッタリング
装置におけるガス導入系や電源及びイオン分析系におけ
る制御電源等は省略してある。また、図6に示した要素
と同じ要素には同符号を付して説明を省略する。4はス
パッタリング装置で、40は排気系、41はスパッタリ
ング室、42はカソード、43はターゲット、44は基
板ホルダーである。5はイオン分析計で、50は四極子
型質量分析計1の動作圧力を保つための差動排気系、5
1は分析室容器である。6は基板ホルダー44に設けら
れたサンプリングオリフィスで、イオンはこのサンプリ
ングオリフィス6を通してスパッタリング室41からイ
オン分析計5へ導入される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし図6に示した従
来の同軸円筒型や平行平板型或いは同心半球型エネルギ
ーフィルターでは、イオンの入射軸と出射軸との間に偏
向角を持つため、イオン分析計をスパッタリング装置に
設置する場合には、図7のようにイオン分析計5をスパ
ッタリング室41に対してエネルギーフィルター2の偏
向角と同じ角度をもって斜めに配置しなくてはならず、
差動排気系50の配置など実際の装置への取り付けが困
難である。しかもイオン分析計を斜めに配置しなければ
ならない関係上、サンプリングオリフィス6とイオン分
析計のイオン引き込み電極21との距離Dが必然的に長
くなってしまい、分析するイオンの収率が低くなってし
まう。極端な場合、イオンの収量が通常のイオン分析計
の分析限界以下となる場合がある。
来の同軸円筒型や平行平板型或いは同心半球型エネルギ
ーフィルターでは、イオンの入射軸と出射軸との間に偏
向角を持つため、イオン分析計をスパッタリング装置に
設置する場合には、図7のようにイオン分析計5をスパ
ッタリング室41に対してエネルギーフィルター2の偏
向角と同じ角度をもって斜めに配置しなくてはならず、
差動排気系50の配置など実際の装置への取り付けが困
難である。しかもイオン分析計を斜めに配置しなければ
ならない関係上、サンプリングオリフィス6とイオン分
析計のイオン引き込み電極21との距離Dが必然的に長
くなってしまい、分析するイオンの収率が低くなってし
まう。極端な場合、イオンの収量が通常のイオン分析計
の分析限界以下となる場合がある。
【0007】以上の同軸円筒型及び平行平板型、同心半
球型エネルギーフィルター以外の同軸円筒鏡型や4枚球
型グリッド・エネルギーフィルターでは、エネルギーフ
ィルターの中心軸上にストッパーを配置するため斜め入
射のイオンに対しては分析可能であるが、分析計の中心
軸に沿って入射してくるイオンを分析できないといった
欠点がある。
球型エネルギーフィルター以外の同軸円筒鏡型や4枚球
型グリッド・エネルギーフィルターでは、エネルギーフ
ィルターの中心軸上にストッパーを配置するため斜め入
射のイオンに対しては分析可能であるが、分析計の中心
軸に沿って入射してくるイオンを分析できないといった
欠点がある。
【0008】
【課題を解決する為の手段】本発明は、以上のような問
題点に鑑みてなされたもので、実際の装置へ容易に取り
付けることができ、分析するイオンの収率を従来よりも
高くすることのできるイオン分析計を提供することを目
的としている。
題点に鑑みてなされたもので、実際の装置へ容易に取り
付けることができ、分析するイオンの収率を従来よりも
高くすることのできるイオン分析計を提供することを目
的としている。
【0009】本発明のイオン分析計では、エネルギーフ
ィルターの前後におけるイオンの軌道、即ち、入射する
イオンの軌道と、出射したイオンの軌道を平行且つ同方
向にしたことを特徴としている。四極子型質量分析器と
組み合わせる前記エネルギーフィルターは、点対称に配
置した同形状の2つの静電偏向型エネルギーフィルター
により構成されている。この場合、エネルギーフィルタ
ーとして同軸円筒型、平行平板型又は同心半球型のエネ
ルギーフィルターを用いることができる。
ィルターの前後におけるイオンの軌道、即ち、入射する
イオンの軌道と、出射したイオンの軌道を平行且つ同方
向にしたことを特徴としている。四極子型質量分析器と
組み合わせる前記エネルギーフィルターは、点対称に配
置した同形状の2つの静電偏向型エネルギーフィルター
により構成されている。この場合、エネルギーフィルタ
ーとして同軸円筒型、平行平板型又は同心半球型のエネ
ルギーフィルターを用いることができる。
【0010】
【作用】本発明のイオン分析計では、イオンの軌道をエ
ネルギーフィルターの前後で平行且つ同方向にしたの
で、エネルギーフィルターと結合する四極子型質量分析
器の方向を入射イオンの軌道の方向に一致させることが
できる。この結果、スパッタリング装置その他の装置に
対して略垂直に取付け得るイオン分析計を提供すること
ができる。
ネルギーフィルターの前後で平行且つ同方向にしたの
で、エネルギーフィルターと結合する四極子型質量分析
器の方向を入射イオンの軌道の方向に一致させることが
できる。この結果、スパッタリング装置その他の装置に
対して略垂直に取付け得るイオン分析計を提供すること
ができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。以下の各図において、図6及び図7と同一の要素
には同一の符号を付し、説明を省略する。
する。以下の各図において、図6及び図7と同一の要素
には同一の符号を付し、説明を省略する。
【0012】図1は、本発明の実施例の1つであって、
エネルギーフィルターを偏向角が90°の2つの同軸円
筒型エネルギーフィルターで構成した場合のイオン分析
計の概略図である。2aはエネルギーフィルターであ
り、221、222は1段目の偏向電極、223、22
4は2段目の偏向電極、23は2つのエネルギーフィル
ターの間に配置されたスリットである。1段目の偏向電
極221、222と2段目の偏向電極223、224は
点対称に配置されている。この実施例のように同形状の
2つのエネルギーフィルターを点対称に配置した場合、
分析されるイオンの軌道はエネルギーフィルター2aの
前後でdだけ平行移動するのみである。本図では1つの
エネルギーフィルターのイオン偏向角は90°である
が、この偏向角は何度でもよく、任意である。
エネルギーフィルターを偏向角が90°の2つの同軸円
筒型エネルギーフィルターで構成した場合のイオン分析
計の概略図である。2aはエネルギーフィルターであ
り、221、222は1段目の偏向電極、223、22
4は2段目の偏向電極、23は2つのエネルギーフィル
ターの間に配置されたスリットである。1段目の偏向電
極221、222と2段目の偏向電極223、224は
点対称に配置されている。この実施例のように同形状の
2つのエネルギーフィルターを点対称に配置した場合、
分析されるイオンの軌道はエネルギーフィルター2aの
前後でdだけ平行移動するのみである。本図では1つの
エネルギーフィルターのイオン偏向角は90°である
が、この偏向角は何度でもよく、任意である。
【0013】図2は図1に示したイオン分析計を、スパ
ッタリング中に基板に入射するイオンの分析を行なうた
めに、実際のスパッタリング装置4に取り付けた場合の
例である。5がイオン分析計であり、51が分析室容器
である。2つの同形状の静電偏向型エネルギーフィルタ
ーを点対称に配置したことで、差動排気形50を含めた
イオン分析計5は略垂直に設置することが可能で、装置
への取り付けが容易になる。さらにイオン引き込み電極
21をサンプリングオリフィス6に近づけることがで
き、図7で示した距離Dを短くすることができる。従っ
て分析されるイオンの収率を容易に高くすることができ
る。
ッタリング中に基板に入射するイオンの分析を行なうた
めに、実際のスパッタリング装置4に取り付けた場合の
例である。5がイオン分析計であり、51が分析室容器
である。2つの同形状の静電偏向型エネルギーフィルタ
ーを点対称に配置したことで、差動排気形50を含めた
イオン分析計5は略垂直に設置することが可能で、装置
への取り付けが容易になる。さらにイオン引き込み電極
21をサンプリングオリフィス6に近づけることがで
き、図7で示した距離Dを短くすることができる。従っ
て分析されるイオンの収率を容易に高くすることができ
る。
【0014】図2に示した配置により実際に基板ホルダ
ー44に入射するイオンを分析した結果を表1に示す。
ー44に入射するイオンを分析した結果を表1に示す。
【0015】
【表1】
【0016】用いたエネルギーフィルターは偏向電極2
21、223及び偏向電極222、224の半径が各々
18mm及び14mm、偏向角が90°の同軸円筒型のもの
で、1段目と2段目の間隔はスリット23を含め3mmで
ある。分析を行なったターゲット43はY1 B a2 C u
3 O7-x の酸化物超電導体で、スパッタリング条件は、
スパッタリングガスAr 、スパッタリング圧力3.3P
a 、入力DC150wである。また、ターゲット43の
表面からサンプリングオリフィス6までの距離は30mm
で、サンプリングオリフィス6とイオン分析計のイオン
引き込み電極21との距離は1mmである。尚、表1にお
いて同位体の存在する元素については存在比の最も高い
ものについて示してあり、エネルギーフィルターを各々
のイオン電流が最も多く検出されるエネルギーに合わせ
て分析したときの値である。
21、223及び偏向電極222、224の半径が各々
18mm及び14mm、偏向角が90°の同軸円筒型のもの
で、1段目と2段目の間隔はスリット23を含め3mmで
ある。分析を行なったターゲット43はY1 B a2 C u
3 O7-x の酸化物超電導体で、スパッタリング条件は、
スパッタリングガスAr 、スパッタリング圧力3.3P
a 、入力DC150wである。また、ターゲット43の
表面からサンプリングオリフィス6までの距離は30mm
で、サンプリングオリフィス6とイオン分析計のイオン
引き込み電極21との距離は1mmである。尚、表1にお
いて同位体の存在する元素については存在比の最も高い
ものについて示してあり、エネルギーフィルターを各々
のイオン電流が最も多く検出されるエネルギーに合わせ
て分析したときの値である。
【0017】図3は本発明の他の実施例であって、エネ
ルギーフィルターに平行平板型を用いた場合の概略図で
ある。2bは平行平板型エネルギーフィルターで231
と232及び233と234は各々1段目と2段目の偏
向電極である。
ルギーフィルターに平行平板型を用いた場合の概略図で
ある。2bは平行平板型エネルギーフィルターで231
と232及び233と234は各々1段目と2段目の偏
向電極である。
【0018】図4は図3に示したエネルギーフィルター
2bの1段目の偏向電極232と2段目の偏向電極23
4を1つの電極242にした例である。2cはエネルギ
ーフィルターで、241〜243は偏向電極である。特
性は図3のエネルギーフィルターと相違はない。
2bの1段目の偏向電極232と2段目の偏向電極23
4を1つの電極242にした例である。2cはエネルギ
ーフィルターで、241〜243は偏向電極である。特
性は図3のエネルギーフィルターと相違はない。
【0019】図3及び図4では1つのエネルギーフィル
ターのイオン偏向角は90°であるが、前に述べた同軸
円筒型エネルギーフィルターと同様に偏向角は任意であ
る。
ターのイオン偏向角は90°であるが、前に述べた同軸
円筒型エネルギーフィルターと同様に偏向角は任意であ
る。
【0020】図5はもう一つの実施例であって、エネル
ギーフィルターに同心半球型を用いた場合の概略の断面
図である。2dはエネルギーフィルターで、251と2
52及び253と254は各々1段目と2段目の半球型
のエネルギーフィルターの偏向電極である。
ギーフィルターに同心半球型を用いた場合の概略の断面
図である。2dはエネルギーフィルターで、251と2
52及び253と254は各々1段目と2段目の半球型
のエネルギーフィルターの偏向電極である。
【0021】図3乃至図5に示した実施例のイオン分析
計も、エネルギーフィルターに入射するイオンと通過し
たイオンの軌道を平行且つ同方向とできるので、図1、
2の場合と同様に、装置への取り付けを容易にできると
共に、分析されるイオンの収率を高くすることができ
る。
計も、エネルギーフィルターに入射するイオンと通過し
たイオンの軌道を平行且つ同方向とできるので、図1、
2の場合と同様に、装置への取り付けを容易にできると
共に、分析されるイオンの収率を高くすることができ
る。
【0022】以上に示した実施例では、引き込み電極2
1及びスリット22、23は全て接地電位となっている
が、色々な分析に応じて各々の電極の電位を独立に設定
できる回路を備えてもよい。また、以上の実施例では1
段目の偏向電極間と2段目の偏向電極間の電位差は同じ
になるが、エネルギーフィルターの機械的精度を考慮す
ると、1段目と2段目の偏向電極間の電位差も独立に制
御できるようにした方がよい。
1及びスリット22、23は全て接地電位となっている
が、色々な分析に応じて各々の電極の電位を独立に設定
できる回路を備えてもよい。また、以上の実施例では1
段目の偏向電極間と2段目の偏向電極間の電位差は同じ
になるが、エネルギーフィルターの機械的精度を考慮す
ると、1段目と2段目の偏向電極間の電位差も独立に制
御できるようにした方がよい。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、エネルギーフィルター
に入射するイオンと出射するイオンの軌道を平行且つ同
方向としたので、イオン分析計の実際の装置への取り付
けが容易になり、また、分析するイオンの収率を高くす
ることができる。これによりイオン分析を感度良く行な
うことができる。
に入射するイオンと出射するイオンの軌道を平行且つ同
方向としたので、イオン分析計の実際の装置への取り付
けが容易になり、また、分析するイオンの収率を高くす
ることができる。これによりイオン分析を感度良く行な
うことができる。
【図1】本発明に係わるイオン分析計の第1実施例であ
って、同軸円筒型エネルギーフィルターを用いた場合の
概略の構成図。
って、同軸円筒型エネルギーフィルターを用いた場合の
概略の構成図。
【図2】第1実施例のイオン分析計をスパッタリング装
置に取り付けた場合の概略の構成図。
置に取り付けた場合の概略の構成図。
【図3】本発明に係わる第2実施例であって、平行平板
型エネルギーフィルターを用いたイオン分析計の概略の
構成図。
型エネルギーフィルターを用いたイオン分析計の概略の
構成図。
【図4】同じく第3実施例であって、平行平板型エネル
ギーフィルターの偏向電極を変更したイオン分析計の概
略の構成図。
ギーフィルターの偏向電極を変更したイオン分析計の概
略の構成図。
【図5】同じく第4実施例であって、同心円筒型エネル
ギーフィルターを用いたイオン分析計の概略の構成図。
ギーフィルターを用いたイオン分析計の概略の構成図。
【図6】従来のイオン分析計の概略の構成図。
【図7】従来のイオン分析計をスパッタリング装置に取
り付けた場合の概略の構成図。
り付けた場合の概略の構成図。
1 四極子型質量分析計 2,2a,2b,2c,2d エネルギーフィルター 3 分析されるイオンの軌道 4 スパッタリング装置 5 イオン分析計 d エネルギーフィルターの前後でのイオンの平行移動
距離 D サンプリングオリフィスと引き込み電極との距離
距離 D サンプリングオリフィスと引き込み電極との距離
Claims (5)
- 【請求項1】 イオンの種類及びそのエネルギーを分析
するためのエネルギーフィルター及び四極子型質量分析
器で構成されるイオン分析計において、前記エネルギー
フィルターに入射するイオンの軌道と、出射したイオン
の軌道を平行且つ同方向にしたことを特徴とするイオン
分析計。 - 【請求項2】 エネルギーフィルターは、点対称に配置
された同形状の2つの静電偏向型エネルギーフィルター
により構成されている請求項1記載のイオン分析計。 - 【請求項3】 静電偏向型エネルギーフィルターは、同
軸円筒型とした請求項2記載のイオン分析計。 - 【請求項4】 静電偏向型エネルギーフィルターは、平
行平板型とした請求項2記載のイオン分析計。 - 【請求項5】 静電偏向型エネルギーフィルターは、同
心半球型とした請求項2記載のイオン分析計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3318424A JPH05129001A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | イオン分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3318424A JPH05129001A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | イオン分析計 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05129001A true JPH05129001A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=18099004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3318424A Pending JPH05129001A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | イオン分析計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05129001A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011009215A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Fei Co | Fibシステムのビーム品質の改善 |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP3318424A patent/JPH05129001A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011009215A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Fei Co | Fibシステムのビーム品質の改善 |
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