JPS6219968Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6219968Y2 JPS6219968Y2 JP1034777U JP1034777U JPS6219968Y2 JP S6219968 Y2 JPS6219968 Y2 JP S6219968Y2 JP 1034777 U JP1034777 U JP 1034777U JP 1034777 U JP1034777 U JP 1034777U JP S6219968 Y2 JPS6219968 Y2 JP S6219968Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- electron beam
- optical microscope
- ray
- objective lens
- Prior art date
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- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004125 X-ray microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はX線マイクロアナライザーにおいて、
試料表面の電子線照射部分を肉眼観察するための
光学顕微鏡の視野内に試料から得られるX線、電
子線等の信号強度を表示せしめる手段を設置した
装置に関する。
試料表面の電子線照射部分を肉眼観察するための
光学顕微鏡の視野内に試料から得られるX線、電
子線等の信号強度を表示せしめる手段を設置した
装置に関する。
一般にX線マイクロアナライザーには光学顕微
鏡が設置され、該光学顕微鏡内には電子線照射位
置を示すマークが設けてあり、このマークにより
試料表面の電子線照射位置を確認できるように構
成されている。一方X線マイクロアナライザーに
おいては試料中に特定元素がどのように分布して
いるかを調べることがしばしば行なわれる。これ
を行うために従来は光学顕微鏡をのぞくことによ
り所望の測定場所を探した後、その場所に特定の
元素が存在しているか否かを計数率計の表示計を
見て確認し、再び光学顕微鏡をのぞいて次の測定
場所を選定するという二つの動作を繰り返しなが
ら行なわせなければならず、取扱いに煩わしさが
あつた。
鏡が設置され、該光学顕微鏡内には電子線照射位
置を示すマークが設けてあり、このマークにより
試料表面の電子線照射位置を確認できるように構
成されている。一方X線マイクロアナライザーに
おいては試料中に特定元素がどのように分布して
いるかを調べることがしばしば行なわれる。これ
を行うために従来は光学顕微鏡をのぞくことによ
り所望の測定場所を探した後、その場所に特定の
元素が存在しているか否かを計数率計の表示計を
見て確認し、再び光学顕微鏡をのぞいて次の測定
場所を選定するという二つの動作を繰り返しなが
ら行なわせなければならず、取扱いに煩わしさが
あつた。
本考案は斯様な不都合を解決することを目的と
するもので、以下第1図に示した実施例に基づき
詳説する。
するもので、以下第1図に示した実施例に基づき
詳説する。
図において1はX線マイクロアナライザーの鏡
体、2は該鏡体の上方に設けられた電子銃で、該
電子銃から発生した電子線EBは集束レンズ3に
よつて細く集束されて試料4上に照射される。該
電子線の照射により試料からは特定X線xや2次
電子(反射電子も含む)eが発生し、この内X線
xは分光結晶5により分光されてX線検出器6に
検出される。該検出器からの出力信号は増巾器7
により増巾された後、波高分析器8と計数率計9
からなるX線測定系10に送られ、特定X線xの
強度が測定される。前記試料4から発生する2次
電子eは2次電子検出器11によつて検出され、
増幅器12を介して増巾された後、図示外の陰極
線管(CRT)へ供給されて2次電子像を表示す
る。13は前記試料の上方におかれた光学顕微鏡
で、該光学顕微鏡は光軸上におかれた対物レンズ
14と大気中におかれた接眼レンズ15とミラー
16とこれら部材を収納する外筒17とから構成
されており、又前記対物レンズ14及びミラー1
6には電子線EBが通過するための穴18a,1
8bが形成してあり、更に外筒17内の対物レン
ズ14の結像面には第2図に示すように十字のマ
ーク19が設置してある。これにより試料4上に
電子線を照射させた状態でこの電子照射部分の位
置をマーク19によつて観察することができる。
又該光学顕微鏡13内の対物レンズ14の結像面
(この結像面の近傍でもよい)には小型の発光ダ
イオード20がおかれており、該発光ダイオード
には切換スイツチ21を介して前記波高分析器8
及び計数率計9からの信号が供給されている。
又、発光ダイオード20と同様にX線検出のチヤ
ンネル数だけ、発光ダイオード20a,20b,
……が配置されており、異なつた元素に対応した
異なつた波長のX線検出パルス信号が夫々の発光
ダイオード20a,20b,……に送られるよう
になつている。尚、発光ダイオードの取り付けは
表面の観察を阻害しないために光学顕微鏡の光軸
外に配置させる。
体、2は該鏡体の上方に設けられた電子銃で、該
電子銃から発生した電子線EBは集束レンズ3に
よつて細く集束されて試料4上に照射される。該
電子線の照射により試料からは特定X線xや2次
電子(反射電子も含む)eが発生し、この内X線
xは分光結晶5により分光されてX線検出器6に
検出される。該検出器からの出力信号は増巾器7
により増巾された後、波高分析器8と計数率計9
からなるX線測定系10に送られ、特定X線xの
強度が測定される。前記試料4から発生する2次
電子eは2次電子検出器11によつて検出され、
増幅器12を介して増巾された後、図示外の陰極
線管(CRT)へ供給されて2次電子像を表示す
る。13は前記試料の上方におかれた光学顕微鏡
で、該光学顕微鏡は光軸上におかれた対物レンズ
14と大気中におかれた接眼レンズ15とミラー
16とこれら部材を収納する外筒17とから構成
されており、又前記対物レンズ14及びミラー1
6には電子線EBが通過するための穴18a,1
8bが形成してあり、更に外筒17内の対物レン
ズ14の結像面には第2図に示すように十字のマ
ーク19が設置してある。これにより試料4上に
電子線を照射させた状態でこの電子照射部分の位
置をマーク19によつて観察することができる。
又該光学顕微鏡13内の対物レンズ14の結像面
(この結像面の近傍でもよい)には小型の発光ダ
イオード20がおかれており、該発光ダイオード
には切換スイツチ21を介して前記波高分析器8
及び計数率計9からの信号が供給されている。
又、発光ダイオード20と同様にX線検出のチヤ
ンネル数だけ、発光ダイオード20a,20b,
……が配置されており、異なつた元素に対応した
異なつた波長のX線検出パルス信号が夫々の発光
ダイオード20a,20b,……に送られるよう
になつている。尚、発光ダイオードの取り付けは
表面の観察を阻害しないために光学顕微鏡の光軸
外に配置させる。
しかして電子線照射により試料から発生する特
定X線xが分光結晶にて分光されてX線検出器6
に検出されると、波高分析器8にて一定波高値を
有するパルス信号に変換された後計数率計9に送
られて単位時間あたりのパルス数をカウントさ
れ、そのX線強度が測定される。このとき同様に
波高分析器8及び計数率計9からの出力信号が切
換スイツチ21を介して発光ダイオード20に送
られ、ダイオードを発光せしめる。その結果光学
顕微鏡13をのぞいているときでも、前記ダイオ
ードの発光により、測定すべき特定X線が試料4
に存在することを知ることができる。又波高分析
器8及び計数率計9からの出力信号はX線の強度
(量)に比例するため、その強度を知ることがで
きる。即ち波高分析器8からの出力信号はパルス
であるため、その強度は発光ダイオードの発光の
回数でもつて表わすことができ、又計数率計の出
力信号はパルスの数の計数であるためX線の強度
は発光ダイオードの明暗でもつて表わすことがで
きる。
定X線xが分光結晶にて分光されてX線検出器6
に検出されると、波高分析器8にて一定波高値を
有するパルス信号に変換された後計数率計9に送
られて単位時間あたりのパルス数をカウントさ
れ、そのX線強度が測定される。このとき同様に
波高分析器8及び計数率計9からの出力信号が切
換スイツチ21を介して発光ダイオード20に送
られ、ダイオードを発光せしめる。その結果光学
顕微鏡13をのぞいているときでも、前記ダイオ
ードの発光により、測定すべき特定X線が試料4
に存在することを知ることができる。又波高分析
器8及び計数率計9からの出力信号はX線の強度
(量)に比例するため、その強度を知ることがで
きる。即ち波高分析器8からの出力信号はパルス
であるため、その強度は発光ダイオードの発光の
回数でもつて表わすことができ、又計数率計の出
力信号はパルスの数の計数であるためX線の強度
は発光ダイオードの明暗でもつて表わすことがで
きる。
尚該実施例において点線で示すように2次電子
検出器11からの出力信号を切換スイツチ21を
介して発光ダイオード20に供給せしめれば、2
次電子(反射電子)の強弱を知ることができる。
検出器11からの出力信号を切換スイツチ21を
介して発光ダイオード20に供給せしめれば、2
次電子(反射電子)の強弱を知ることができる。
以上詳述したように、本考案においては、光学
顕微鏡内の該対物レンズの結像面又は該結像面の
近傍で該光学顕微鏡の軸から外れた位置に該検出
手段よりの各波長のX線検出信号が導入される複
数の表示素子を備えているため、試料を移動させ
る等して光学顕微鏡による観察視野を移動する都
度、各表示素子は各元素に対応したX線検出パル
ス数の強度に応じた明るさ(時間間隔)で発光を
する。従つて、光学顕微鏡により試料表面観察を
続行したまま、観察点に存在する元素の種類と量
を知ることができ、X線微小分析箇所を光学顕微
鏡観察により設定あるいは確認するための作業を
大幅に効率化することができる。
顕微鏡内の該対物レンズの結像面又は該結像面の
近傍で該光学顕微鏡の軸から外れた位置に該検出
手段よりの各波長のX線検出信号が導入される複
数の表示素子を備えているため、試料を移動させ
る等して光学顕微鏡による観察視野を移動する都
度、各表示素子は各元素に対応したX線検出パル
ス数の強度に応じた明るさ(時間間隔)で発光を
する。従つて、光学顕微鏡により試料表面観察を
続行したまま、観察点に存在する元素の種類と量
を知ることができ、X線微小分析箇所を光学顕微
鏡観察により設定あるいは確認するための作業を
大幅に効率化することができる。
尚前述の説明では光学顕微鏡内に発光ダイオー
ドを組込んだ場合を示したが、これに限定される
ことなくランプ等を使用してもよい。
ドを組込んだ場合を示したが、これに限定される
ことなくランプ等を使用してもよい。
第1図は本考案の一実施例を示す概略図、第2
図は本考案に使用される光学顕微鏡の断面図であ
る。 図において、1鏡体、2は電子銃、3は集束レ
ンズ、4は試料、5は分光結晶、6はX線検出
器、8は波高分析器、9は計数率計、13は光学
顕微鏡、20は発光ダイオード、21は切換スイ
ツチである。
図は本考案に使用される光学顕微鏡の断面図であ
る。 図において、1鏡体、2は電子銃、3は集束レ
ンズ、4は試料、5は分光結晶、6はX線検出
器、8は波高分析器、9は計数率計、13は光学
顕微鏡、20は発光ダイオード、21は切換スイ
ツチである。
Claims (1)
- 鏡体内におかれた試料表面に細く集束された電
子ビームを照射せしめる手段と、該電子ビームの
照射により試料から発生するX線をその波長に応
じて弁別して検出する手段と、該検出手段よりの
パルス信号を異なつた波長毎に計数するための計
数手段と、対物レンズ及び接眼レンズを有し前記
試料表面の電子線照射部分を肉眼観察するための
光学顕微鏡とを備えた装置において、該光学顕微
鏡内の該対物レンズの結像面又は該結像面の近傍
で該光学顕微鏡の軸から外れた位置に該検出手段
よりの各波長のX線検出信号が導入される複数の
表示素子を備えたことを特徴とするX線マイクロ
アナライザー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1034777U JPS6219968Y2 (ja) | 1977-01-31 | 1977-01-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1034777U JPS6219968Y2 (ja) | 1977-01-31 | 1977-01-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53105790U JPS53105790U (ja) | 1978-08-25 |
JPS6219968Y2 true JPS6219968Y2 (ja) | 1987-05-21 |
Family
ID=28822775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1034777U Expired JPS6219968Y2 (ja) | 1977-01-31 | 1977-01-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6219968Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0712755A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-17 | Res Dev Corp Of Japan | 電子線装置の調整方法および装置 |
-
1977
- 1977-01-31 JP JP1034777U patent/JPS6219968Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS53105790U (ja) | 1978-08-25 |
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