JPS6219563A - 高品位トビアス酸の製造方法 - Google Patents
高品位トビアス酸の製造方法Info
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- JPS6219563A JPS6219563A JP15778085A JP15778085A JPS6219563A JP S6219563 A JPS6219563 A JP S6219563A JP 15778085 A JP15778085 A JP 15778085A JP 15778085 A JP15778085 A JP 15778085A JP S6219563 A JPS6219563 A JP S6219563A
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- Japan
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- acid
- tobias
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- tobias acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は精製等の２次処理を加えることなく高品位のト
ビアス酸を製造する方法に関するものである。
ビアス酸を製造する方法に関するものである。
［従来の技術］
染料中間物として有用なトビアス酸ＣＩ）は、工業的に
は反応容器中で触媒の存在下、下記反応式（１）に従い
アームストロング酸塩（ＩＩ）にＮＨ３を作用させて製
造される。
は反応容器中で触媒の存在下、下記反応式（１）に従い
アームストロング酸塩（ＩＩ）にＮＨ３を作用させて製
造される。
８０戸Ｈ４５ｏ３ＮＨ４
ところで上記反応過程においては、トビアス酸（１）と
は別に副生物としてβ−ナフチルアミン（ＢＮＡ）が生
成し、製品であるトビアス酸の純度を低下させている。
は別に副生物としてβ−ナフチルアミン（ＢＮＡ）が生
成し、製品であるトビアス酸の純度を低下させている。
またβ−ナフチルアミンは、染料取扱者に多い袋状肺癌
の原因となる発癌性物質であって、安全性の面からみて
その含有量はｔｏｏｏｐｐ■以下とすべきであるとされ
ている。こうした事情から工業的に製造されるトビアス
酸中のβ−ナフチルアミン含有量は少なくとも１１００
０ｐｐ以下であって、できるだけ少ないものであること
が望まれており、またβ−ナフチルアミンの少ないもの
程高品位とされ、販売価格も高くなっている。
の原因となる発癌性物質であって、安全性の面からみて
その含有量はｔｏｏｏｐｐ■以下とすべきであるとされ
ている。こうした事情から工業的に製造されるトビアス
酸中のβ−ナフチルアミン含有量は少なくとも１１００
０ｐｐ以下であって、できるだけ少ないものであること
が望まれており、またβ−ナフチルアミンの少ないもの
程高品位とされ、販売価格も高くなっている。
しかるに」二足従来方法によっぞ得られるトビアス酸は
β−ナフチルアミン濃度が１８００ＰＰ閣前後と高く、
そめままでは市場に提供することができない為、上記安
全規準並びに市場の要請に適合させるべく精製を行なっ
ている。
β−ナフチルアミン濃度が１８００ＰＰ閣前後と高く、
そめままでは市場に提供することができない為、上記安
全規準並びに市場の要請に適合させるべく精製を行なっ
ている。
［発明が解決しようとする問題点］
上記の様に従来方法ではトビアス酸の品位を満足できる
レベルまで高めようとすれば精製工程が不可欠となり、
生産コストの高腸をまねいている０本発明はこうした問
題を解決すべく検討を重ねた結果完成されたものであっ
て、精製工程に付すまでもなく高品位のトビアス酸を得
ることができる方法を提供することを目的とするもので
ある。
レベルまで高めようとすれば精製工程が不可欠となり、
生産コストの高腸をまねいている０本発明はこうした問
題を解決すべく検討を重ねた結果完成されたものであっ
て、精製工程に付すまでもなく高品位のトビアス酸を得
ることができる方法を提供することを目的とするもので
ある。
Ｅ問題点を解決するための手段］
上記目的を達成した本発明方法は、トビアス酸を製造す
るに当たり、少なくとも反応溶液と接触する部材をＴｉ
又はＴｉ合金で構成する点に要旨を有するものである。
るに当たり、少なくとも反応溶液と接触する部材をＴｉ
又はＴｉ合金で構成する点に要旨を有するものである。
［作用］
以下本発明を研究の経緯に沿って説明する。
本発明者等はまず始めに前記反応（１）で示される反応
において、トビアス酸生成反応のみを進行させ、β−ナ
フチルアミン副生反応を抑制し得る添加剤殊に触媒的成
分を加えることを考え。
において、トビアス酸生成反応のみを進行させ、β−ナ
フチルアミン副生反応を抑制し得る添加剤殊に触媒的成
分を加えることを考え。
種々の添加剤を添加してトビアス酸の製造を行なったが
満足し得る結果を得ることはできなかった。
満足し得る結果を得ることはできなかった。
そこで本発明者等は、上記の原因について考察を加えた
結果１反応系内にβ−す７チルアミン副生反応を進行さ
せる要因が存在する限りβ−ナフチルアミンの副生を抑
制乃至防！ヒすることができないのではないかという考
えに到達した。
結果１反応系内にβ−す７チルアミン副生反応を進行さ
せる要因が存在する限りβ−ナフチルアミンの副生を抑
制乃至防！ヒすることができないのではないかという考
えに到達した。
本発明者等はこうした発想に基づき上記要因として反応
容器の材質に注目し実験を行なった。
容器の材質に注目し実験を行なった。
即ち炭素鋼（９２５Ｃ）、チタン（ＴＢ３５）、Ｐｄ入
りチタン（ＴＢ ３５−０．１５Ｐ ｄ）よりなる反応
容器を夫々用意し、各反応容器を用いて前記反応式（１
）に基づくトビアス醜の製造を行なった。
りチタン（ＴＢ ３５−０．１５Ｐ ｄ）よりなる反応
容器を夫々用意し、各反応容器を用いて前記反応式（１
）に基づくトビアス醜の製造を行なった。
そして反応完了後、反応液中のβ−ナフチルアミン濃度
を測定したところ第１表に示す結果が得られた。尚製造
実験は、１２５±２℃ならびに１３８±２℃の２つの温
度条件で夫々行なった。
を測定したところ第１表に示す結果が得られた。尚製造
実験は、１２５±２℃ならびに１３８±２℃の２つの温
度条件で夫々行なった。
またＰｄ入りチタン製反応容器については単に該反応容
器を使用した場合の他、該容器内にＴｉ片を投入した場
合についても実験を行なった。
器を使用した場合の他、該容器内にＴｉ片を投入した場
合についても実験を行なった。
（以下余、白゛）〜
Ｐ・′ ・＼
５、 ・
第１表に示す様に、チタン若しくはＰｄ入りチタン製容
器を用いた場合には炭素鋼製容器を用いた場合に比べて
トビアス酸中のβ−ナフチルアミン含有量を大幅に低減
し得ることが確認された。
器を用いた場合には炭素鋼製容器を用いた場合に比べて
トビアス酸中のβ−ナフチルアミン含有量を大幅に低減
し得ることが確認された。
殊にＰｄ入りチタン製容器を用いた場合に低減効果が大
きかった。上記結果より反応容器をＴｉ又はＴｉ合金製
とすることにより高品位のトビアス酸を得ることができ
ることが確認された。
きかった。上記結果より反応容器をＴｉ又はＴｉ合金製
とすることにより高品位のトビアス酸を得ることができ
ることが確認された。
上記効果が得られる理由は、明確にし得た訳ではないが
、後述の腐食調査実験でもふれる様に、反応溶液中でＴ
ｉ若しくはＴｉ合金表面にＴ ｉ Ｏ２の不働態被膜が
形成され、Ｔｉ若しくはＴｉ合金表面がトビアス酸生成
反応若しくはβ−ナフチルアミン副生反応に対して不活
性となるからであると考えられる。逆に言うと炭素鋼製
容器の場合には炭素鋼表面が上記の如く不活性化されず
、腐食が進行することもあって活性な表面が次々と反応
溶液と接触していると考えられ、この様な炭素鋼活性表
面が触媒的機能を発揮してβ−ナフチルアミンの副生量
が増大すると考えられる。尚Ｐｄ入りＴｉ製容器を用い
たときにより優れた効果が得られるのは、Ｐｄ入りＴｉ
がＴｉより耐食性が高く、その結果不活性である為β−
ナフチルアミンの副生反応が抑制されるからであり、ま
たＰｄ入りＴｉ中のＰｄは選択的触媒作用が強く主生成
物であるトビアス酸の生成反応を促進させるので結果と
してβ−ナフチルアミン生成反応を抑制する作用が強化
されたからであると推定される。
、後述の腐食調査実験でもふれる様に、反応溶液中でＴ
ｉ若しくはＴｉ合金表面にＴ ｉ Ｏ２の不働態被膜が
形成され、Ｔｉ若しくはＴｉ合金表面がトビアス酸生成
反応若しくはβ−ナフチルアミン副生反応に対して不活
性となるからであると考えられる。逆に言うと炭素鋼製
容器の場合には炭素鋼表面が上記の如く不活性化されず
、腐食が進行することもあって活性な表面が次々と反応
溶液と接触していると考えられ、この様な炭素鋼活性表
面が触媒的機能を発揮してβ−ナフチルアミンの副生量
が増大すると考えられる。尚Ｐｄ入りＴｉ製容器を用い
たときにより優れた効果が得られるのは、Ｐｄ入りＴｉ
がＴｉより耐食性が高く、その結果不活性である為β−
ナフチルアミンの副生反応が抑制されるからであり、ま
たＰｄ入りＴｉ中のＰｄは選択的触媒作用が強く主生成
物であるトビアス酸の生成反応を促進させるので結果と
してβ−ナフチルアミン生成反応を抑制する作用が強化
されたからであると推定される。
本発明においては反応容器全体をＴｉ又はＴｉ合金で形
成することが望ましいが、反応容券内の気相部に接触す
る容器材料は反応溶液に接触していないこともあって反
応に与える影響が少ない。
成することが望ましいが、反応容券内の気相部に接触す
る容器材料は反応溶液に接触していないこともあって反
応に与える影響が少ない。
従って本発明においては少なくとも反応溶液と接触する
部材をＴｆ又はＴｉ合金で構成すれば目的を達成するこ
とができる。
部材をＴｆ又はＴｉ合金で構成すれば目的を達成するこ
とができる。
本発明の基本構成は上記の通りであるが、上記でも少し
述べた様にトビアス酸の製造においては他に反応容器の
腐食が問題とされる背景に鑑み本発明者等は本発明を採
用した場合における反応容器の腐食状況を明らかにしよ
うと考え下記実験を行なった。
述べた様にトビアス酸の製造においては他に反応容器の
腐食が問題とされる背景に鑑み本発明者等は本発明を採
用した場合における反応容器の腐食状況を明らかにしよ
うと考え下記実験を行なった。
く腐食調査実験〉
Ｔｉ合金（Ｔ ｉ−０，１５％Ｐｄ）製小型オートクレ
ーブに各種腐食試験片を装入し、反応式（１）に基づく
トビアス酸の製造を行なった。供試試験片は下記第２表
に示す通りであり、各試験片は機械加工により：Ｊｖ’
Ｘ ２５ｍｍ’ Ｘ ２５ｓ＋ｍ’ （中央に６ｍ
−穴）の角板を切出し、表面を＃４００エメリー紙で湿
式研磨仕上げした。気相部にはこれをそのまま暴露し、
液相部には第１．２図に示す様な角板ｌにテフロン板２
をＴｉ製ポルト３゜ナツト４で止めたものを浸漬した。
ーブに各種腐食試験片を装入し、反応式（１）に基づく
トビアス酸の製造を行なった。供試試験片は下記第２表
に示す通りであり、各試験片は機械加工により：Ｊｖ’
Ｘ ２５ｍｍ’ Ｘ ２５ｓ＋ｍ’ （中央に６ｍ
−穴）の角板を切出し、表面を＃４００エメリー紙で湿
式研磨仕上げした。気相部にはこれをそのまま暴露し、
液相部には第１．２図に示す様な角板ｌにテフロン板２
をＴｉ製ポルト３゜ナツト４で止めたものを浸漬した。
試験条件
反応温度Ａ：１２５℃
／／Ｂ：１３５℃
試験時間 １５時間
第 ２ 表
各試験片のセ廣変化および平均腐食速度を調べたところ
第３表に示す結果が得られた。また各試験片の表面状態
は参考写真１に示す通りであった。
第３表に示す結果が得られた。また各試験片の表面状態
は参考写真１に示す通りであった。
第３表に示す様に、重量変化は殆んどが０．５ｍｇ以内
であり、測定誤差範囲といえる程度に小さいものであっ
た。また平均腐食速度は一般に材料の耐食限界とされる
０、１２５層ＩＩ／！に対し１オ一ダー以上小さいもの
であった。そしてこれらの結果は参考写真ｌに示される
表面状態ともよく一致しており、腐食が殆んど進行して
いないことが確認された。
であり、測定誤差範囲といえる程度に小さいものであっ
た。また平均腐食速度は一般に材料の耐食限界とされる
０、１２５層ＩＩ／！に対し１オ一ダー以上小さいもの
であった。そしてこれらの結果は参考写真ｌに示される
表面状態ともよく一致しており、腐食が殆んど進行して
いないことが確認された。
Ｌ記の如くトビアス酸生成反応系においてＴｉおよびＴ
ｉ合金が優れた耐腐食性を示すのは、Ｔｉ表面で下記反
応式（２）に従うＴ ｉ Ｏ２の不４＠態皮膜生成反応
が進行するからマある。
ｉ合金が優れた耐腐食性を示すのは、Ｔｉ表面で下記反
応式（２）に従うＴ ｉ Ｏ２の不４＠態皮膜生成反応
が進行するからマある。
Ｔｉ ＋２Ｈ２０＋ ＴｉＯ２＋ ４Ｈ十 ＋
４ｅ−−（２）尚該皮膜は青色を呈し、膜厚が増大す
るにつれて色調が濃くなる。参考写真１を見るとその色
調から不ｆ＠態皮膜の生成から明らかである。
４ｅ−−（２）尚該皮膜は青色を呈し、膜厚が増大す
るにつれて色調が濃くなる。参考写真１を見るとその色
調から不ｆ＠態皮膜の生成から明らかである。
次にＴｉ又はＴｉ合金製反応容器を使用する場合には水
素吸収による脆化が心配されるところから、一部の試験
片（Ｇｌ、Ｇ４）について水素含有量を調査したところ
第４表に示す結果が得られ第 ４ 表 （ｐｐｓ） 第４表から、未試験材と比較して水素けが変化している
ように見えるが、本来Ｔｉ中の水素量は材料全体として
均一ではなく同一ロットでも通常±５〜１ｏｐｐ■程度
のばらつきがある。従ってＬ記分析結果からは水素量の
有意的な変化は認められず水素吸収の恐れはないと判断
される。
素吸収による脆化が心配されるところから、一部の試験
片（Ｇｌ、Ｇ４）について水素含有量を調査したところ
第４表に示す結果が得られ第 ４ 表 （ｐｐｓ） 第４表から、未試験材と比較して水素けが変化している
ように見えるが、本来Ｔｉ中の水素量は材料全体として
均一ではなく同一ロットでも通常±５〜１ｏｐｐ■程度
のばらつきがある。従ってＬ記分析結果からは水素量の
有意的な変化は認められず水素吸収の恐れはないと判断
される。
さらに前記試験片の一部（Ｇｌ、Ｇ４）について試験前
と試験後の表面状態を走査型電子顕微鏡を用いて調べた
ところ、ｔｔＳ３〜１４図に示す結果が得られた。
と試験後の表面状態を走査型電子顕微鏡を用いて調べた
ところ、ｔｔＳ３〜１４図に示す結果が得られた。
対象試験片（Ｇｌ、Ｇ４について夫々調べた）（ｉ）
未試験材・・・・・・第３．４図（ｉｉ） 反応温
度Ａの液相部浸漬試験片（イ）すきま部（第２図でおけ
るａ部 分）・・・第５．９図 （ロ）自由表面部（開放表面）・・・第６．１０図 （ｉｉｉ）反応温度Ｂの液相部浸漬試験片（イ）すきま
部 ・・・・・・第７．１１図（ロ）自由表面部 ・
・・・・・第８，１２図（ｉＶ） 反応温度Ｂの気相
部曝露試験片・・・第１３゛ 、１４図 走査型電子５ｊＩ４微鏡 電子線加速電圧 ２５ＫＶ 倍率 １０００倍 第３〜１°４図に示す様に、いずれの試験片も試験前と
試験後で殆ど変化がみられず、試験前に付笑したエメリ
ー紙折ｍ＃ｊがそのまま残存していた。腐食の形跡は全
く認められなかった。
未試験材・・・・・・第３．４図（ｉｉ） 反応温
度Ａの液相部浸漬試験片（イ）すきま部（第２図でおけ
るａ部 分）・・・第５．９図 （ロ）自由表面部（開放表面）・・・第６．１０図 （ｉｉｉ）反応温度Ｂの液相部浸漬試験片（イ）すきま
部 ・・・・・・第７．１１図（ロ）自由表面部 ・
・・・・・第８，１２図（ｉＶ） 反応温度Ｂの気相
部曝露試験片・・・第１３゛ 、１４図 走査型電子５ｊＩ４微鏡 電子線加速電圧 ２５ＫＶ 倍率 １０００倍 第３〜１°４図に示す様に、いずれの試験片も試験前と
試験後で殆ど変化がみられず、試験前に付笑したエメリ
ー紙折ｍ＃ｊがそのまま残存していた。腐食の形跡は全
く認められなかった。
またＴｉ製オートクレーブとは別に、純Ｔｉ（ＴＢ ３
５） ５ａヒ−カオヨヒ炭１ｇｆ／Ａ （Ｓ ２５ Ｃ
）製ビーカを用いてトビアス酸の製造を行ない、ビー力
の腐食状況を調べたところ、参考写真２゜３に示す結果
が得られた。純Ｔｉ製ビー力は表面に不ｍｓ皮膜が生成
し腐食はみられなかった。これに対し炭素鋼製と一部に
は明らかな発錆および腐食が認められた。
５） ５ａヒ−カオヨヒ炭１ｇｆ／Ａ （Ｓ ２５ Ｃ
）製ビーカを用いてトビアス酸の製造を行ない、ビー力
の腐食状況を調べたところ、参考写真２゜３に示す結果
が得られた。純Ｔｉ製ビー力は表面に不ｍｓ皮膜が生成
し腐食はみられなかった。これに対し炭素鋼製と一部に
は明らかな発錆および腐食が認められた。
［発明の効果］
本発明は以上の様に構成されており、反応容器の少なく
とも反応溶液と接触する部材をＴｉ又はＴｉ合金で構成
する為、β−ナフチルアミンの副生を抑えることができ
高品位のトビアス酸を得ることができる。
とも反応溶液と接触する部材をＴｉ又はＴｉ合金で構成
する為、β−ナフチルアミンの副生を抑えることができ
高品位のトビアス酸を得ることができる。
第１，２図は腐食試験片の形状を示す説明図、第３〜１
４図は腐食試験片の表面状態を示す１図面に代る走査型
電子顕微鏡写真である。
４図は腐食試験片の表面状態を示す１図面に代る走査型
電子顕微鏡写真である。
Claims (1)
- トビアス酸を製造するに当たり、少なくとも反応溶液と
接触する部材をＴｉ又はＴｉ合金で構成することを特徴
とする高品位トビアス酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15778085A JPS6219563A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 高品位トビアス酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15778085A JPS6219563A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 高品位トビアス酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6219563A true JPS6219563A (ja) | 1987-01-28 |
| JPH055826B2 JPH055826B2 (ja) | 1993-01-25 |
Family
ID=15657132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15778085A Granted JPS6219563A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 高品位トビアス酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6219563A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103288690A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-09-11 | 山西翔宇化工有限公司 | 一种从吐氏酸废水中制取精制吐氏酸的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5852029A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-28 | ジューキ株式会社 | 食料品用品名付ラベルプリンタ− |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP15778085A patent/JPS6219563A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5852029A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-28 | ジューキ株式会社 | 食料品用品名付ラベルプリンタ− |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103288690A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-09-11 | 山西翔宇化工有限公司 | 一种从吐氏酸废水中制取精制吐氏酸的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH055826B2 (ja) | 1993-01-25 |
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