JPH03194843A - プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 - Google Patents
プラズマイオン源極微量元素質量分析装置Info
- Publication number
- JPH03194843A JPH03194843A JP1332720A JP33272089A JPH03194843A JP H03194843 A JPH03194843 A JP H03194843A JP 1332720 A JP1332720 A JP 1332720A JP 33272089 A JP33272089 A JP 33272089A JP H03194843 A JPH03194843 A JP H03194843A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- ion
- plasma
- ions
- mass spectrometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 4
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 37
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000037427 ion transport Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラズマを用いた極微量元素質量分析装置に係
り、特に検出限界を低減するためのイオンの輸送系に関
する。
り、特に検出限界を低減するためのイオンの輸送系に関
する。
従来の代表的なプラズマを用いた極微量元素質量分析装
置は、スペクトロケミ力 アクタ（Ｓｐｅｃｔｒｏｃｈ
ｉｍｉｃａ Ａｃｔａ）、４２Ｂ （１９８７年）第７
０５頁から第７１２頁において論じられている。
置は、スペクトロケミ力 アクタ（Ｓｐｅｃｔｒｏｃｈ
ｉｍｉｃａ Ａｃｔａ）、４２Ｂ （１９８７年）第７
０５頁から第７１２頁において論じられている。
第４図は上記従来装置の概略図を示す。ここで、１０は
プラズマ、２０はサンプラ、７ｏは第１スリツト、８０
はマスフィルタ（質量分析器）、９０は第２スリツト、
１００はイオン検出器、１２０はスキマ、１３０はイオ
ン引出し電極、１４０はプレート電極から成るアインツ
エルレンズ系、１５０はエネルギー分析器、１５１はエ
ネルギー分析器のセンタプレートを示す。
プラズマ、２０はサンプラ、７ｏは第１スリツト、８０
はマスフィルタ（質量分析器）、９０は第２スリツト、
１００はイオン検出器、１２０はスキマ、１３０はイオ
ン引出し電極、１４０はプレート電極から成るアインツ
エルレンズ系、１５０はエネルギー分析器、１５１はエ
ネルギー分析器のセンタプレートを示す。
この装置では、プラズマ１０から分析すべきイオンをサ
ンプラ２ｏとスキマ１２０およびイオン引出し電極１３
０を用いて引出し、アインツエルレンズ１４０やエネル
ギー分析器１５０を用いてマスフィルタ８０に尋人し質
量分析を行っていた。
ンプラ２ｏとスキマ１２０およびイオン引出し電極１３
０を用いて引出し、アインツエルレンズ１４０やエネル
ギー分析器１５０を用いてマスフィルタ８０に尋人し質
量分析を行っていた。
このとき、前記エネルギー分析器１５０のセンタプレー
ト１５１は前記プラズマ１０中に発生するホトン（光子
）が前記イオン検出器ｌＯＯに入射するのを阻止する作
用も有し、信号対雑音比の向上による検出限界の低減に
効果をもたらしていた。
ト１５１は前記プラズマ１０中に発生するホトン（光子
）が前記イオン検出器ｌＯＯに入射するのを阻止する作
用も有し、信号対雑音比の向上による検出限界の低減に
効果をもたらしていた。
上記従来技術は、プラズマ中の分析すべきイオンの分析
系への輸送の効率と前記ホトンの低減については十分配
慮されておらず、検出限界や系が複雑で操作性（使い勝
手）などに問題があった。
系への輸送の効率と前記ホトンの低減については十分配
慮されておらず、検出限界や系が複雑で操作性（使い勝
手）などに問題があった。
本発明は、上記課題を解決することを目的としており、
さらに、装置の価格を低減化することを目的とする。
さらに、装置の価格を低減化することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために１本発明は第１図に示すよう
に、サンプラ２０とイオン引出し電極３０とイオン加速
電極４０とでプラズマ１０から分析すべきイオンを効率
よく引出すと共に、３つの円筒状電極（４２，５２，５
３）でレンズ系５０を構成し、その中間の第２電極５２
に円盤状のホトンストッパ６０を設る簡単な構成で前記
ホトンを阻止し、効率よく前記イオンをマスフィルタ８
０に輸送するようにしたものである。
に、サンプラ２０とイオン引出し電極３０とイオン加速
電極４０とでプラズマ１０から分析すべきイオンを効率
よく引出すと共に、３つの円筒状電極（４２，５２，５
３）でレンズ系５０を構成し、その中間の第２電極５２
に円盤状のホトンストッパ６０を設る簡単な構成で前記
ホトンを阻止し、効率よく前記イオンをマスフィルタ８
０に輸送するようにしたものである。
さらに、前記レンズ系５０を構成する第１電極（第２図
における電極５１）とイオン加速電極４０とを一体化し
たものである。
における電極５１）とイオン加速電極４０とを一体化し
たものである。
前記構成は、プラズマ１０の中の分析すべきイオンを効
率よくマスフィルタ８０（分析系）に輸送すると共に、
前記プラズマ１０からのホトンがイオン検出器１００に
入るのを阻止するように動作する。それによって、極微
量元素の質量分析が高感度でしかも、低検出限界で行う
ことができる。
率よくマスフィルタ８０（分析系）に輸送すると共に、
前記プラズマ１０からのホトンがイオン検出器１００に
入るのを阻止するように動作する。それによって、極微
量元素の質量分析が高感度でしかも、低検出限界で行う
ことができる。
さらに、電極の数、したがって、これらを駆動する電源
の数も大幅に低減できるので、操作が簡単になると共に
装置の価格も低減できる効果がある。
の数も大幅に低減できるので、操作が簡単になると共に
装置の価格も低減できる効果がある。
以下、本発明の実施例の数例を第１図〜第３図を用いて
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す。ここで、１０は高周
波やマイクロ波などで生成したプラズマ、２０はニッケ
ルなどから成るサンプラでオリフィス（０，３〜１．Ｏ
ｍφ）２１が設けである。
波やマイクロ波などで生成したプラズマ、２０はニッケ
ルなどから成るサンプラでオリフィス（０，３〜１．Ｏ
ｍφ）２１が設けである。
１１は前記プラズマ１ｏ中の中心部が前記オリフィス２
１を通じて中真空（１０−”〜１００Ｔｏｒｒ）領域に
拡散したプラズマ、３０はオリフィス（０，５〜１．０
＋ｍφ）３１を有するニッケル又はステンレス鋼などか
ら成るイオン引出し電極、４０はオリフィス（０，４〜
１．Ｏｎｎφ）４１を有するステンレス鋼などから成る
イオン加速電極で円筒部４２をも有する。５０は３つの
円筒状電極４２（第１電極）、５２（第２電極）、５３
（第３電極）から成るレンズ系、６０は前記第２電極５
２に設けたステンレス鋼などから成る円盤状（直径１〜
１０＋ｎ＋ｎφ）のホトンストッパ、７０はアパチャ７
１を有するステンレス鋼などから成る第１スリツト、８
０はマスフィルタ（質量分析器二四重極型など）、９０
はアパチャ９１を有する第２スリツト、１００はチャン
ネルトロンなどのイオン検出器である。
１を通じて中真空（１０−”〜１００Ｔｏｒｒ）領域に
拡散したプラズマ、３０はオリフィス（０，５〜１．０
＋ｍφ）３１を有するニッケル又はステンレス鋼などか
ら成るイオン引出し電極、４０はオリフィス（０，４〜
１．Ｏｎｎφ）４１を有するステンレス鋼などから成る
イオン加速電極で円筒部４２をも有する。５０は３つの
円筒状電極４２（第１電極）、５２（第２電極）、５３
（第３電極）から成るレンズ系、６０は前記第２電極５
２に設けたステンレス鋼などから成る円盤状（直径１〜
１０＋ｎ＋ｎφ）のホトンストッパ、７０はアパチャ７
１を有するステンレス鋼などから成る第１スリツト、８
０はマスフィルタ（質量分析器二四重極型など）、９０
はアパチャ９１を有する第２スリツト、１００はチャン
ネルトロンなどのイオン検出器である。
なお、前記イオン加速電極４０の円筒部４２は、第２図
に示すように分割して５１とし、前記第２電極５２およ
び前記第３電極５３と共に前記レンズ系５０を構成して
もよい。
に示すように分割して５１とし、前記第２電極５２およ
び前記第３電極５３と共に前記レンズ系５０を構成して
もよい。
また、前記第３電極５３と前記第１スリツト７０との間
に、第２図に示すように、スリット１６０を設け、第３
図に示すように、電位Ｅ５（例えば＋２０ｖ）を印加し
、前記レンズ系５０を通過するイオンが効率よく前記マ
スフィルタ８０に輸送されるようにすると一層よい。
に、第２図に示すように、スリット１６０を設け、第３
図に示すように、電位Ｅ５（例えば＋２０ｖ）を印加し
、前記レンズ系５０を通過するイオンが効率よく前記マ
スフィルタ８０に輸送されるようにすると一層よい。
ところで、前記各電極には、第３図に示すように電位Ｅ
１〜Ｅδを印加する。すなわち、前記イオン加速電極４
０（すなわち第１電極４２または５１）にはＥｘ （
通常−１００〜−５００Ｖ）。
１〜Ｅδを印加する。すなわち、前記イオン加速電極４
０（すなわち第１電極４２または５１）にはＥｘ （
通常−１００〜−５００Ｖ）。
前記第２電極５２にはＥ２（通常＋５〜＋２０ｖ）、前
記第３電極５３にはＥｓ （通常＋１０〜＋５０■）
、前記スリット１６０にはＥｓ （通常＋３０〜−３０
Ｖ）を印加する。なお、前記サンプラ２０と前記イオン
引出し電極３０は通常接地する（正電位で使用すること
も可、これら電極間は２〜１０ｍｍ）。また、前記ホト
ンストッパ６０は前記第２電極５２と同電位（この時に
は前記Ｅｚを併用）またはＥ４ （通常＋５〜＋２０
■）を独立に印加し、前記第２電極５２に絶縁物１７０
を介して取付ける。
記第３電極５３にはＥｓ （通常＋１０〜＋５０■）
、前記スリット１６０にはＥｓ （通常＋３０〜−３０
Ｖ）を印加する。なお、前記サンプラ２０と前記イオン
引出し電極３０は通常接地する（正電位で使用すること
も可、これら電極間は２〜１０ｍｍ）。また、前記ホト
ンストッパ６０は前記第２電極５２と同電位（この時に
は前記Ｅｚを併用）またはＥ４ （通常＋５〜＋２０
■）を独立に印加し、前記第２電極５２に絶縁物１７０
を介して取付ける。
前記円筒状第１〜第３電極はステンレス鋼やアルミニウ
ムなどから成り、円筒の内径は１５〜４０ｒｒｎφ、長
さは５〜３０＋ｓ＋で、円筒には第３図に示すようなツ
バを設けてもよく限定するものではない（なお、第２電
極の内径は第１および第３電極の内径より大きくすると
よい）。一方、前記ホトンストッパ（直径１〜１０ｎｎ
φ）はステンレスなどの薄板（０，１〜１ｎｎ）をエツ
チング加工などにより製作したものである。これら電極
の間隙は５〜３０ｍｍである。
ムなどから成り、円筒の内径は１５〜４０ｒｒｎφ、長
さは５〜３０＋ｓ＋で、円筒には第３図に示すようなツ
バを設けてもよく限定するものではない（なお、第２電
極の内径は第１および第３電極の内径より大きくすると
よい）。一方、前記ホトンストッパ（直径１〜１０ｎｎ
φ）はステンレスなどの薄板（０，１〜１ｎｎ）をエツ
チング加工などにより製作したものである。これら電極
の間隙は５〜３０ｍｍである。
以上述べたような構成にすると、前記プラズマ１０は拡
散プラズマ１１を形成すると共に、前記イオン引出し電
極３０の前記プラズマ側にイオンシースを形成し、そこ
から分析すべきイオンが取り出され、前記イオン加速電
極４０で加速する（イオンの加速エネルギーＥ１ｅｖ）
。その後、前記イオンは前記レンズ系５０で減速（発散
）され、次に前記第１スリツトを接地電位にすることに
より加速（集束）されて第１図に示すような軌道を描い
て効率よく前記イオンは前記マスフィルタ８０へと輸送
される。このとき、前記レンズ系５０に設けた前記ホト
ンストッパ６０は、前記イオンの一部をカットするが、
直進するホトンをより大幅にカットすることができるの
で、信号対雑音比は大幅に向上する（１桁以上）。
散プラズマ１１を形成すると共に、前記イオン引出し電
極３０の前記プラズマ側にイオンシースを形成し、そこ
から分析すべきイオンが取り出され、前記イオン加速電
極４０で加速する（イオンの加速エネルギーＥ１ｅｖ）
。その後、前記イオンは前記レンズ系５０で減速（発散
）され、次に前記第１スリツトを接地電位にすることに
より加速（集束）されて第１図に示すような軌道を描い
て効率よく前記イオンは前記マスフィルタ８０へと輸送
される。このとき、前記レンズ系５０に設けた前記ホト
ンストッパ６０は、前記イオンの一部をカットするが、
直進するホトンをより大幅にカットすることができるの
で、信号対雑音比は大幅に向上する（１桁以上）。
なお、本発明において、前記プラズマ１０の生成法は実
施例に記載した方法に特に限定されるものではないこと
は無給である。
施例に記載した方法に特に限定されるものではないこと
は無給である。
本発明は、以上説明したように構成されているので、（
１）前記プラズマ１０からの分析すべきイオンを効率よ
く引出し前記マスフィルタ８０に輸送でき、さらに、（
２）前記イオン検出器１００に入ってくるホトンの数は
大幅に低減できる。これらにより、検出器の信号対雑音
比を大幅に向上させることができ、分析感度の増大と検
出限界の低減が達成できる効果がある。
１）前記プラズマ１０からの分析すべきイオンを効率よ
く引出し前記マスフィルタ８０に輸送でき、さらに、（
２）前記イオン検出器１００に入ってくるホトンの数は
大幅に低減できる。これらにより、検出器の信号対雑音
比を大幅に向上させることができ、分析感度の増大と検
出限界の低減が達成できる効果がある。
さらに、前記サンプラ２０から前記マスフィルタ８０の
入力の前記第１スリツト７０迄の電極数とその駆動のた
めの電源数を大幅に低減できるので調整が簡単になり（
使い勝手がよくなる）、また、価格も低減できるなどの
効果がある。
入力の前記第１スリツト７０迄の電極数とその駆動のた
めの電源数を大幅に低減できるので調整が簡単になり（
使い勝手がよくなる）、また、価格も低減できるなどの
効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す主要部の断面模式図、
第２図は本発明の別の一実施例の主要部の断面模式図、
第３図は本発明のさらに別の一実施例の電位印加法を示
す断面模式図、第４図は従来例の主要部の断面模式図で
ある。 １０・・・プラズマ、２０・・・サンプラ、３０・・・
イオン引出し電極、４０・・・イオン加速電極、５０・
・・レンズ系、６０・・・オトンストツパ、８ｏ・・・
マスフィルタ、１００・・・イオン検出器、１６０・・
・スリット、５１・・・第１電極、５２・・・第２電極
、５３・・・第３電極。 ■ ２ 固 ２ 鷺 望 ５ρ ４θ イスシカａｉｉ凱斤。
第２図は本発明の別の一実施例の主要部の断面模式図、
第３図は本発明のさらに別の一実施例の電位印加法を示
す断面模式図、第４図は従来例の主要部の断面模式図で
ある。 １０・・・プラズマ、２０・・・サンプラ、３０・・・
イオン引出し電極、４０・・・イオン加速電極、５０・
・・レンズ系、６０・・・オトンストツパ、８ｏ・・・
マスフィルタ、１００・・・イオン検出器、１６０・・
・スリット、５１・・・第１電極、５２・・・第２電極
、５３・・・第３電極。 ■ ２ 固 ２ 鷺 望 ５ρ ４θ イスシカａｉｉ凱斤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、プラズマ生成系とイオンビーム生成系と質量分析系
とイオン検出系とから少なくとも成るプラズマイオン源
極微量元素質量分析装置において、前記イオンビーム生
成系と前記質量分析系との間に、円筒状の第１電極とホ
トンストッパを有する円筒状の第２電極と円筒状の第３
電極とから成るレンズ系を少なくとも設けたことを特徴
とするプラズマイオン源極微量元素質量分析装置。 ２、前記第１電極と前記イオンビーム生成系を構成する
電極の１つと併用したことを特徴とする請求項１記載の
プラズマイオン源極微量元素質量分析装置。 ３、前記イオンビーム生成系をサンプラとイオン引出し
電極とイオン加速電極の３電極で構成したことを特徴と
する請求項１もしくは２記載のプラズマイオン源極微量
元素質量分析装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1332720A JPH03194843A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
| US07/630,554 US5148021A (en) | 1989-12-25 | 1990-12-20 | Mass spectrometer using plasma ion source |
| DE4041871A DE4041871C2 (de) | 1989-12-25 | 1990-12-27 | Massenspektrometer mit Plasmaionenquelle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1332720A JPH03194843A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03194843A true JPH03194843A (ja) | 1991-08-26 |
Family
ID=18258111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1332720A Pending JPH03194843A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5148021A (ja) |
| JP (1) | JPH03194843A (ja) |
| DE (1) | DE4041871C2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05303956A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Shimadzu Corp | プラズマイオン化質量分析装置 |
| JP2013520765A (ja) * | 2010-02-22 | 2013-06-06 | イリカ テクノロジーズ リミテッド | 質量分析計およびイオン分離検出方法 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9204524D0 (en) * | 1992-03-03 | 1992-04-15 | Fisons Plc | Mass spectrometer |
| US5565679A (en) * | 1993-05-11 | 1996-10-15 | Mds Health Group Limited | Method and apparatus for plasma mass analysis with reduced space charge effects |
| US5381008A (en) * | 1993-05-11 | 1995-01-10 | Mds Health Group Ltd. | Method of plasma mass analysis with reduced space charge effects |
| JP3385707B2 (ja) * | 1994-03-17 | 2003-03-10 | 株式会社日立製作所 | 質量分析装置 |
| US5495107A (en) * | 1994-04-06 | 1996-02-27 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Analysis |
| GB9417700D0 (en) * | 1994-09-02 | 1994-10-19 | Fisons Plc | Apparatus and method for isotopic ratio plasma mass spectrometry |
| US5784424A (en) * | 1994-09-30 | 1998-07-21 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | System for studying a sample of material using a heavy ion induced mass spectrometer source |
| DE19520276C2 (de) * | 1995-06-02 | 1999-08-26 | Bruker Daltonik Gmbh | Vorrichtung für die Einführung von Ionen in ein Massenspektrometer |
| JPH09270421A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | 表面処理装置および表面処理方法 |
| US5864137A (en) * | 1996-10-01 | 1999-01-26 | Genetrace Systems, Inc. | Mass spectrometer |
| US6040573A (en) * | 1997-09-25 | 2000-03-21 | Indiana University Advanced Research & Technology Institute Inc. | Electric field generation for charged particle analyzers |
| US7391019B2 (en) * | 2006-07-21 | 2008-06-24 | Thermo Finnigan Llc | Electrospray ion source |
| US9105457B2 (en) * | 2010-02-24 | 2015-08-11 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Cone-shaped orifice arrangement for inductively coupled plasma sample introduction system |
| GB201317774D0 (en) * | 2013-10-08 | 2013-11-20 | Micromass Ltd | An ion inlet assembly |
| EP4181170A1 (en) * | 2013-09-20 | 2023-05-17 | Micromass UK Limited | Ion inlet assembly |
| GB2585327B (en) * | 2018-12-12 | 2023-02-15 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Cooling plate for ICP-MS |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2424306A1 (de) * | 1974-05-18 | 1975-11-27 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Einrichtung fuer die sekundaer-ionenmassenspektroskopie |
| US4287419A (en) * | 1978-05-22 | 1981-09-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Strong focus space charge |
| JPS6220231A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Ｉｃｐ質量分析装置 |
| CA1245778A (en) * | 1985-10-24 | 1988-11-29 | John B. French | Mass analyzer system with reduced drift |
| GB8602463D0 (en) * | 1986-01-31 | 1986-03-05 | Vg Instr Group | Mass spectrometer |
| US4955717A (en) * | 1986-12-02 | 1990-09-11 | Geochemical Services, Inc. | Demand modulated atomization apparatus and method for plasma spectroscopy |
| GB2213636B (en) * | 1988-01-07 | 1993-01-27 | Toshiba Kk | Apparatus for introducing samples into an inductively coupled,plasma source mass spectrometer |
| US4963735A (en) * | 1988-11-11 | 1990-10-16 | Hitachi, Ltd. | Plasma source mass spectrometer |
| JP2765890B2 (ja) * | 1988-12-09 | 1998-06-18 | 株式会社日立製作所 | プラズマイオン源微量元素質量分析装置 |
-
1989
- 1989-12-25 JP JP1332720A patent/JPH03194843A/ja active Pending
-
1990
- 1990-12-20 US US07/630,554 patent/US5148021A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-12-27 DE DE4041871A patent/DE4041871C2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05303956A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Shimadzu Corp | プラズマイオン化質量分析装置 |
| JP2013520765A (ja) * | 2010-02-22 | 2013-06-06 | イリカ テクノロジーズ リミテッド | 質量分析計およびイオン分離検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4041871C2 (de) | 1994-11-17 |
| US5148021A (en) | 1992-09-15 |
| DE4041871A1 (de) | 1991-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03194843A (ja) | プラズマイオン源極微量元素質量分析装置 | |
| US4963735A (en) | Plasma source mass spectrometer | |
| JPH02158047A (ja) | プラズマイオン源微量元素質量分析装置 | |
| Kiss et al. | Microscope mode secondary ion mass spectrometry imaging with a Timepix detector | |
| GB1255962A (en) | Improvements in or relating to gas chromatography-mass spectrometry | |
| CA2101330C (en) | Isotopic-ratio plasma source mass spectrometer | |
| US4973842A (en) | Lens system for a photo ion spectrometer | |
| US6921906B2 (en) | Mass spectrometer | |
| US4554457A (en) | Magnetic lens to rotate transverse particle momenta | |
| Ames et al. | Charge state breeding of radioactive ions with an electron cyclotron resonance ion source at TRIUMF | |
| US4855596A (en) | Photo ion spectrometer | |
| Just et al. | Selective elimination of low‐molecular‐weight ions in MALDI‐TOF mass spectrometry using a bipolar pulsed electrostatic particle guide | |
| Hirata et al. | Highly sensitive time-of-flight secondary-ion mass spectroscopy for contaminant analysis of semiconductor surface using cluster impact ionization | |
| Belloni et al. | Pre-and postextraction analyses of different charge state ion components produced in a laser ion source | |
| US5097125A (en) | Photo ion spectrometer | |
| JP2001210267A (ja) | 粒子検出器及びこれを用いた質量分析器 | |
| JPH07307140A (ja) | 質量分析装置及びイオン源 | |
| Saito et al. | Matrix and element dependences of useful yield in Si and SiO2 matrices using laser-ionization sputtered neutral mass spectrometry | |
| JPS5832200Y2 (ja) | イオン源装置 | |
| Barnes Iv et al. | Development and characterization of an electrostatic quadrupole extraction lens for mass spectrometry | |
| JPS61131356A (ja) | 質量分析装置 | |
| Bayly et al. | E‐Beam SNMS: A complementary surface analysis technique | |
| Rockwood et al. | An electrospray/orthogonal time-of-flight mass spectrometer designed for high sensitivity and on-line separations | |
| JPH05251035A (ja) | スパッタ中性粒子質量分析装置 | |
| JPS62264544A (ja) | イオンマイクロアナライザ |