JPS62184700A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPS62184700A JPS62184700A JP61025898A JP2589886A JPS62184700A JP S62184700 A JPS62184700 A JP S62184700A JP 61025898 A JP61025898 A JP 61025898A JP 2589886 A JP2589886 A JP 2589886A JP S62184700 A JPS62184700 A JP S62184700A
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Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 13
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 74
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 45
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 40
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 101000716068 Homo sapiens C-C chemokine receptor type 6 Proteins 0.000 description 1
- 101100100119 Homo sapiens TNFRSF10C gene Proteins 0.000 description 1
- 101100121770 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) GID8 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100009020 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) dcr1 gene Proteins 0.000 description 1
- 102100040115 Tumor necrosis factor receptor superfamily member 10C Human genes 0.000 description 1
- 102100040110 Tumor necrosis factor receptor superfamily member 10D Human genes 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例えば、
予備メモリアレイを内蔵したダイナミック型RAM (
ランダム・アクセス・メモリ)に利用して有効な技術に
関するものである。
予備メモリアレイを内蔵したダイナミック型RAM (
ランダム・アクセス・メモリ)に利用して有効な技術に
関するものである。
例えば、ダイナミック型RAMのような半導体記憶装置
においては、その製品歩留りを向上させるために、欠陥
ビット救済方式が公知である。欠陥ビット救済方式を採
用するために、メモリアレイ内の不良アドレスを記憶す
る適当な記憶手段及びそのアドレス比較回路、並びに冗
長回路(予備メモリアレイ)のような付加回路が設けら
れる。
においては、その製品歩留りを向上させるために、欠陥
ビット救済方式が公知である。欠陥ビット救済方式を採
用するために、メモリアレイ内の不良アドレスを記憶す
る適当な記憶手段及びそのアドレス比較回路、並びに冗
長回路(予備メモリアレイ)のような付加回路が設けら
れる。
上記冗長回路を付加したダイナミック型RAMの例とし
て、日経マグロウヒル社1980年7月21日付1日経
エレクトロニクスjの頁189〜頁201がある。
て、日経マグロウヒル社1980年7月21日付1日経
エレクトロニクスjの頁189〜頁201がある。
上記記憶回路は、例えばポリシリコンによって形成され
たヒユーズ手段を用いて、それを電気的に溶断(切断)
させることにより、その記憶を行う。上記不良アドレス
の記憶回路や、不良アドレスヘのアクセスを検出するた
めのアドレス比較回路は、1つにまとめられて半導体チ
ップの空きエリアに配置されるものである。このため、
アドレスバッファと比較的長い距離をもって配置される
ことになる。したがって、アドレスバッファと冗長回路
との間の信号線が長くされるため、アドレスバッファ側
から見た負荷容量が増大し、その動作速度が遅くなって
しまう。また、上記比較的長い信号線により伝達される
内部アドレス信号を受けて、不良アドレスヘのアクセス
を検出するものである。このため、メモリアクセス動作
は、常に冗長回路が不良アドレスヘのアクセスを検出す
るか否かの出力信号を待ってデコーダ回路を動作させる
必要があり、上記冗長回路に伝達されるアドレス信号の
遅延によってその分動作速度が遅くなってしまう。
たヒユーズ手段を用いて、それを電気的に溶断(切断)
させることにより、その記憶を行う。上記不良アドレス
の記憶回路や、不良アドレスヘのアクセスを検出するた
めのアドレス比較回路は、1つにまとめられて半導体チ
ップの空きエリアに配置されるものである。このため、
アドレスバッファと比較的長い距離をもって配置される
ことになる。したがって、アドレスバッファと冗長回路
との間の信号線が長くされるため、アドレスバッファ側
から見た負荷容量が増大し、その動作速度が遅くなって
しまう。また、上記比較的長い信号線により伝達される
内部アドレス信号を受けて、不良アドレスヘのアクセス
を検出するものである。このため、メモリアクセス動作
は、常に冗長回路が不良アドレスヘのアクセスを検出す
るか否かの出力信号を待ってデコーダ回路を動作させる
必要があり、上記冗長回路に伝達されるアドレス信号の
遅延によってその分動作速度が遅くなってしまう。
この発明の目的は、冗長回路を備えつつ、高速動作化を
図った半導体記憶装置を提供することにある。
図った半導体記憶装置を提供することにある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、アドレスバッフ1から供給される内部アドレ
ス信号と記憶された不良アドレス信号とを受けて、予備
メモリアレイに切り換える冗長回路を上記アドレスバッ
ファに隣接して配置するものである。
ス信号と記憶された不良アドレス信号とを受けて、予備
メモリアレイに切り換える冗長回路を上記アドレスバッ
ファに隣接して配置するものである。
上記した手段によれば、アドレスバッファと冗長回路が
隣接して配置されるため、アドレスバッファ側からみた
出力配線長を短くできることによってその負荷容量を軽
減でき、冗長回路にアドレス信号を高速に伝達できる。
隣接して配置されるため、アドレスバッファ側からみた
出力配線長を短くできることによってその負荷容量を軽
減でき、冗長回路にアドレス信号を高速に伝達できる。
これによって1、高速動作化を実現できる。
第1図には、この発明が適用されたダイナミック型RA
Mの一実施例のブロック図が示されている。同図の主要
な各回路ブロックは、半導体チップにおける実際の幾何
学的な配置にはり合わせて描かれており、半導体集積回
路波゛術によって、特に制限されないが、1個の単結晶
シリコンから成るような半導体基板上に形成される。
Mの一実施例のブロック図が示されている。同図の主要
な各回路ブロックは、半導体チップにおける実際の幾何
学的な配置にはり合わせて描かれており、半導体集積回
路波゛術によって、特に制限されないが、1個の単結晶
シリコンから成るような半導体基板上に形成される。
特に制限されないが、この実施例は、シェアードセンス
方式のダイナミック型RAMに向けられている。RAM
を構成する種々の回路は、後の説明から明らかとなるよ
うに、ロウ系及びカラム系タイミング発生回路R−TG
、C−TGからそれぞれ発生される種々のタイミング信
号によってそれぞれの動作が制御される。しかしながら
、第1図においては、図面が複雑になることを防ぐため
にロウ系及びカラム系タイミング発生回路R−TG、C
−TOと種々の回路との間に設けられるべき信号線は省
略されている。
方式のダイナミック型RAMに向けられている。RAM
を構成する種々の回路は、後の説明から明らかとなるよ
うに、ロウ系及びカラム系タイミング発生回路R−TG
、C−TGからそれぞれ発生される種々のタイミング信
号によってそれぞれの動作が制御される。しかしながら
、第1図においては、図面が複雑になることを防ぐため
にロウ系及びカラム系タイミング発生回路R−TG、C
−TOと種々の回路との間に設けられるべき信号線は省
略されている。
この実施例のダイナミック型RAMは、特に制限されな
いが、4つのメモリアレイMIL、M1R,M2L及び
M2Rを持つ。メモリアレイMILないしM2Rのそれ
ぞれは、折り返しビット線(データ線)方式をもって構
成される。それ故に、各メモリアレイは、それぞれ対と
されるべき複数のデータ線、すなわち複数の相補データ
線と、それぞれのデータ入出力端子がそれぞれに対応さ
れたデータ線に結合される複数のダイナミック型メモリ
セルと、それぞれダイナミック型メモリセルの選択端子
が結合される複数のワード線とを持つ。
いが、4つのメモリアレイMIL、M1R,M2L及び
M2Rを持つ。メモリアレイMILないしM2Rのそれ
ぞれは、折り返しビット線(データ線)方式をもって構
成される。それ故に、各メモリアレイは、それぞれ対と
されるべき複数のデータ線、すなわち複数の相補データ
線と、それぞれのデータ入出力端子がそれぞれに対応さ
れたデータ線に結合される複数のダイナミック型メモリ
セルと、それぞれダイナミック型メモリセルの選択端子
が結合される複数のワード線とを持つ。
データ線は、第1図において図示されていないけれども
、同図の横方向に延長される。ワード線は、同図の縦方
向に延長される。
、同図の横方向に延長される。ワード線は、同図の縦方
向に延長される。
メモリアレイMILとMIRの相互、及びM2LとM2
Rの相互は、それぞれ対とされている。
Rの相互は、それぞれ対とされている。
この実施例に従うと、対のメモリアレイのそれぞれのデ
ータ線は、互いに実質的に等しいデータ線容量を持つよ
うにされる。データ線容量を互いに実質的に等しくさせ
るため、特に制限されないが、メモリアレイMILない
しMIRの相互は、互いに同じ構成、すなわち、互いに
等しい数のデ−タ腺、メモリセル及びワード線を持つよ
うにされる。
ータ線は、互いに実質的に等しいデータ線容量を持つよ
うにされる。データ線容量を互いに実質的に等しくさせ
るため、特に制限されないが、メモリアレイMILない
しMIRの相互は、互いに同じ構成、すなわち、互いに
等しい数のデ−タ腺、メモリセル及びワード線を持つよ
うにされる。
対のメモリアレイM I LとMIRとの間には、これ
らのメモリアレイによって選択的に利用されるセンスア
ンプSAIが設けられている。メモリアレイMILとセ
ンスアンプSAIとの間には、それらの相互を選択的に
結合させるためのスイッチ回路5WILが設けられ、同
様に、メモリアレイMIRとセンスアンプSAIとの間
には、それらの相互を選択的に結合させるためのスイッ
チ回路5WIRが設けられている。他の対のメモリアレ
4 M 2 LとM2Rとの間にも、同様なセンスアン
プSA2及びスイッチ回路SV/21.&び5W2Rが
設けられている。
らのメモリアレイによって選択的に利用されるセンスア
ンプSAIが設けられている。メモリアレイMILとセ
ンスアンプSAIとの間には、それらの相互を選択的に
結合させるためのスイッチ回路5WILが設けられ、同
様に、メモリアレイMIRとセンスアンプSAIとの間
には、それらの相互を選択的に結合させるためのスイッ
チ回路5WIRが設けられている。他の対のメモリアレ
4 M 2 LとM2Rとの間にも、同様なセンスアン
プSA2及びスイッチ回路SV/21.&び5W2Rが
設けられている。
スイッチ回路5WILないし5W2Rは、それぞれの動
作がロウ系タイミング発生回路R−TOから出力される
タイミング信号sh、slによって制御される。
作がロウ系タイミング発生回路R−TOから出力される
タイミング信号sh、slによって制御される。
1つのセンスアンプ、例えばSAIに対応された2つの
スイッチ回路SWI Lと5WLRは、基本的には、メ
モリのアクセスの開始において、その一方がオフ状態に
される。これによって、一対のメモリアレイMILとM
IRのうちの一方がセンスアンプSAIから切り離され
、他方がセンスアンプSAIと結合されたままとされる
。言い換えると、一方のメモリアレイにおける各対のデ
ータ線がセンスアンプSAIから切り離され、他方のメ
モリアレイにおける各対のデータ線がセンスアンプSA
Iに結合されたままとされる。
スイッチ回路SWI Lと5WLRは、基本的には、メ
モリのアクセスの開始において、その一方がオフ状態に
される。これによって、一対のメモリアレイMILとM
IRのうちの一方がセンスアンプSAIから切り離され
、他方がセンスアンプSAIと結合されたままとされる
。言い換えると、一方のメモリアレイにおける各対のデ
ータ線がセンスアンプSAIから切り離され、他方のメ
モリアレイにおける各対のデータ線がセンスアンプSA
Iに結合されたままとされる。
上記センスアンプSAI及びSA2は、ロウ系タイミン
グ発生回路R−TGから出力されるタイミング信号によ
ってそれぞれの動作が制御される。
グ発生回路R−TGから出力されるタイミング信号によ
ってそれぞれの動作が制御される。
なお、第1図の回路ブロックとしてのセンスアンプSA
IとSA2には、プリチャージ回路、ダミーセル及びア
クティブリストア回路等が含まれていると理解されたい
。
IとSA2には、プリチャージ回路、ダミーセル及びア
クティブリストア回路等が含まれていると理解されたい
。
図示のRAMは、各メモリアレイにおける複数のメモリ
セルのうちの所望のメモリセル及び複数のダミーセルの
うちの所望のダミーセル選択するめのアドレス選択回路
を持つ。アドレス選択回路は、ロウアドレスバッファR
−ADB、カラムアドレスバッファC−ADB、 ロウ
アドレスデコーダR−DCRI L〜2R,カラムアド
レスデコーダC−DCR1〜2.カラムスイッチ回路C
WIL〜2R等から構成される。
セルのうちの所望のメモリセル及び複数のダミーセルの
うちの所望のダミーセル選択するめのアドレス選択回路
を持つ。アドレス選択回路は、ロウアドレスバッファR
−ADB、カラムアドレスバッファC−ADB、 ロウ
アドレスデコーダR−DCRI L〜2R,カラムアド
レスデコーダC−DCR1〜2.カラムスイッチ回路C
WIL〜2R等から構成される。
アドレス選択回路を構成する各回路は、それぞれの動作
が、ロウ及びカラム系のそれぞれのタイミング発生回路
R−TG、C−TGから発生されるタイミング信号によ
って制御される。
が、ロウ及びカラム系のそれぞれのタイミング発生回路
R−TG、C−TGから発生されるタイミング信号によ
って制御される。
ロウ及びカラムアドレスバッファR,C−ADBの入力
端子が結合されたRAMの外部端子には、アドレスマル
チプレクス方式に従って外部ロウアドレス信号及びカラ
ムアドレス信号が時分割的に供給される。
端子が結合されたRAMの外部端子には、アドレスマル
チプレクス方式に従って外部ロウアドレス信号及びカラ
ムアドレス信号が時分割的に供給される。
ロウアドレスバッファR−ADHは、ロウアドレススト
ローブ信号RASの発生に同期してアドレス信号取り込
み制御1のための夕・fミング信号がロウ系夕・fミン
グ発生回路R−TOから発生されると、それに応答して
外部ロウアドレス信号を取り込む。その結果として、ロ
ウアドレスデコーダR−DCRILないしR−DCR2
Rに供給されるべきロウ系の内部相補アドレス信号がア
ドレス選択回路ADBから出力駆動回路R−DRVを介
して出力される。カラムアドレスバッファC−ADBは
、カラムアドレスストローブ信号CASの発生に同期し
てカラム系タイミング発生回路C−TGから同様なタイ
ミング信号が発生されると、それに応答して外部カラム
アドレス信号を取り込み、出力駆動回路C−DRVを介
してカラムアドレスデコーダC−DCR1に供給される
べきカラム系の内部相補アドレス信号を出力する。
ローブ信号RASの発生に同期してアドレス信号取り込
み制御1のための夕・fミング信号がロウ系夕・fミン
グ発生回路R−TOから発生されると、それに応答して
外部ロウアドレス信号を取り込む。その結果として、ロ
ウアドレスデコーダR−DCRILないしR−DCR2
Rに供給されるべきロウ系の内部相補アドレス信号がア
ドレス選択回路ADBから出力駆動回路R−DRVを介
して出力される。カラムアドレスバッファC−ADBは
、カラムアドレスストローブ信号CASの発生に同期し
てカラム系タイミング発生回路C−TGから同様なタイ
ミング信号が発生されると、それに応答して外部カラム
アドレス信号を取り込み、出力駆動回路C−DRVを介
してカラムアドレスデコーダC−DCR1に供給される
べきカラム系の内部相補アドレス信号を出力する。
ロウアドレスデコーダR−DCRI LないしR−DC
R2Rは、第1図においてメモリアレイMILないしM
2Rの下側に配置され、それぞれの出力端子が対応する
メモリアレイのワード線に結合されている。これらロウ
アドレスデコーダR−DCRI LないしR−DCR2
Rは、それぞれの動作が、ロウ系タイミング発生回路R
−TGから発生されるワード線選択タイミング信号φX
によって制御され、そのタイミング信号ψXに同期して
ワード線選択信号及びダミーワード線選択信号を出力す
る。
R2Rは、第1図においてメモリアレイMILないしM
2Rの下側に配置され、それぞれの出力端子が対応する
メモリアレイのワード線に結合されている。これらロウ
アドレスデコーダR−DCRI LないしR−DCR2
Rは、それぞれの動作が、ロウ系タイミング発生回路R
−TGから発生されるワード線選択タイミング信号φX
によって制御され、そのタイミング信号ψXに同期して
ワード線選択信号及びダミーワード線選択信号を出力す
る。
従って、各メモリアレイMIL、MIR,M2L及びM
2Rのワード線は、ロウアドレスデコーダR−DCRI
L、R−DCRIR,R−DCR2L及びR−DCR2
Rによって形成されたワード線選択信号がそれぞれ供給
されることによって選択される。この場合、ロウアドレ
スデコーダR−DCRI LとR−DCRI Rとが適
当な構成にされることによって、対とされるメモリアレ
イMILとMIRのうちのメモリアレイMILの1本の
ワード線が選択される時にはメモリアレイMIRのワー
ド線は全て非選択状態にされ、逆にメモリアレイMIR
の1本のワード線が選択される時にはメモリアレイMI
Lのワード線は全て非選択状態にされる。同様にロウア
ドレスデコーダR−DCR2LとR−DCR2Rが適当
な構成にされることによって、他の対とされるメモリア
レイM2LとM2Rのワード線も択一的に選択される。
2Rのワード線は、ロウアドレスデコーダR−DCRI
L、R−DCRIR,R−DCR2L及びR−DCR2
Rによって形成されたワード線選択信号がそれぞれ供給
されることによって選択される。この場合、ロウアドレ
スデコーダR−DCRI LとR−DCRI Rとが適
当な構成にされることによって、対とされるメモリアレ
イMILとMIRのうちのメモリアレイMILの1本の
ワード線が選択される時にはメモリアレイMIRのワー
ド線は全て非選択状態にされ、逆にメモリアレイMIR
の1本のワード線が選択される時にはメモリアレイMI
Lのワード線は全て非選択状態にされる。同様にロウア
ドレスデコーダR−DCR2LとR−DCR2Rが適当
な構成にされることによって、他の対とされるメモリア
レイM2LとM2Rのワード線も択一的に選択される。
カラムアドレスデコーダC−DCR1は、カラム系タイ
ミング発生回路C−TGから出力されるデータ線選択タ
イミング信号もしくはカラム選択タイミング信号φyに
よってその動作が制御され、そのタイミング信号に同期
してデータ線選択信号もしくはカラム選択信号を出力す
る。特に制限されないが、カラムアドレスデコーダC−
DCR1は、図示のようにメモリアレイの右側に配置さ
れている。カラムアドレスデコーダC−DCR1の図示
しない出力線すなわちデータ線選択線は、メモリアレイ
上に延長されてカラムスイッチ回路CWIL及びCWI
Rに結合されている。カラムアドレスデコーダC−DC
R1は、それ自体本発明に直接関係が無いのでその詳細
を図示しないが、各データ線選択線にそれぞれ出力を与
える複数の単位回路から成る。
ミング発生回路C−TGから出力されるデータ線選択タ
イミング信号もしくはカラム選択タイミング信号φyに
よってその動作が制御され、そのタイミング信号に同期
してデータ線選択信号もしくはカラム選択信号を出力す
る。特に制限されないが、カラムアドレスデコーダC−
DCR1は、図示のようにメモリアレイの右側に配置さ
れている。カラムアドレスデコーダC−DCR1の図示
しない出力線すなわちデータ線選択線は、メモリアレイ
上に延長されてカラムスイッチ回路CWIL及びCWI
Rに結合されている。カラムアドレスデコーダC−DC
R1は、それ自体本発明に直接関係が無いのでその詳細
を図示しないが、各データ線選択線にそれぞれ出力を与
える複数の単位回路から成る。
カラムスイッチ回路CWIL及びC,W I Rは、メ
モリアレイMIL及びMIRに対応されて設けられた共
通データ線とセンスアンプSAI、の入出力端子との間
、及びメモリアレイM2L及びM2Rに対応されて設け
られた共通データ線と、センスアンプSA2の入出力端
子との間にそれぞれ設けられ、それぞれカラムアドレス
デコーダC−DCRIによって形成されたデータ線選択
信号が共通に供給される。すなわち、上記カラムスイッ
チ回路CWILとCWIRは、上記カラムアドレスデコ
ーダC−DCR1によって形成された選択信号を受けて
上記センスアンプSAIとSA2の入出力端子と図示し
ないが縦方向に走る共通データ線とをそれぞれ結合させ
る。
モリアレイMIL及びMIRに対応されて設けられた共
通データ線とセンスアンプSAI、の入出力端子との間
、及びメモリアレイM2L及びM2Rに対応されて設け
られた共通データ線と、センスアンプSA2の入出力端
子との間にそれぞれ設けられ、それぞれカラムアドレス
デコーダC−DCRIによって形成されたデータ線選択
信号が共通に供給される。すなわち、上記カラムスイッ
チ回路CWILとCWIRは、上記カラムアドレスデコ
ーダC−DCR1によって形成された選択信号を受けて
上記センスアンプSAIとSA2の入出力端子と図示し
ないが縦方向に走る共通データ線とをそれぞれ結合させ
る。
ここで、カラムアドレスデコーダC−DCR1を構成す
る単位回路は、それが半導体集積回路技術に従って半4
体基板上に形成されたとき、比較的大きいピンチを持つ
ようになる。この実施例に従うと、カラムスイッチ回路
CWIL、CWIRのそれぞれは、特に制限されないが
、上記カラムアドレスデコーダ回路C−DCRlを構成
する単位回路の実現可能なピッチを考慮して1つのデー
タ線選択信号に応じて互いに隣接する2対の相補データ
線を2対の相補共通データ線にそれぞれ同時に結合させ
るように構成される。これにより、カラムアドレスデコ
ーダC−DCR1の各単位回路は、そのピッチが合計4
本のデータ線からなるピッチと一致させられる。この構
成の場合、合計で4ビツトの信号、すなわち、メモリア
レイM1■7又はMIRの2ビット信号とM2L又はM
2Rの2ビット信号が、カラムアドレスデコーダC−D
CR1とカラムスイッチ回路CWIL及びCWIRから
なるカラム選択回路によって同時に選択される。特に制
限されないが、この実施例に従うと、合計4ビツトの信
号の中から1ビツトの信号の選択を行うため、メモリア
レイMtL及びMIRに対応された2対の共通データ線
及びメモリアレイM2L及びM2Rに対応された2対の
共通データ線と、データ入カバフファDIBの出力端子
及びデータ出力バッフプDOBの入力端子との間に第2
のカラムスイッチ回路CW 2 I、及びCW2Rが設
けられている。、:れらの第2のカラムスイッチ回路C
W2LとCW2Rは、それぞれの動作が第2のカラムア
ドレスデコーダ回路DCR2によって形成される選択信
号によって制御される。
る単位回路は、それが半導体集積回路技術に従って半4
体基板上に形成されたとき、比較的大きいピンチを持つ
ようになる。この実施例に従うと、カラムスイッチ回路
CWIL、CWIRのそれぞれは、特に制限されないが
、上記カラムアドレスデコーダ回路C−DCRlを構成
する単位回路の実現可能なピッチを考慮して1つのデー
タ線選択信号に応じて互いに隣接する2対の相補データ
線を2対の相補共通データ線にそれぞれ同時に結合させ
るように構成される。これにより、カラムアドレスデコ
ーダC−DCR1の各単位回路は、そのピッチが合計4
本のデータ線からなるピッチと一致させられる。この構
成の場合、合計で4ビツトの信号、すなわち、メモリア
レイM1■7又はMIRの2ビット信号とM2L又はM
2Rの2ビット信号が、カラムアドレスデコーダC−D
CR1とカラムスイッチ回路CWIL及びCWIRから
なるカラム選択回路によって同時に選択される。特に制
限されないが、この実施例に従うと、合計4ビツトの信
号の中から1ビツトの信号の選択を行うため、メモリア
レイMtL及びMIRに対応された2対の共通データ線
及びメモリアレイM2L及びM2Rに対応された2対の
共通データ線と、データ入カバフファDIBの出力端子
及びデータ出力バッフプDOBの入力端子との間に第2
のカラムスイッチ回路CW 2 I、及びCW2Rが設
けられている。、:れらの第2のカラムスイッチ回路C
W2LとCW2Rは、それぞれの動作が第2のカラムア
ドレスデコーダ回路DCR2によって形成される選択信
号によって制御される。
なお、上記のように4ビツトの単位でメモリアレイから
の読み出し、書き込みを行う構成にすると、4ビット単
位のデータアクセス又はニブルモードでのデータの入出
力を行うような機能への変更は、主に第20カラムスイ
ツチ回路と上記入出力回路部分の構成の変更によって比
較的簡単に可能になる。
の読み出し、書き込みを行う構成にすると、4ビット単
位のデータアクセス又はニブルモードでのデータの入出
力を行うような機能への変更は、主に第20カラムスイ
ツチ回路と上記入出力回路部分の構成の変更によって比
較的簡単に可能になる。
上記データ人力バッファDIBは、その動作がタイミン
グ発生回路C−TGから発生される書き込みタイミング
信号φWによって制御され、外部端子Dlnから供給さ
れた書き込み信号に対応された書き込み信号を形成して
、それを上記第2のカラムスイッチ回路CW2L又はC
W2Rに供給する。データ入カバソファDIBは、それ
が非動作状態に置かれているとき、高出力インピーダン
ス特性を示す。
グ発生回路C−TGから発生される書き込みタイミング
信号φWによって制御され、外部端子Dlnから供給さ
れた書き込み信号に対応された書き込み信号を形成して
、それを上記第2のカラムスイッチ回路CW2L又はC
W2Rに供給する。データ入カバソファDIBは、それ
が非動作状態に置かれているとき、高出力インピーダン
ス特性を示す。
データ出カバソファDOBは、同様にその動作がタイミ
ング発生回路C−TGから発生される読み出しタイミン
グ信号φrによって制御され、上記第2のカラムスイッ
チ回路CW2L又はCW2Rを通して出力された読み出
し信号を受けて、これを増幅して外部端子Doutへ送
出する。
ング発生回路C−TGから発生される読み出しタイミン
グ信号φrによって制御され、上記第2のカラムスイッ
チ回路CW2L又はCW2Rを通して出力された読み出
し信号を受けて、これを増幅して外部端子Doutへ送
出する。
情報の読み出し/書き込み動作を制御するだめのタイミ
ング発生回路C−TOは、外部端子から供給されるカラ
ムアドレスストローブ(f%c:As及びライトイネー
ブル信号WEを受けることによってカラム系及び上記種
々のタイミング信号を形成する。また、タイミング発生
回路R−’i’ Gは、外部端子から供給されるロウア
ドレスストローブ信号RAS4受けることによって、ロ
ウ系の各種タイミング信号を形成する。この実施例に従
)と、ロウ系アドレス信号に応じて、スイッチ回路5W
ILないし5WIRの動作タイミングsh、slを変化
させることが必要とされる。それ故にタイミング発生回
路R−TGは、アドレスバッファADBから出力される
ロウ系の内部相補アドレス信号の一部を受けるようにさ
れる。
ング発生回路C−TOは、外部端子から供給されるカラ
ムアドレスストローブ(f%c:As及びライトイネー
ブル信号WEを受けることによってカラム系及び上記種
々のタイミング信号を形成する。また、タイミング発生
回路R−’i’ Gは、外部端子から供給されるロウア
ドレスストローブ信号RAS4受けることによって、ロ
ウ系の各種タイミング信号を形成する。この実施例に従
)と、ロウ系アドレス信号に応じて、スイッチ回路5W
ILないし5WIRの動作タイミングsh、slを変化
させることが必要とされる。それ故にタイミング発生回
路R−TGは、アドレスバッファADBから出力される
ロウ系の内部相補アドレス信号の一部を受けるようにさ
れる。
上記各メモリアレイMILないしM−2Rにおける欠陥
を救済するため、これらのメモリアレイM−ILないし
M2R2に対してそれぞれX系の予備メモリアレイMX
ILないしMX2Rと、Y系の予備メモリアレイMYI
LないしMY2Rがそれぞれ設けられる。これらのX系
の予備メモリアレイMXILないしMX2Rと、Y系の
予備メモリアレイMYILないしMY2Rへの切り喚え
を行うため、不良ビットアドレスを記憶するアドレス記
憶回路と、この不良アドレス信号と、アクセスのために
アドレスバッファR−ADB及びC−ADBから供給さ
れたアドレス信号とを比較して記憶された不良アドレス
が入力されたことを検出するアドレス比較回路とからな
る冗長回路R−AC及びC−ACが設けられる。これら
の冗長回路R−AC及びC−ACは、不良アドレスに対
するメモリアクセスを検出して、対応されたアドレスデ
コーダR−DCTILないしR−DCR2R及びC−D
CRlの選択動作を禁止させる信号を形成するとともに
、上記予備メモリアレイMXIしないしMX2R及びM
YILないしMY2Rを上記不良ビットのアレイに切り
換えて選択動作を行わせる。特に制限されないが、この
実施例では、高速動作化のために、言い換えるならば、
アドレスバッファの出力負荷容量を減らすとともに、冗
長回路に供給されるアドレス信号の伝達速度を早くする
ために、上記冗長回路R−ACは、ロウアドレスバッフ
ァR−ADBとその出力駆動回路R−DRYとの間に配
置される。同様に、冗長回路C−ACは、カラムアドレ
スバッファC−ADBとその出力駆動回路C−DRVと
の間に配置される。
を救済するため、これらのメモリアレイM−ILないし
M2R2に対してそれぞれX系の予備メモリアレイMX
ILないしMX2Rと、Y系の予備メモリアレイMYI
LないしMY2Rがそれぞれ設けられる。これらのX系
の予備メモリアレイMXILないしMX2Rと、Y系の
予備メモリアレイMYILないしMY2Rへの切り喚え
を行うため、不良ビットアドレスを記憶するアドレス記
憶回路と、この不良アドレス信号と、アクセスのために
アドレスバッファR−ADB及びC−ADBから供給さ
れたアドレス信号とを比較して記憶された不良アドレス
が入力されたことを検出するアドレス比較回路とからな
る冗長回路R−AC及びC−ACが設けられる。これら
の冗長回路R−AC及びC−ACは、不良アドレスに対
するメモリアクセスを検出して、対応されたアドレスデ
コーダR−DCTILないしR−DCR2R及びC−D
CRlの選択動作を禁止させる信号を形成するとともに
、上記予備メモリアレイMXIしないしMX2R及びM
YILないしMY2Rを上記不良ビットのアレイに切り
換えて選択動作を行わせる。特に制限されないが、この
実施例では、高速動作化のために、言い換えるならば、
アドレスバッファの出力負荷容量を減らすとともに、冗
長回路に供給されるアドレス信号の伝達速度を早くする
ために、上記冗長回路R−ACは、ロウアドレスバッフ
ァR−ADBとその出力駆動回路R−DRYとの間に配
置される。同様に、冗長回路C−ACは、カラムアドレ
スバッファC−ADBとその出力駆動回路C−DRVと
の間に配置される。
また、特に制限されないが、上記冗長回路R−AC及び
C−ACに含まれる不良アドレスの記憶回路は、ポリシ
リコン層を利用したヒユーズ手段を用いた記憶回路から
構成される。このため、ヒユーズ手段の選択的な切断(
溶断)のために、上記アドレスバッファR−ADB及び
C−ADBを通したアドレス信号がそれぞれ利用される
。
C−ACに含まれる不良アドレスの記憶回路は、ポリシ
リコン層を利用したヒユーズ手段を用いた記憶回路から
構成される。このため、ヒユーズ手段の選択的な切断(
溶断)のために、上記アドレスバッファR−ADB及び
C−ADBを通したアドレス信号がそれぞれ利用される
。
第2図には、上記冗、長回斃R−AC<又はC−AC)
を構成するイネ−モル回髭及び単位回路の具体的一実施
例の回F!E図が示されている。
を構成するイネ−モル回髭及び単位回路の具体的一実施
例の回F!E図が示されている。
上記1つの冗長回路は、アドレス信号のビット数に応じ
た数だけの不良アドレスの記憶回路及びアドレス比較回
路からなる単位回路U A COと、1つのイネーブル
回路とにより構成される。
た数だけの不良アドレスの記憶回路及びアドレス比較回
路からなる単位回路U A COと、1つのイネーブル
回路とにより構成される。
i子P1〜P4は、不良アドレスを書込むためのプログ
ラム用電圧供給端子であり、所定の不良アドレスを書込
むときに、端子PL、P3には電源電圧Vccが与えら
れ、端子P2.P4には回路の接地電位が与えられる。
ラム用電圧供給端子であり、所定の不良アドレスを書込
むときに、端子PL、P3には電源電圧Vccが与えら
れ、端子P2.P4には回路の接地電位が与えられる。
上記イネーブル回路は、次の各回路素子により構成され
る。負荷MO3FETQ1.!:駆動MO3FETQ2
とはインバータを構成し、負荷MO3FETQ1のドレ
イン、ゲートは、端子P3に接続される。このインバー
タの出力は、ヒユーズF1を切断させる駆動MO3FE
TQ3のゲートに接続される。このMO3FETQ3の
ドレインと端子P1との間にヒユーズF1が設けられ、
そのソースは端子P2に接続される。また、上記MO3
FETQ2のゲートは、端子P4に接続される。
る。負荷MO3FETQ1.!:駆動MO3FETQ2
とはインバータを構成し、負荷MO3FETQ1のドレ
イン、ゲートは、端子P3に接続される。このインバー
タの出力は、ヒユーズF1を切断させる駆動MO3FE
TQ3のゲートに接続される。このMO3FETQ3の
ドレインと端子P1との間にヒユーズF1が設けられ、
そのソースは端子P2に接続される。また、上記MO3
FETQ2のゲートは、端子P4に接続される。
上記端子P4と電源電圧Vccの間には抵抗R2が設け
られている。上記ヒユーズF1は、特に制限されないが
、ポリシリコンによって構成されている。所定の不良ア
ドレスを書込むときに、端子P1、P3には電源電圧V
ccが与えられ、端子P2゜P4には回路の接地電位が
与えられる。この結果、上記インバータの出力はハイレ
ベルとなり、駆動MO3FETQ3がオン状態にされる
ため、ヒユーズF1が自動的に切断される。
られている。上記ヒユーズF1は、特に制限されないが
、ポリシリコンによって構成されている。所定の不良ア
ドレスを書込むときに、端子P1、P3には電源電圧V
ccが与えられ、端子P2゜P4には回路の接地電位が
与えられる。この結果、上記インバータの出力はハイレ
ベルとなり、駆動MO3FETQ3がオン状態にされる
ため、ヒユーズF1が自動的に切断される。
このヒユーズF1が溶断しているか否かを判別するため
に、次のCMOSインバータ及びラッチ回路が設けられ
ている。
に、次のCMOSインバータ及びラッチ回路が設けられ
ている。
CMOSナントゲート回路G1と02の出力と一方の入
力とが互いに交差結線されることによりラッチ回路が構
成される。
力とが互いに交差結線されることによりラッチ回路が構
成される。
上記MO3FETQ3ドレイン出力は、CMOSインバ
ータ回路N1人力と上記ラッチ回路を構成する一方のナ
ントゲート回路G2の他方の入力に供給される。上記C
MOSインバータ回路N1の出力は、上記ラッチ回路を
構成する他方のナントゲート回路G1の他方の入力と上
記駆動MO3FETQ3に並列形態とされた帰還用のM
OSFETQ4のゲートに伝えられる。上記他方のナン
トゲート回路G2の出力は、CMOSインバータ回路N
2の入力に供給される。このCMOSインバータ回路N
2の出力からイネーブル信号φkが出力される。
ータ回路N1人力と上記ラッチ回路を構成する一方のナ
ントゲート回路G2の他方の入力に供給される。上記C
MOSインバータ回路N1の出力は、上記ラッチ回路を
構成する他方のナントゲート回路G1の他方の入力と上
記駆動MO3FETQ3に並列形態とされた帰還用のM
OSFETQ4のゲートに伝えられる。上記他方のナン
トゲート回路G2の出力は、CMOSインバータ回路N
2の入力に供給される。このCMOSインバータ回路N
2の出力からイネーブル信号φkが出力される。
不良アドレスの単位回路UACOは、次の各回路素子に
よって構成される。
よって構成される。
不良アドレスの記憶回路は、上記イネーブル回路と同様
なMOSFETQ5ないしQ9及びヒユーズF2と、C
MOSインバータ回路N3及びラッチ形態のCMOSナ
ントゲート回路03.G4から構成される。不良アドレ
スの書込みのために、アドレスバッファR−ADB (
又はC−ADB)から送出される非反転のアドレス信号
aOは、インバータを構成する駆動MO3FF、TQ6
と並列形態とされたMO3FETQ7のゲートに供給さ
れる。所定の不良アドレスを書込むときに、上記のよう
に端子PL、P3には電源電圧vCCが与えられ、端子
P2.P4には回路の接地電位が与えられている。書込
むべぎ不良アドレス信号30がハイレベルならMO3F
ETQ7はオン状態にされる。これにより、ヒユーズF
2に結合された駆動MO3FETQ8がオフ状態にされ
るため、ヒユーズF2に切断電流が流れないことより、
ヒユーズF2の切断が行われない。上記不良アドレス信
号aOがロウレベルならMO3FETQ7はオフ状態に
される。これにより、ヒユーズF2に結合された駆動M
O3FETQ8がオン状態にされるため、ヒユーズF2
に切断電流が流れることになり、ヒューブF2の切断が
行われる。
なMOSFETQ5ないしQ9及びヒユーズF2と、C
MOSインバータ回路N3及びラッチ形態のCMOSナ
ントゲート回路03.G4から構成される。不良アドレ
スの書込みのために、アドレスバッファR−ADB (
又はC−ADB)から送出される非反転のアドレス信号
aOは、インバータを構成する駆動MO3FF、TQ6
と並列形態とされたMO3FETQ7のゲートに供給さ
れる。所定の不良アドレスを書込むときに、上記のよう
に端子PL、P3には電源電圧vCCが与えられ、端子
P2.P4には回路の接地電位が与えられている。書込
むべぎ不良アドレス信号30がハイレベルならMO3F
ETQ7はオン状態にされる。これにより、ヒユーズF
2に結合された駆動MO3FETQ8がオフ状態にされ
るため、ヒユーズF2に切断電流が流れないことより、
ヒユーズF2の切断が行われない。上記不良アドレス信
号aOがロウレベルならMO3FETQ7はオフ状態に
される。これにより、ヒユーズF2に結合された駆動M
O3FETQ8がオン状態にされるため、ヒユーズF2
に切断電流が流れることになり、ヒューブF2の切断が
行われる。
上記ヒユーズF2が切断されているか否かを判別するた
めに、上記同様なCMOSインバータ回路N3とその帰
還用MO3FETQ9及びラッチ形態にされたナントゲ
ート回路G3.G4が設けられている。
めに、上記同様なCMOSインバータ回路N3とその帰
還用MO3FETQ9及びラッチ形態にされたナントゲ
ート回路G3.G4が設けられている。
上記不良アドレスに対応された1ビット分のアドレス比
較回路は、直列形態とされたPチャンネルMOSFET
QI O,Ql 1とNチャンネルMO3FETQ12
.G13及びPチャンネルMO3FETQ14.G15
とNチャンネルM OS FETQI 6.Ql 7と
、CMOSインバータ回路N4とにより構成される。上
記2つの直列MO3FET回路におけるMO3FETQ
I 1とQl2の接続点及びMO3FETQ15とQl
6の接続点は、共通接続されて出力端子c、0とされる
。
較回路は、直列形態とされたPチャンネルMOSFET
QI O,Ql 1とNチャンネルMO3FETQ12
.G13及びPチャンネルMO3FETQ14.G15
とNチャンネルM OS FETQI 6.Ql 7と
、CMOSインバータ回路N4とにより構成される。上
記2つの直列MO3FET回路におけるMO3FETQ
I 1とQl2の接続点及びMO3FETQ15とQl
6の接続点は、共通接続されて出力端子c、0とされる
。
アドレスバッファR−ADB (又はC−ADB)から
出力される非反転のアドレス信号aOは、一方の直列M
O3FET回路におけるMO3FETQII、Ql2の
ゲートに供給される。これと対応された他方の直列MO
S F ET回路におけるMO3FETQI 5.Ql
6のゲートには、インバータ回路N4により反転され
たアドレス信号τ0が供給される。
出力される非反転のアドレス信号aOは、一方の直列M
O3FET回路におけるMO3FETQII、Ql2の
ゲートに供給される。これと対応された他方の直列MO
S F ET回路におけるMO3FETQI 5.Ql
6のゲートには、インバータ回路N4により反転され
たアドレス信号τ0が供給される。
ヒユーズF2の切断の有無に従った不良アドレス信号a
Q l とτ0°は上記2つの直列MO3FET回路ニ
オける残り(7)MO3FETQIOとQl7及びQl
3とQl4のように、PチャンネルMOS F ETと
NチャンネルMOS F ETに対して交差的に供給さ
れる。
Q l とτ0°は上記2つの直列MO3FET回路ニ
オける残り(7)MO3FETQIOとQl7及びQl
3とQl4のように、PチャンネルMOS F ETと
NチャンネルMOS F ETに対して交差的に供給さ
れる。
上記同様な単位回路UACOが残りのアドレス信号a1
〜aiに対しても同様に設けられる。
〜aiに対しても同様に設けられる。
今、不良アドレスとして、アドレス信号aOをハイレベ
ルとして(論理“1”)を記憶させた場合、言い換える
ならば、ヒユーズF2が切断されていない場合、CMO
Sラッチ回路を構成するナントゲート回路G3の出力a
O”はハイレベル。
ルとして(論理“1”)を記憶させた場合、言い換える
ならば、ヒユーズF2が切断されていない場合、CMO
Sラッチ回路を構成するナントゲート回路G3の出力a
O”はハイレベル。
ナントゲート回路G4の出力TQl はロウレベルにな
る。したがって、NチャンネルMOS F ETQI7
とPチャンネルMO3FETQI 4とがオン状態にな
っている。
る。したがって、NチャンネルMOS F ETQI7
とPチャンネルMO3FETQI 4とがオン状態にな
っている。
メモリアクセスにより入力されたアドレス信号aoがロ
ウレベルならPチャンネルMOS F ETQIOがオ
ン状態に、インバータ回路N4で反転されたアドレス信
号τOのハイレベルによりNチャンネルMO3F;ET
QI 6がオン状態にされる。
ウレベルならPチャンネルMOS F ETQIOがオ
ン状態に、インバータ回路N4で反転されたアドレス信
号τOのハイレベルによりNチャンネルMO3F;ET
QI 6がオン状態にされる。
このように、両アドレス信号が不一致のときには、上記
オン状態のNチャンネルMO3FETQI 6゜Ql7
とによりロウレベル(論理“0”)の出力信号COが送
出される。
オン状態のNチャンネルMO3FETQI 6゜Ql7
とによりロウレベル(論理“0”)の出力信号COが送
出される。
メモリアクセスにより入力されたアドレス信号aOがハ
イレベルならNチャンネルMO3FETQ12がオン状
態に、インバータ回路N4で反転されたアドレス信号T
OOロウレベルによりPチャンネルMOSFETQI
5がオン状態にされる。
イレベルならNチャンネルMO3FETQ12がオン状
態に、インバータ回路N4で反転されたアドレス信号T
OOロウレベルによりPチャンネルMOSFETQI
5がオン状態にされる。
このように、両アドレス信号が一致のときには、上記オ
ン状態のPチャンネルMO3FETQI 4゜Ql5と
によりハイレベル(論理“l”)の出力信号COが送出
される。残りのアドレス信号a1〜anに対応した上記
回路から出力信号01〜Cnが送出される。
ン状態のPチャンネルMO3FETQI 4゜Ql5と
によりハイレベル(論理“l”)の出力信号COが送出
される。残りのアドレス信号a1〜anに対応した上記
回路から出力信号01〜Cnが送出される。
アドレス信号の全ビットについて、上記ハイレベル(論
理“1”)の一致出力信号CO〜cnと、イネーブル信
号φにの論理“1”とが得られたとき、論理和回路G5
の出力により、不良アドレスの検出が行われ、例えば図
示しない予備ワード線WL’ (又は予備データ線)
の選択信号が形成される。なお、イネーブル信号φには
、不良メモリセルの選択を禁止するため、第1図に示し
たロウデコーダR−DCRILないしR−DCR2R又
はカラムデコーダC−DCR1に供給されるワード線選
択タイミング信号φX又はデータ線選択タイミング信号
φyの伝達を禁止する。また、イネーブル信号φには、
その論理“0”出力により上記冗長メモリアレイへの切
り換えを禁止する。
理“1”)の一致出力信号CO〜cnと、イネーブル信
号φにの論理“1”とが得られたとき、論理和回路G5
の出力により、不良アドレスの検出が行われ、例えば図
示しない予備ワード線WL’ (又は予備データ線)
の選択信号が形成される。なお、イネーブル信号φには
、不良メモリセルの選択を禁止するため、第1図に示し
たロウデコーダR−DCRILないしR−DCR2R又
はカラムデコーダC−DCR1に供給されるワード線選
択タイミング信号φX又はデータ線選択タイミング信号
φyの伝達を禁止する。また、イネーブル信号φには、
その論理“0”出力により上記冗長メモリアレイへの切
り換えを禁止する。
上記した実施例から得られる作用効果は、下記の通りで
ある。すなわち、 (1)記憶回路及びアドレス比較回路からなる冗長回路
を対応するアドレスバッファに隣接して配置することよ
り、アドレスバッファと記憶回路及び/又はアドレス比
較回路の間の信号線が最短距離を持って構成できる。こ
れにより、上記信号線の寄生容量を最小にできるからア
ドレスバッファから見た出力負荷容量が軽減されるため
、その動作の高速化が可能となるという効果が得られる
。
ある。すなわち、 (1)記憶回路及びアドレス比較回路からなる冗長回路
を対応するアドレスバッファに隣接して配置することよ
り、アドレスバッファと記憶回路及び/又はアドレス比
較回路の間の信号線が最短距離を持って構成できる。こ
れにより、上記信号線の寄生容量を最小にできるからア
ドレスバッファから見た出力負荷容量が軽減されるため
、その動作の高速化が可能となるという効果が得られる
。
(2)上記(1)により、アドレスバッファからアドレ
ス比較回路に供給されるアドレス信号の伝達が速くでき
るため、不良アドレスヘのアクセスか否かを早いタイミ
ングで識別できる。これによって、デコーダ回路の動作
をより早いタイミングで行うことができるから、メモリ
アクセスの高速化を図ることができるという効果が得ら
れる。
ス比較回路に供給されるアドレス信号の伝達が速くでき
るため、不良アドレスヘのアクセスか否かを早いタイミ
ングで識別できる。これによって、デコーダ回路の動作
をより早いタイミングで行うことができるから、メモリ
アクセスの高速化を図ることができるという効果が得ら
れる。
(3)上記(1)及び(2)の効果が相乗的に作用して
、冗長回路を持つダイナミック型RAMの高速化を実現
できるという効果が得られる。
、冗長回路を持つダイナミック型RAMの高速化を実現
できるという効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、不良アドレス
の記憶回路とアドレス比較回路からなる冗長回路は、ア
ドレスバッファに隣接して配置するものであれば何であ
ってもよい。例えば、アドレスバッファの単位回路とそ
れに対応した冗長回路の単位回路とを、第1図において
互いに左右に隣接して配置するもの、あるいは出力駆動
回路の上部に冗長回路を配置するもの等種々の実施形態
を採ることができる。また、不良アドレスの記憶回路は
、所定の配線をレーザー光線を利用して選択的に切断す
るもの等何であってもよい。この場合には、アドレスバ
ッファから記憶回路にアドレス信号を供給する必要が無
くなるが、アドレス比較回路には、上記記憶された不良
アドレス信号と、メモリアクセスによりアドレスバッフ
ァ通して供給されるアドレス信号とを比較するアドレス
比較回路が設けられるものであるので、この比較回路の
入力容量や配線容量が上記アドレスバッファに対する負
荷容量とされる。
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、不良アドレス
の記憶回路とアドレス比較回路からなる冗長回路は、ア
ドレスバッファに隣接して配置するものであれば何であ
ってもよい。例えば、アドレスバッファの単位回路とそ
れに対応した冗長回路の単位回路とを、第1図において
互いに左右に隣接して配置するもの、あるいは出力駆動
回路の上部に冗長回路を配置するもの等種々の実施形態
を採ることができる。また、不良アドレスの記憶回路は
、所定の配線をレーザー光線を利用して選択的に切断す
るもの等何であってもよい。この場合には、アドレスバ
ッファから記憶回路にアドレス信号を供給する必要が無
くなるが、アドレス比較回路には、上記記憶された不良
アドレス信号と、メモリアクセスによりアドレスバッフ
ァ通して供給されるアドレス信号とを比較するアドレス
比較回路が設けられるものであるので、この比較回路の
入力容量や配線容量が上記アドレスバッファに対する負
荷容量とされる。
このため、上記両者を隣接して配置することにより、そ
の配線容量の低減及び信号伝達速度を速くできる。また
、不良アドレスの記憶回路及びアドレス比較回路は、上
記CMO3回路の他、Nチャンネ71.MOSFET(
又はPチャンネル間O3FET)のみによって構成され
るものであってもよい。
の配線容量の低減及び信号伝達速度を速くできる。また
、不良アドレスの記憶回路及びアドレス比較回路は、上
記CMO3回路の他、Nチャンネ71.MOSFET(
又はPチャンネル間O3FET)のみによって構成され
るものであってもよい。
ダイナミック型RAMの各回路ブロックの具体的回路構
成は、種々の実施形態を採ることができるものである。
成は、種々の実施形態を採ることができるものである。
例えば、外部端子から供給するアドレス信号は、それぞ
れ独立した外部端子がらロウアドレス信号とカラムアド
レス信号とを同時に供給するものとてもよい。メモリア
レイの構成は、例えば、1Mビットのような大記憶容量
化を図る場合、第1図において、カラムデコーダを中、
心にし右側にも同様なメモリアレイ及びロウアドレス選
択回路を設けるもの、あるいはロウデコーダを中心して
下側にも同様なメモリアレイを設けるもの等種々の実施
形態を採ることができる。
れ独立した外部端子がらロウアドレス信号とカラムアド
レス信号とを同時に供給するものとてもよい。メモリア
レイの構成は、例えば、1Mビットのような大記憶容量
化を図る場合、第1図において、カラムデコーダを中、
心にし右側にも同様なメモリアレイ及びロウアドレス選
択回路を設けるもの、あるいはロウデコーダを中心して
下側にも同様なメモリアレイを設けるもの等種々の実施
形態を採ることができる。
以上本発明者によってなされた発明をその背景となった
利用分野であるダイナミック型RAMに適用した場合に
ついて説明したが、それに限定されるものではなく、例
えば上記のような欠陥救済方式を採用することを条件と
してスタティック型RAMや各種ROM (リード・オ
ンリー・メモリ)等の半導体記憶装置にも同様に利用す
ることができる。
利用分野であるダイナミック型RAMに適用した場合に
ついて説明したが、それに限定されるものではなく、例
えば上記のような欠陥救済方式を採用することを条件と
してスタティック型RAMや各種ROM (リード・オ
ンリー・メモリ)等の半導体記憶装置にも同様に利用す
ることができる。
本願において開示される発明のうちの代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、アドレスバッファと冗長回路とを隣接し
て配置することによって、その間を接続する配線を短く
できる。これによって、アドレスバッファの負荷容量が
軽減され、その動作速度が速くでき、冗長回路に高速に
アドレス信号が伝えられるから、不良アドレスヘのアク
セスを早いタイミングで検出できる。これによって、メ
モリアクセスの高速化を図ることができるという効果が
得られる。
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、アドレスバッファと冗長回路とを隣接し
て配置することによって、その間を接続する配線を短く
できる。これによって、アドレスバッファの負荷容量が
軽減され、その動作速度が速くでき、冗長回路に高速に
アドレス信号が伝えられるから、不良アドレスヘのアク
セスを早いタイミングで検出できる。これによって、メ
モリアクセスの高速化を図ることができるという効果が
得られる。
第1図は、この発明に係るダイナミック型RAMの一実
施例を示す内部構成ブロック図、第2図は、その冗長回
路を構成する単位回路の一実施例を示す回路図である。 M−IL〜M2R・・メモリアレイ、MX−L〜MX2
R・・ロウ系予備メモリアレイ、MY−L−MY2R・
・カラム系予備メモリアレイ、SA1.SA2・・セン
スアンプ、R−ADB・・ロウアドレスバッファ、C−
3WIL、C−3WIR,C−CW2L、C−3W2R
・・カラムスイッチ、SWI L−3W2R・・スイッ
チ回路、C−ADB・・カラムアドレスバッファ、R−
DCR−L−R−DCR2R・・ロウデコーダ、C−D
CRI、CDCR2・・カラムデコーダ、R−TG・・
ロウ系タイミング発生回路、C−TG・・カラム系タイ
ミング発生回路、R−AC・・ロウ系冗長回路、C−A
C・・カラム系冗長回路、DIB・・データ人カバソフ
ァ、DOB・・データ出力バソファ
施例を示す内部構成ブロック図、第2図は、その冗長回
路を構成する単位回路の一実施例を示す回路図である。 M−IL〜M2R・・メモリアレイ、MX−L〜MX2
R・・ロウ系予備メモリアレイ、MY−L−MY2R・
・カラム系予備メモリアレイ、SA1.SA2・・セン
スアンプ、R−ADB・・ロウアドレスバッファ、C−
3WIL、C−3WIR,C−CW2L、C−3W2R
・・カラムスイッチ、SWI L−3W2R・・スイッ
チ回路、C−ADB・・カラムアドレスバッファ、R−
DCR−L−R−DCR2R・・ロウデコーダ、C−D
CRI、CDCR2・・カラムデコーダ、R−TG・・
ロウ系タイミング発生回路、C−TG・・カラム系タイ
ミング発生回路、R−AC・・ロウ系冗長回路、C−A
C・・カラム系冗長回路、DIB・・データ人カバソフ
ァ、DOB・・データ出力バソファ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アドレスバッファから供給される内部アドレス信号
と記憶回路によって記憶された不良アドレス信号とを受
けて不良アドレスヘのアクセスを検出して予備メモリア
レイに切り換える冗長回路を上記アドレスバッファに隣
接して配置することを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記冗長回路は、アドレスバッファとその駆動回路
との間に配置されるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3、上記記憶回路は、上記アドレスバッファから供給さ
れる内部アドレス信号に従ってその切断が選択的に行わ
れるヒューズ手段を含むのであることを特徴とする特許
請求の範囲第1又は第2項記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61025898A JPS62184700A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61025898A JPS62184700A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62184700A true JPS62184700A (ja) | 1987-08-13 |
Family
ID=12178608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61025898A Pending JPS62184700A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62184700A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5983358A (en) * | 1996-09-27 | 1999-11-09 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor memory having redundancy circuit |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57198593A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Hitachi Ltd | Memory circuit |
-
1986
- 1986-02-10 JP JP61025898A patent/JPS62184700A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57198593A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Hitachi Ltd | Memory circuit |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5983358A (en) * | 1996-09-27 | 1999-11-09 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor memory having redundancy circuit |
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