JPS62184414A - 半導体レ−ザ光学装置 - Google Patents

半導体レ−ザ光学装置

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JPS62184414A
JPS62184414A JP2734886A JP2734886A JPS62184414A JP S62184414 A JPS62184414 A JP S62184414A JP 2734886 A JP2734886 A JP 2734886A JP 2734886 A JP2734886 A JP 2734886A JP S62184414 A JPS62184414 A JP S62184414A
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JP
Japan
Prior art keywords
light beam
lens
semiconductor laser
pattern
phosphor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2734886A
Other languages
English (en)
Inventor
Noboru Arai
登 荒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2734886A priority Critical patent/JPS62184414A/ja
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  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の分野) 本発明は半導体レーザおよび半導体レーザから発せられ
た光ビームの光路上に設けられた光学素子からなる半導
体レーザ光学装置に関し、特に詳細には上記半導体レー
ザと光学素子との相対的な位置調整を容易に行なうこと
のできる手段を備えた半導体レーザ光学装置に関するも
のである。
(発明の技術的背景および先行技術) 周知のように、半導体レーザは、ガスレーザ等に比べて
小型、安価で消費電力も少なく、また駆動電流を変える
ことによって直接変調が可能である等の長所を有、して
いることから、各種走査記録装置、走査読取装置などの
光ビーム走査装置における光ビーム発生手段や通信用の
光源等として広く用いられている。
上記半導体レーザは、上記のように種々の目的のために
用いられるので、目的に応じて半導体レーザから発せら
れた光ビームの光路上に各種レンズやミラー等の光学素
子を設け、半導体レーザ光学装置として使用されること
が多い。このような半導体レーザ光学装置においては、
光ビームが各光学素子の所定の位置に入射するように、
半導体レーザと光学素子の位置を相対的に調整する必要
がある。しかしながら、半導体レーザから発せられる光
ビームの波長は一般に780nm以上と可視域外である
ため、光ビームの目視が不可能であり、上記調整が極め
て困難であるという問題が生じていた。
(発明の目的) 本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
り、半導体レーザと各光学素子の相対的な位置調整を容
易に行なうことのできる手段を備えた半導体レーザ光学
装置を提供することを目的とするものである。
(発明の構成) 本発明の半導体レーザ光学装置は、半導体レーザと、該
半導体レーザから発せられた光ビームの光路上に設けら
れた光学素子の間に、該光ビームにより可視発光する蛍
光体によって光ビームの位置調整用パターンが形成され
てなるマーキング部材が、前記光学素子と一体的に設け
られたことを特徴とするものである。
すなわち、本発明の装置によれば、光ビームそのものは
目視できなくても光ビームが入射することによりマーキ
ング部材の蛍光体が可視発光するので、蛍光体の発光パ
ターンに合わせて半導体レーザもしくは光学素子を移動
させれば半導体レーザと光学素子の相対的な位置の調整
を容易に行なうことができる。なお、位置調整用パター
ンとは、光ビームが所定の位置に入射しているのか、位
置ずれが生じているのかを、その時に発光する蛍光体の
発光形状により認mさせることが可能であって、位置ず
れが生じている場合にはどの方向に位置調整を行なえば
よいのかを確認することのできるパターンを意味するも
のである。また、マーキング部材が光学素子と一体的に
設けられているとは、少なくとも上記位置調整を行なう
際にマーキング部材と光学素子が一体化されていればよ
く、位置調整後にはマーキング部材を取り外してもよい
ものとする。
(実施態様) 以下、図面を参照して本発明の実施態様について説明す
る。
第1図は本発明の一実施態様による半導体レーザ光学装
置を示す斜視図である。
図示の装置において、光ビーム1を発する半導体レーザ
2はマウント3内に保持されて所定の位置に固定されて
いる。またマウント3内の半導体レーザ2と対向する位
置にはコリメータレンズ4が設けられており、半導体レ
ーザ2から射出されて発散する光ビーム1はコリメータ
レンズ4を通過することにより平行光となる。なお、こ
の光ビーム1の波長は780〜800 nmであり、可
視域外となっている。
上記光ビーム1の光路上には、鏡筒5Aに保持されたレ
ンズ5が支持台6に支持されて配置されている。前記光
ビーム1はこのレンズ5に入射してレンズ作用を受ける
が、レンズ5は、その光軸が光ビーム1の光路に沿うよ
うにする等光ビーム1がレンズ5の所定の位置に入射す
るように正確な位置に位置決めされる必要がある。そこ
でレンズ5を支持している支持台6は、支持台6が載置
されている平面上を移動可能となっているとともに、前
記鏡筒5Aには、光ビーム1により可視発光する蛍光体
によって光ビームの位置調整用パターン8が形成されて
なるレンズキャップ7が取り付けられている。すなわち
、前記位置調整用パターン8は光ビーム1が入射すべき
レンズ5の位置に対向する所定の位置に形成されており
、レンズキャップ7上に蛍光体が一例として同心円状に
塗布されて形成されている。第2図に示すように位置調
整用パターン8はその最外周が入射する光ビーム1のビ
ーム形状と略一致するようになっており、図中一点鎖線
で示す位置に光ビーム1が入射した際には、図中斜線で
示す部分のみが発光する。
この場合には外周部分の蛍光体が円形に可視発光してお
らず左側が欠けているので、光ビーム1が入射している
位置が正しい位置でないことがわかる。従って光ビーム
1に対して、蛍光体が可視発光してすべて円形に見える
ようになるまでレンズ5を支持している支持台6を図中
右方向に動かせば、光ビーム1が所定の位置に入射する
ようにレンズ5の位置決めを行なうことができる。また
レンズ5の光軸が光ビーム1の光路に対して角度を有し
ている場合には、光ビームの断面形状が変化する(例え
ば正円から楕円となる)ので、光ビームが位置調整用パ
ターン全体を覆うことができない。従って光ビームが位
置調整用パターンと重なり合うまで支持台6を回動させ
れば位置調整を行なうことができる。
このように本発明の光学装置によれば、光ビームそのも
のを視認することができなくても位置調整用パターンの
発光形状により、レンズ等の光学素子と半導体レーザの
相対的な位置を極めて容易に調整することができる。な
お、レンズキャップ7は位置調整終了後は鏡筒5Aから
外すようにすればよい。また第1図に矢印Bで示すよう
にレンズ5の支持台6を上下方向に移動可能とし、レン
ズ5の位置決めを上下方向にも行なうようにすることも
可能である。またレンズ等の光学素子の側を固定し、半
導体レーザ側を移動させて位置調整貴行なってもよい。
ざらに光学素子は1つに限られるものではなく、光ビー
ムの光路上に複数の光学素子を設け、半導体レーザに近
いものから順次位置決めを行なうようにすることもでき
る。
また、上記実施態様において、位置調整用パターンは複
数の同心円状となっているが、位置調整用パターンはこ
の他にもその発光形状によって光ビームの入射位置が正
しいか否かを判断することが可能であり、またどの方向
に光ビームを相対的に移動させれば正しい位置に至るか
を示すことのできる形状であれば種々のものが適用可能
である。
例えば第3図(a>、(b)のように光ビームのビーム
形状に略等しい輪郭をもつ円形または円環と所定位置の
中心で交差する十字を組み合わせてなるものであっても
よいし、第3図(C)のように所定位置にある光ビーム
1の断面に内接する多角形であってもよい。ざらに第3
図(d)のように光ビーム1の断面に内接する星形等の
パターン     ゛でおってもよい。
また、上記のような位置調整用パターンが形成されてな
るマーキング部材は、光学素子にできるだけ近接して設
けられることが望ましいが上述したような、レンズ5の
鏡筒に取り付けられるレンズキャップに限らず、半導体
レーザと光学素子の間にあり、かつレンズ等の光学素子
と一体的に設けられているものであればよい。例えば第
4図に示すように支持台6の下端に定盤6Aを延設し、
この定盤6A上の所定の位置にマーキング部材17を支
持してなる支持部材19を着脱自在に植設してもよい。
(発明の効果) 以上説明したように本発明の半導体レーザ光学装置によ
れば、光ビームにより可視発光する蛍光体によって位置
調整用パターンが形成されてなるマーキング部材が設け
られたことにより、目視が不可能な波長領域にある光ビ
ームを発する半導体レーザとレンズ等の光学素子との相
対的な位置決めを極めて容易に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施態様による半導体レーザ光学装
置を示す斜視図、 第2図は上記装置における光ビームの位置調整用パター
ンを示す概略図、 第3図(a)〜(d)は位置調整用パターンの他の例を
示す概略図、 第4図は本発明の他の実fM態様による装置の概要を示
す概略側面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)半導体レーザおよび該半導体レーザから発せられる
    光ビームの光路上に設けられた光学素子からなる半導体
    レーザ光学装置において、該半導体レーザと該光学素子
    の間に、該光ビームにより可視発光する蛍光体によって
    光ビームの位置調整用パターンが形成されてなるマーキ
    ング部材が前記光学素子と一体的に設けられたことを特
    徴とする半導体レーザ光学装置。
JP2734886A 1986-02-10 1986-02-10 半導体レ−ザ光学装置 Pending JPS62184414A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2734886A JPS62184414A (ja) 1986-02-10 1986-02-10 半導体レ−ザ光学装置

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JP2734886A JPS62184414A (ja) 1986-02-10 1986-02-10 半導体レ−ザ光学装置

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JPS62184414A true JPS62184414A (ja) 1987-08-12

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ID=12218535

Family Applications (1)

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JP2734886A Pending JPS62184414A (ja) 1986-02-10 1986-02-10 半導体レ−ザ光学装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010140552A1 (ja) * 2009-06-03 2010-12-09 浜松ホトニクス株式会社 イマージョンレンズ支持装置
JP2017156433A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 株式会社メルビル 光軸調整装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010140552A1 (ja) * 2009-06-03 2010-12-09 浜松ホトニクス株式会社 イマージョンレンズ支持装置
JP2010281960A (ja) * 2009-06-03 2010-12-16 Hamamatsu Photonics Kk イマージョンレンズ支持装置
US8619377B2 (en) 2009-06-03 2013-12-31 Hamamatsu Photonics K.K. Immersion lens holding device
TWI484238B (zh) * 2009-06-03 2015-05-11 Hamamatsu Photonics Kk Immersion lens support device
JP2017156433A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 株式会社メルビル 光軸調整装置

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