JPS62187483A - ３′−０−チオベンゾイル−２′−デオキシ−β−ウリジン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 倉皇よ五皿里光畳 本発明は、新規な３′−〇−ヂオベンゾイルー２′−デ
オキシ−β−ウリジン誘導体に関する。

来の　１　びその間　噸 一般式 〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基又はトリフ
ルオロメチル基を示す。〕 で表わされる３′−〇−ベンジルー２′−デオキシーβ
−ウリジン類は、優れた制癌作用を有し、片峰倍＊＋１
し１丁六ｍんル４１１Ａｎり沁ス従来、上記一般式（Ｉ
）のウリジン類の製造法としては、例えば一般式 〔式中、Ｘ′は弗素原子又はトリフルオロメチル基を示
す。〕で表わされる化合物の糖部水酸基をベンジル化し
た後、Ｎ−ベンゾイル基の除去反応を行なうことにより
製造されている。例えば糖部水酸基のベンジル化に際し
、酸化銀、酸化バリウム又は酸化水銀の存在下に臭化ベ
ンジルを作用させる方法が知られている（特開昭５９−
２１６８’９９号公報、特開昭６０−６１５９１号公報
参照）。しかしながら、上記方法において、酸化バリウ
ム又は酸化水銀を使用する場合には、ベンジル化は殆ん
ど進行せず、従って目的化合物を微量に得ることができ
るに過ぎない。また酸化銀を使用する場合、酸化バリウ
ム及び酸化水銀を使用する場合に比し、ベンジル化は進
行するものの、目的とする３′−〇−ベンジルー２′−
デオキシーβ−ウリジン類を選択的に得ることができず
、５′−〇−ベンジルー２′−デオキシーβ−ウリジン
類との混合物として得られるに止まり、それ故必然的に
３′−〇−ベンジルー２′−デオキシーβ−ウリジン類
の収率は低くなると共に、カラムクロマトグラフィーに
よる分離操作が必要となり、加えて酸化銀は高価なもの
であるため、工業的製造法として適したものではない。

を　　　るだめの手 本発明者らは、上記一般式（Ｉ＞の３’　−０−ベンジ
ル−２′−デオキシ−β−ウリジン類を工業的に有利な
方法で製造し得る新しい製造法を開発すべく研究を重ね
た結果、下記一般式（ＩＩＩ）を経由した場合に本発明
の所期の目的を達成し得ることを見い出した。本発明は
、斯かる知見に基づき完成されたものである。

本発明は、下記一般式（ＤＩ）で表わされる３′−０−
チオベンゾイル−２′−デオキシ−β−ウリジン誘導体
に係る。

〔式中、Ｒはトリチル基、低級アシル基又はモノハロゲン置換ベンゾイル基を示す。Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基又はトリフルオロメチル基を示す。〕

本明細書において、低級アシル基としては、炭素数１〜
６のアシル基、具体的にはホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を例
示できる。

モノハロゲン置換ベンゾイル基としては、弗素原子、塩
素原子、臭素原子及び沃素原子によりオルト位、メタ位
又はバラ位のいずれか一ケ所が置換されたベンゾイル基
、具体的にはｐ−クロルベンゾイル、０−フルオロベン
ゾイル、ｍ−クロルベンゾイル、ｐ−ブロモベンゾイル
、ｐ−ヨードベンゾイル基等を例示できる。

ハロゲン原子としては、弗素原子、臭素原子、沃素原子
等を例示できる。

低級アルキル基としては、炭素数１〜４のアルキル基、
具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル基等を例示できる。

本発明の一般式（ＩＩ）で表わされる３’　−０−チオ
ベンゾイル−２′−デオキシ−β−ウリジン誘導体は、
例えば下記反応式に示すように２−デオキシ−３−０−
チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノース誘導体（ＩＶ）と
ピリミジン誘導体（Ｖ）とを縮合反応させることにより
製造される。

反応式 〔式中Ｒ及びＸは前記に同じ。Ｙは低級アルキル基を示
す。〕 ２−デオキシ−３−０−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラ
ノース誘導体（ＩＶ）とピリミジン誘導体（Ｖ）との反
応は、通常適当な溶媒中触媒の存在下で行なわれる。こ
こで用いられる溶媒としては、該反応に悪影響を与えな
いものである限り従来公知のものを広く使用でき、具体
的にはベンゼン、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、塩化メチレン、１，２−ジクロルエタン、クロ
ロホルム、アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド等の慣用の非プロトン性溶媒を用いることができ
る。また触媒としては、トリメチルシリルトリフルオロ
メタンスルホネート、トリエチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネート等のトリアルキルシリルパーフルオロ
アルカンスルホネートを使用するのが好ましい。上記触
媒の使用量としては、化合物（ＩＶ）に対して通常０．
５〜５モル当量程度、好ましくは１〜３モル当１程度と
するのがよい。化合物（ＩＶ）と化合物（Ｖ）との使用
割合としては、特に限定されるものではないが、通常前
者に対して後者を０．５〜２モル当量程度とするのがよ
い。上記反応の反応温度としては、使用される溶媒の種
類により異なり一概には言えないが、凝固点以上〜室温
以下で反応を行なうのが好適である。また反応時間も特
に限定されないが、一般に１０時間以内で該反応は完結
する。

上記縮合反応により、３’　−〇−チオベンゾイルー２
１−デオキシ−α−ウリジン誘導体に優先して本発明の
３’−〇−チオベンゾイルー２′−デオキシ−β−ウリ
ジン誘導体を収得し得る。

上記反応において、出発原料として用いられる２−デオ
キシ−３−０−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノース誘
導体（ＩＶ）は、例えば下記反応式に示す方法により容
易に製造され得る。

反応式 ％式％（） 〔式中Ｒ，Ｘ及びＹは前記に同じ。〕 即ち、２−デオキシ−３−〇−チオベンゾイルーＤ−リ
ボフラノース誘導体（ＩＶ）は、公知の２−デオキシ−
〇−リボフラノースより公知の方法で導いた化合物（Ｖ
ｌ）の５位水酸基をＲで表わされる適当な置換基で保護
して化合物（ＶＩ）を得た後、通常のチオベンゾイル化
反応を適用することにより製造される。

ここで化合物（Ｖｌ）及び化合物（ＶＩ）は、公知の化
合物であるか又は公知の方法により容易に製造される化
合物である〔ケミシエ　ベリヒテ（ＣｈｅｌｌＩ、　Ｂ
ｅｒ、　９３．２７７７（１９６Ｇ）参照）。

化合物（ＶＩ）から化合物（ＩＶ）を１ひる反応は、例
えばチオベンゾイルクロライド、フェニルジチオベンゾ
エート等のチオベンゾイル化試薬を用い、通常のエステ
ル化反応と同様にして行ない得る。

具体的には、使用されるチオベンゾイル化試薬の種類に
より異なるが、例えばチオベンゾイルクロライドを用い
た場合には、次のようになる。

化合物（ＶＩ［＞から化合物（ＩＶ）を得る反応は、通
常適当な溶媒中で行なわれる。ここで用いられる溶媒と
しては、該反応に悪影響を与えるものでない限り特に限
定されず、従来公知のものを広く使用でき、具体的には
ベンゼン、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、ピリ
ジン、ジメチルホルムアミド等の慣用の非プロトン性溶
媒を用いることができる。チオベンゾイルクロライドの
使用量としては、化合物（Ｗ）１モルに対し１〜３モル
程度とするのが好ましい。また上記反応系内には、塩基
を存在させるのがよく、斯かる塩基としては、水素化ナ
トリウム、ピリジン、トリアルキルアミン等の有機塩基
を好ましく例示できる。

該塩基の使用量としては、チオベンゾイルクロライド１
モルに対し１〜５モル程度とするのが好ましいが、該塩
基が反応溶媒としても使用できる場合には、上記モル数
を越えて使用することも勿論可能である。該反応の反応
温度は、特に限定されないが、通常水冷下乃至溶媒の沸
ｌｉ！温度範囲、好ましくは水冷下〜室温付近である。

反応時間は、一般に０．５〜１０時間程度である。

またチオベンゾイル化試薬としてフェニルジチオベンゾ
エートを使用する場合には、次のようになる。

化合物（ＶＩ［）から化合物（ＩＶ）を得る反応は、通
常適当な溶媒中で行なわれる。ここで用いられる溶媒と
しては、該反応に悪影響を与えるものでない限り特に限
定されず、従来公知のものを広く使用でき、具体的には
上記と同様の慣用の非プロトン性溶媒を用いることがで
きる。フェニルジチオベンゾエートの使用量としては、
化合物（ＶＩ［）１モルに対し１〜３モル程度とするの
が好ましい。

また上記反応系内には、上記と同様の塩基を存在させる
のがよい。これらの塩基の中でも水素化ナトリウムが好
ましい。該塩基の使用量としては、化合物（■）１モル
に対し０．５〜５モル程度とするのが好ましい。該反応
の反応温度は、特に限定されないが、通常水冷下乃至溶
媒の沸！！温度範囲、好ましくは室温付近で反応は良好
に進行する。

反応時間は、一般に１０分〜１０時間程度である。

他の一方の出発原料として使用されるピリミジン誘導体
（Ｖ）もまた、公知の方法、例えば特開昭５０−１０５
６７３号公報に記載の方法に従い製造される。

上記各々の方法で得られる目的化合物は、通常公知の分
離精製手段、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー
等により単離、精製され得る。

本発明の上記一般式（ＩＩＩ）で表わされる３′−〇−
チオベンゾイルー２′−デオキシ−β−ウリジン誘導体
は、これを脱硫還元し、次いで脱保護反応させるか、又
は脱保護反応させ、次いで脱硫還元することにより医薬
として有用な３’　−０−に誘導することができる。

脱硫還元は、通常適当な溶媒中、適当な還元剤を用いて
行なわれる。還元剤としては、例えば水素化リチウムア
ルミニウムー塩化アルミニウム、水素化硼素ナトリウム
−三弗化硼素等の伯、ラネーニッケル触媒等の接触還元
触媒を例示でき、特にラネーニッケル触媒が好適でおる
。斯かる触媒の使用量゛としては、通常還元されるべき
化合物に対し１〜５０倍重最程度、好ましくは５〜２０
倍重量程度とするのがよい。また溶媒としては、該反応
に悪影響を及ぼさない限り従来公知のものを広く使用で
き、具体的にはエーテル、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン、クロロホルム、アセトン、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド等の慣用の非プロトン性溶媒、メタ
ノール、エタノール等のアルコール類等が挙げられる。

該反応は、冷却下、室温下及び加熱下のいずれでも行な
い得３０℃〜至温付通温付近が好適に進行し、一般に１
０時間以内で該反応は終了する。

脱保護反応には、この分野で通常行なわれているアルコ
リシス、アミツリシス、アンモノリシス、酸加水分解、
緩和な接触還元等が広く適用し得る。

保護基Ｒがトリチル基である場合には、特に酸加水分解
が望ましく、通常は塩化水素等の鉱酸、塩化アルミニウ
ム等のルイス酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等の存在
下、水、メタノール等のアルコール類、酢酸等の有機酸
、又はこれらの混合溶媒中にて脱保護反応が実施される
。該反応の反応温度は、特に限定されるものではないが
、Ｏ〜５０℃程度とするのが好ましく、一般に１０時間
以内で該反応は完結する。

保護基Ｒが低級アシル基又はモノハロゲン置換ベンゾイ
ル基である場合には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化バリウム等の無機金属の水酸化物、炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム等の無機炭酸塩、アンモニア、ト
リエチルアミン等の有機アミン等の存在下、水、メタノ
ール等のアルコール類、エーテル類、ハロゲン化炭化水
素類、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒
、又はこれらの混合溶媒中にて脱保護反応を行なうのが
好ましい。該反応の反応湿度は、特に限定されるもので
はないが、０〜５０℃程度とするのが好ましく、一般に
１０時間以内で該反応は完結する。

上記の方法で得られる化合物（Ｉ）は、通常公知の分離
精製手段、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー等
により単離、精製され得る。

及」例四ス 本発明の上記一般式（ＩＩＩ）で表わされる３′−〇−
チオベンゾイルー２′−デオキシ−β−ウリジン誘導体
は、上述したように医薬として有用な３′−〇−ベンジ
ルー２′−デオキシーβ−ウリジン類（Ｉ＞を合成する
ための中間体として有用である。本発明の化合物を経由
する場合には、簡便な方法で目的化合物を収率よく、安
価に製造することができる。

大−厘−１ 本発明化合物の製造原料である２−デオキシ−３−〇−
チオベンゾイルー〇−リボフラノース誘導体（ＩＶ）の
製造例を参考例として掲げ、次に本発明化合物の製造例
を実施例として掲げ、更に医薬として有用な３′−〇−
ベンジルー２′−デオキシーβ−ウリジン類（Ｉ＞の製
造例を参考例として掲げる。

尚、各参考例及び各実施例で得られた化合物の核磁気共
鳴スペクトルの分析結果を示すが、これらは全てＤＭＳ
Ｏｄｓ中、ＴＭＳを内部標準として測定したδ値である
。

参考例１ ２−デオキシ−１−〇−メチルー３−０−チオベンゾイ
ル−５−０−トリチル−Ｄ−リボフラノースの製造 ２−デオキシ−１−０−メチル−５−０−トリチル−Ｄ
−リボフラノース７．８ｇ（０，０２モル）をテトラヒ
ドロフラン４０ｍＱに溶解し、室温にて水素化ナトリウ
ム０．４８ｇ（０，０２モル）を加え、３０分間撹拌す
る。次いでフェニルジチオベンゾエート５．０６０　（
０，０２２モル）を加え、室温にて３０分間撹拌する。

ベンゼン５０−及び水５０−を加え、ベンゼン層を分取
し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒を留去後、得られる
残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、石油エ
ーテル−ベンゼン（１：１ｖ／ｖ）溶出部より油状の２
−デオキシ−１−０−メチル−３−〇−チオベンゾイル
ー５−０−トリチル−Ｄ−リボフラノース９．０７ｃｘ
　（収率８９％）を得る。

ＮＭＲスペクトル ３．２４及び３．３４　（３Ｈ，Ｓ、　　０Ｃｈｈ　）
４、　３〜４．　　５　　（１Ｈ，ｍ、　　ト１４　）
５．１６〜５．３　（ＩＨ，ｍ、Ｈ３）５．８〜６．Ｏ
（１Ｈ，ｍ、Ｈ’　　）７．１５〜８．２　（２０１−
ｆ、ｍ、芳香族Ｈ）参考例２ ２−デオキシ−１−０−メチル−３−〇−チオベンゾイ
ルー５−０−　（ｐ−クロルベンゾイル）−Ｄ−リボフ
ラノースの製造 ２−デオキシ−１−〇−メチルーＤ−リボフラノース４
．４１　（０，０３モル）をピリジン３０鵬に溶解し、
水冷下ｐ−クロルベンゾイルクロリド５．２５ｑ　（０
，０３モル）を滴下し、２時間撹拌する。ピリジンを減
圧留去後、残渣を塩化メチレンに溶解し、水洗、芒硝で
乾燥して溶媒を留去する。この油状残渣にテトラヒドロ
フラン４０１１１２を加えて溶解し、水冷下水素化ナト
リウム０．７２ｇ（０，０３モル）を加え、３０分間撹
拌し、フェニルジチオベンゾエート６．９ｇ（０，０３
モル）を加え、水冷下１時間撹拌する。

反応物にベンゼン８０ｍＧ及び水８０ｍ２を加え、ベン
ゼン層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒を留去
後、１ｑられる残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
に付し、クロロホルム溶出部より油状の２−デオキシ−
１−０−メチル−３−０−チオベンゾイル−５−０−（
ｐ−クロルベンゾイル）−〇−リボフラノース５．８６
０　（収率４８％）を得る。

ＮＭＲスペクトル ４．３６〜４．７６　（３ｔ（、ｍ、Ｈ’及びＨ５）５
．１４〜５．３６　（１１−１，ｍ、Ｈ’　）５．８２
〜６．２０　（１Ｈ，ｍ、Ｈ３）７．１６〜８．２０　
（９Ｈ，ｍ、芳香族Ｈ）参考例３ ２−デオキシ−１−０−メチル−３−〇−チオベンゾイ
ルー５−０−アセチル−Ｄ−リボフラノースの製造 ２−デオキシ−１−０−メチル−３−０−チオベンゾイ
ル−５−０−トリチル−Ｄ−リボフラノース１０．２ｇ
（０，０２モル）を０．１Ｎ塩酸−メタノール１００ｗ
ｔ１に溶解し、室温にて３０分間撹拌する。この溶液に
ピリジン１０１１１２を加え、室温にて１０分間撹拌し
た後、減圧上溶媒を留去する。得られる残留物に無水酢
酸１０鵬及びピリジン３０ｆｆｌ１２を加えて室温にて
２時間撹拌する。溶媒を減圧下画表した後、得られる残
留物に水及びクロロホルムを加え、クロロホルム層を分
取し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒を留去後、得られ
る残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルム溶出部より油状の２−デオキシ−１−０
−メチル−３−０−チオベンゾイル−５−〇−アセチル
ーＤ−リボフラノース１ゝ ’　　　　　５．４６０　（収率８８％）を１ｑる。

ＮＭＲスペクトル ２．０５　（３ＨＳｓ１ＣＨ３Ｇｏ　　＞４、　　１４
　〜４．　　３２　　（２Ｈ，ｍ、　　ト１５　　）４
．３８〜４．６２　（１Ｈ，ｍ％Ｈ’　）５．１０〜５
．４０　（１８％ｍ、Ｈ’　　）５．６８〜６．１６　
（Ｉ　Ｈ，ｍ１Ｈ３）７．１０〜８．２２　（５Ｈ，ｍ
、芳香族Ｈ）実施例１ ５−トリフルオロメチル−３′−〇−チオベンゾイルー
５’−０−トリチル−２′−デオキシ−β−ウリジンの
製造 ２−デオキシ−１−０−メチル−３−０−チオベンゾイ
ル−５−０−トリチル−Ｄ−リボフラノース５．１ｇ（
０，０１モル）をアセトニトリル５０１１２に溶解し、
−４０〜−４５℃にてトリメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネート２．４５９（０，０１１モル）及び２
，４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−トリフ
ルオロメチルピリミジン３．２４ｇ（０，０１モル）を
加え、同温度にて３０分間撹拌する。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルムにより抽
出後、クロロホルム層を水洗、芒硝で乾燥し、減圧下に
溶媒を留去する。得られる残留物をシリカゲルクロマト
グラフィーに付しクロロホルム−アセトン（９７：３ｖ
／ｖ）溶出部より、５−トリフルオロメチル−３’　−
０−チオベンゾイル−５’−０−トリフェニルメチル−
２′−デオキシ−β−ウリジン５．８３ｇ（収率８９％
）を得る。

ＮＭＲスペクトル ３．４０　（２Ｈ，ｍ、８５′　） ６．０４　（１Ｈ，ｍ１８３′　） ６．２２　（１Ｈ，ｔ、Ｈ”　） ６．５０　（ＩＨ，ｍ、Ｈ”　） ７．２〜８．３　（２０Ｈ，ｍ、芳香族Ｈ）８．２２　
（ＩＨ，ｍ、Ｈ６） １２．０２（１ト１、８１　ＮＨ） 実施例２ ５−トリフルオロメチル−３’　−０−チオベンゾイル
−５′−〇−アセデルー２′−デオキシーβ−ウリジン
の製造 ２−デオキシ−５−〇−アセチルー１−０−メチルー３
−〇−チオベンゾイルーＤ−リボフラノース３．１ｇ（
０，０１モル）をアセトニトリル５０戒に溶解し、−４
０〜−４５℃にてトリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホネート２．４５（ｊ　（０，０１１モル）を加え
、同温度にて１５分間撹拌する。この溶液に−４０〜−
４５℃にて２．４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）
−５−トリフルオロメチルピリミジン３．２４ｇ（０，
０１モル）を加え、同温度にて３０分間撹拌する。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホ
ルムにより抽出する。クロロホルム層を水洗、芒硝で乾
燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られる残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィーに付しクロロホルム−アセト
ン（９５：５ｖ／ｖ）溶出部より、５−トリフルオロメ
チル−３′−〇−チオベンゾイルー５′−Ｏ−アセチル
−２′−デオキシ−β−ウリジン３．９４０（収率８６
％）を得る。

ＮＭＲスペクトル ２．０４　（３Ｈ，ｓ、ＣＨ３Ｃｏ　−）２　、　５８
〜２．　　８６　　（２ト１、　ｍ、　ト１２　′　　
）４．３７　（２Ｈ，ｄ、　Ｈ”　） ４．５０〜４．７０　（ＩＨｌｍ、Ｈ”　　＞５、８２
〜６．　４０　（１ト１、　ｍ、　　Ｈ３′　　）６．
２４　（１Ｈ，ｔ、Ｈｌ　’　） ７．３４〜８．２４　（５ＨＳｍ、芳香族ト１）８．１
６　（１Ｈ，ｑ１Ｈ６） １１．９６（１１−１、ｂｒｓ、Ｎ１−１＞実施例３ ５−フルオロ−３′−〇−チオベンゾイルー５′−〇−
アセチル−２′−デオキシ−β−ウリジンの製造 ２．４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−トリ
フルオロメチルピリミジンの代りに２゜４−ビス−（ト
リメチルシリルオキシ）−５−フルオロピリミジン２．
７４ｇ（０，０１モル）を用いる以外は、実施例２と同
様の操作を行ない、５−フルオロ−３′−０−チオベン
ゾイル−５′−〇−アセチルー２′−デオキシーβ−ウ
リジン３．４７０　（収率８５％）を得る。

ＮＭＲスペクトル ２．０８　（３Ｈ，Ｓ、ＣＨ３Ｃｏ　　）２、　　５０
〜２．　　８０　　（２Ｈ，ｍ、　　１１２　′　　）
４、　　２４〜４．　６２　　（３Ｈ，ｍ、　１１４　
′及びＨ５′） ５．８４〜６．０４　（１８１ｍ、Ｈ３’　）６．１０
〜６．４０　（１Ｈ，ｍ、Ｈ”　＞７．３０〜８．２４
　（５Ｈ，ｍ、芳香族［−１）８．０６　（１Ｈ，ｄ１
Ｈ６） １１．９４　（ＩＨ，ｂｒｓ、ＮＨ） 実施例４ ３′−〇−チオベンゾイルー５′−〇−アセチル−β−
チミジンの製造 ２．４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−トリ
フルオロメチルピリミジンの代りに２゜４−ビス−（ト
リメチルシリルオキシ）−５−メチルピリミジン２．７
ｑ　（０，０１モル）を用いる以外は、実施例２と同様
の操作を行ない、３′−〇−チオベンゾイルー５′−〇
−アセチル−β−チミジン２．６３ｇ（収率６５％）を
得る。

ＮＭＲスペクトル １．８４　（３Ｈ％ｄ、Ｃ５ＣＨ３） ２．１０　（３Ｈ，Ｓ、ＣＨ３Ｃｏ　　）２．５０〜２
．８０　（２ＨＳｍ、Ｈ２’　＞４．２０〜４．６０　
（３ＨＳｍ、Ｈ”及びＨ５′） ５．８６〜６．０４　（１ＨＳｍ、Ｈ３′）６．３４　
（１Ｈ１ｔ％Ｈ１′） ７．３０〜８．２２　（５Ｈ，ｍ、芳香族Ｈ）７．５４
　（ＩＨ，ｑ、Ｈ６） １１．４２　（ＩＨ，ｂｒｓ、ＮＨ） 実施例５ ５−トリフルオロメチル−３′−〇−チオベンゾイルー
５’　−０−（１）−クロロベンゾイル）−２′−デオ
キシ−β−ウリジンの製造２−デオキシ−１−０−メチ
ル−５−０−（１）−クロロベンゾイル）−３−０−チ
オベンゾイル−Ｄ−リボフラノース４．０７ｇ（０，０
１モル）をアセトニトリル５０１１ｆｔに溶解し、−４
０〜−４５℃にてトリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホネート２．４５ｑ　（０，０１１モル）を加え、
同温度にて１５分間撹拌する。この溶液に−４０〜−４
５℃にて２，４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−
５−トリフルオロメチルピリミジン３．２４ｇ（０，０
１モル）を加え、同温度にて３０分間撹拌する。反応液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホル
ムにより抽出する。クロロホルム層を水洗、芒硝で乾燥
し、減圧下に溶媒を留去する。得られる残留物をシリカ
ゲルりロマトグラフイーに付しクロロホルム−°アセト
ン（９５：５ｖ／ｖ）溶出部より、５−トリフルオロメ
チル−３’　−〇−チオベンゾイルー５′−Ｏ−（ｐ−
クロロベンゾイル）−２′−デオキシ−β−ウリジン４
．５５０　（収率８２％）を得る。

ＮＭＲスペクトル ２．７０〜２．９６　（２Ｈ，ｍ、Ｈ２”）４．５０〜
４．８６　（３Ｈ，ｍ、Ｈ”及びＨ５′） ６、　　０２〜６．　　３６　　（２ト１、　ｍ、　　
Ｈ”及びＨ３′） ７．３０〜８．２４　（９Ｈ，ｍ、芳香族ト１）８．１
３（１ト１、　ｑ　１　ト１６　）１１．９０（１ト１
、　ｂｒｓ、　　Ｎ１−ｆ）参考例４ ５−トリフルオロメチル−３′−〇−ベンジルー２１−
デオキシーβ−ウリジンの製造５−トリフルオロメチル
−３′−〇−チオベンゾイルー５’−０−トリチル−２
′−デオキシ−β−ウリジン６．５８ｇ（０，０１モル
）を０．１Ｎ塩酸−メタノール５０ｒｔ１に溶解し、室
温にて３０分間撹拌する。飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で中和し、クロロホルムにより抽出する。

抽出液を水洗、芒硝で乾燥し、減圧下に溶媒を留去する
。得られる残留物をテトラヒドロフラン２０Ｉｌ１２に
溶解し、−２０℃にてラネーニッケル６６ｇをテトラヒ
ドロフラン８０１１１１２に懸濁した液に加え、同温度
にて１時間撹拌する。ラネーニッケルをか別後、溶媒を
減圧下に留去し、得られる残留物をクロロホルムから再
結晶して、融点１５８〜１５９℃の５−トリフルオロメ
チル−３′−〇−ベンジルー２′−デオキシーβ−ウリ
ジン３．２６ｇ（収率８４％）を得る。

参考例５ ５−トリフルオロメチル−３’　−０−ベンジル−２′
−デオキシ−β−ウリジンの製造５−トリフルオロメチ
ル−３’　−０−チオベンゾイル−５’　−０−（１）
−クロロベンゾイル）−２′−デオキシ−β−ウリジン
５．５５Ｑ（０，０１モル）をテトラヒドロフラン１０
１１１１２に溶解し、−２０℃にてラネーニッケル５５
．５０をテトラヒドロフラン６０１１１ｉ１？に懸濁し
た液に加え、同温度にて１時間撹拌する。ラネーニッケ
ルをｔ戸別後、溶媒を減圧下に留去し、得られる残留物
を１％炭酸カリウム−メタノール溶液１４０−に溶解し
、室温にて１５分間撹拌する。溶媒を減圧下に留去し、
得られる残留物をクロロホルムから再結晶して、融点１
５８〜１５９℃の５−トリフルオロメチル−３’−０−
ベンジル−２′−デオキシ−β−ウリジン２．８５０　
（収率７４％）を得る。

参考例６ ５−フルオロ−３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー
β−ウリジンの製造 ５−フルオロ−３′−〇−チオベンゾイルー５′−〇−
アセチル−２′−デオキシ−β−ウリジン４．０８ｇ（
０，０１モル）をテトラヒドロフラン１０ｍＱに溶解し
、−２０℃にてラネーニッケル４０．８ｇをテトラヒド
ロフラン５０ｍ１２に懸濁した液に加え、同温度にて１
時間撹拌する。ラネーニッケルをｉ戸別後、溶媒を減圧
下に留去し、得られる残留物を飽和アンモニア−メタノ
ール溶液１００−に溶解し、室温にて３時間撹拌する。

溶媒を減圧下に留去し、得られる残留物をクロロホルム
から再結晶して融点１３７〜１３８℃の５−フルオロ−
３′−〇−ベンジルー２′−デオキシーβ−ウリジン２
．４９ｇ（収率７４％）を１ｑる。

（以　上）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはトリチル基、低級アシル基又はモノハロゲ
   ン置換ベンゾイル基を示す。Ｘはハロゲン原子、低級ア
   ルキル基又はトリフルオロメチル基を示す。〕 で表わされる３′−Ｏ−チオベンゾイル−２′−デオキ
   シ−β−ウリジン誘導体。