JPS62184401A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタの製造方法Info
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- JPS62184401A JPS62184401A JP61026164A JP2616486A JPS62184401A JP S62184401 A JPS62184401 A JP S62184401A JP 61026164 A JP61026164 A JP 61026164A JP 2616486 A JP2616486 A JP 2616486A JP S62184401 A JPS62184401 A JP S62184401A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 16
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 15
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims abstract description 11
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims abstract description 11
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract 3
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- PMJNEQWWZRSFCE-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxy-3-oxo-2-(thiophen-2-ylmethyl)propanoic acid Chemical compound CCOC(=O)C(C(O)=O)CC1=CC=CS1 PMJNEQWWZRSFCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は固体撮像素子などのカラーフィルタの製造方
法に関し、特に高解像力のカラーフィルタの製造方法に
関するものである。
法に関し、特に高解像力のカラーフィルタの製造方法に
関するものである。
［従来の技術］
従来、カラーフィルタの製造においては、水溶性ポリマ
ー（ゼラチンおよびカゼインなど）中に重クロム酸アン
モニウムを混合した感光剤を回転塗布し、マスクアライ
ナを用いてモザイクパターンあるいはストライプパター
ンの形成を行なってきた。
ー（ゼラチンおよびカゼインなど）中に重クロム酸アン
モニウムを混合した感光剤を回転塗布し、マスクアライ
ナを用いてモザイクパターンあるいはストライプパター
ンの形成を行なってきた。
第２Ａ図〜第２Ｄ図は従来のモノリシック型固体撮像素
子のカラーフィルタの製造方法の主要工程段階における
状態を示す断面図である。
子のカラーフィルタの製造方法の主要工程段階における
状態を示す断面図である。
この製造方法について説明すると、基板１上に光検出部
２．電荷転送部３などが形成されており（基板１上に形
成される他の撮像用の構成要素については図示を省略す
る）、まず、基板１．光検出部２．電荷転送部３上に、
たとえばポリグリシジルメタクリレ−１−などの有機感
光性高分子膜料を回転塗布し、続いてこの有機感光性高
分子材料上にネガ型のフォトレジストであるゼラチン−
重クロム酸アンモニウム混合水溶液を回転塗布し、この
後、有態感光性高分子材料、ゼラチンー重クロム酸アン
モニウム混合水溶液をプレベークして透明な有機感光性
高分子膜４．ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜５を
形成する（第２Ａ図）。
２．電荷転送部３などが形成されており（基板１上に形
成される他の撮像用の構成要素については図示を省略す
る）、まず、基板１．光検出部２．電荷転送部３上に、
たとえばポリグリシジルメタクリレ−１−などの有機感
光性高分子膜料を回転塗布し、続いてこの有機感光性高
分子材料上にネガ型のフォトレジストであるゼラチン−
重クロム酸アンモニウム混合水溶液を回転塗布し、この
後、有態感光性高分子材料、ゼラチンー重クロム酸アン
モニウム混合水溶液をプレベークして透明な有機感光性
高分子膜４．ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜５を
形成する（第２Ａ図）。
次に、ガラスなどの透明基板６０にクロム６１が蒸暑さ
れた所定のクロムマスク６を用いて紫外光によりゼラチ
ン−盾クロム酸アンモニウム膜５を選択的に露光し、こ
の後、露光されたぜラチンー重りロム酸アンモニウム膜
５を水で現像処理して所望のゼラチン−重クロム酸アン
モニウム膜パターン５ａを形成する（第２Ｂ図）。次に
、ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パターン５ａを
染料を溶融した水槽中に浸すことにより染色する。
れた所定のクロムマスク６を用いて紫外光によりゼラチ
ン−盾クロム酸アンモニウム膜５を選択的に露光し、こ
の後、露光されたぜラチンー重りロム酸アンモニウム膜
５を水で現像処理して所望のゼラチン−重クロム酸アン
モニウム膜パターン５ａを形成する（第２Ｂ図）。次に
、ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パターン５ａを
染料を溶融した水槽中に浸すことにより染色する。
５ｂは染色されたゼラチン−虚クロム酸アンモニウム膜
パターンを示す（第２Ｃ図）。次に、有機感光性高分子
膜４．染色ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パター
ン５ｂ上に有機感光性高分子膜７を形成して染色ゼラチ
ン−重クロム酸アンモニウム膜パターン５ｂを保護し、
このようにして有機感光性高分子膜４．染色ゼラチン−
重クロム酸アンモニウム膜パターン５ｂ、有機感光性高
分子膜７から構成されるカラーフィルタが完成される（
第２Ｄ図）。
パターンを示す（第２Ｃ図）。次に、有機感光性高分子
膜４．染色ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パター
ン５ｂ上に有機感光性高分子膜７を形成して染色ゼラチ
ン−重クロム酸アンモニウム膜パターン５ｂを保護し、
このようにして有機感光性高分子膜４．染色ゼラチン−
重クロム酸アンモニウム膜パターン５ｂ、有機感光性高
分子膜７から構成されるカラーフィルタが完成される（
第２Ｄ図）。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、従来のカラーフィルタの製造方法では、ゼラ
チン−重クロム酸アンモニウム膜５のパターニングはそ
の分子量、光反応性などによって決まり、このゼラチン
系のネガ型フォトレジストは解像性が劣るという問題点
を有していた。このため、微細なモザイクパターンでは
隣接画素間の十分な分離が達成できなかった。
チン−重クロム酸アンモニウム膜５のパターニングはそ
の分子量、光反応性などによって決まり、このゼラチン
系のネガ型フォトレジストは解像性が劣るという問題点
を有していた。このため、微細なモザイクパターンでは
隣接画素間の十分な分離が達成できなかった。
しかし、ゼラチン系のフォトレジストは酸性染料による
染色において他の水溶性フォトレジストに比べて良好な
被染色性を有しているいるので、ゼラチン系のフォトレ
ジストを用いる意義は大きい。
染色において他の水溶性フォトレジストに比べて良好な
被染色性を有しているいるので、ゼラチン系のフォトレ
ジストを用いる意義は大きい。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、高解像力のカラーフィルタの製造を可能にす
る方法を得ることを目的とする。
たもので、高解像力のカラーフィルタの製造を可能にす
る方法を得ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
この発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基板上に
透明感光性高分子膜を形成し、透明感光性高分子膜上に
ゼラチン系のネガ型フォトレジスト膜を形成し、ネガ型
フォトレジスト膜を露光し、この後露光されたネガ型フ
ォトレジスト膜を現像し、現像されたネガ型フォトレジ
スト膜上にノボラック系のポジ型フォトレジスト膜を形
成し、所定のマスクを用いてポジ型フォトレジスト膜を
選択的に露光し、この後露光されたポジ型フォトレジス
ト膜現像してポジ型フォトレジスト膜パターンを形成し
、ポジ型フォトレジスト膜パターンをマスクとして四塩
化炭素を含むエツチングガス雰囲気でネガ型フォトレジ
スト膜を選択的にプラズマエツチングして被染色部を形
成する方法である。
透明感光性高分子膜を形成し、透明感光性高分子膜上に
ゼラチン系のネガ型フォトレジスト膜を形成し、ネガ型
フォトレジスト膜を露光し、この後露光されたネガ型フ
ォトレジスト膜を現像し、現像されたネガ型フォトレジ
スト膜上にノボラック系のポジ型フォトレジスト膜を形
成し、所定のマスクを用いてポジ型フォトレジスト膜を
選択的に露光し、この後露光されたポジ型フォトレジス
ト膜現像してポジ型フォトレジスト膜パターンを形成し
、ポジ型フォトレジスト膜パターンをマスクとして四塩
化炭素を含むエツチングガス雰囲気でネガ型フォトレジ
スト膜を選択的にプラズマエツチングして被染色部を形
成する方法である。
【作用］
この発明においては、四塩化炭素を含むエツチングガス
を用いた場合、ゼラチン系のネガ型フォトレジスト膜の
プラズマエツチング速度はノボラック系のポジ型フォト
レジスト膜パターンのプラズマエツチング速度よりも著
しく大きいので、ポジ型フォトレジスト膜パターンはネ
ガ型フォトレジスト膜のバターニングのためのマスクと
して有効に働く。また、ノボラック系のポジ型フォトレ
ジストは解像力が優れているので、ネガ型フォトレジス
ト膜のパターニングにおいてその微細加工が可能となる
。
を用いた場合、ゼラチン系のネガ型フォトレジスト膜の
プラズマエツチング速度はノボラック系のポジ型フォト
レジスト膜パターンのプラズマエツチング速度よりも著
しく大きいので、ポジ型フォトレジスト膜パターンはネ
ガ型フォトレジスト膜のバターニングのためのマスクと
して有効に働く。また、ノボラック系のポジ型フォトレ
ジストは解像力が優れているので、ネガ型フォトレジス
ト膜のパターニングにおいてその微細加工が可能となる
。
［実施例］
以下、この発明の実施例を図について説明する。
なお、この実施例の説明において、従来の技術の説明と
重複する部分については適宜その説明を省略する。
重複する部分については適宜その説明を省略する。
第１Ａ図〜第１Ｄ図はモノシリツク型固体ａｍ素子のカ
ラーフィルタの製造方法の主要工程段階における状態を
示す断面図である。
ラーフィルタの製造方法の主要工程段階における状態を
示す断面図である。
この製造方法について説明すると、従来と同様の製造方
法により第２Ａ図の工程を経た侵、ゼラチン−重クロム
酸アンモニウム膜５の全領域を紫外光により露光し、続
いて、露光されたゼラチン−重クロム酸アンモニウムｆ
ｆ１５を水で現像処理する。８は露光・現像処理後のゼ
ラチン−重クロム酸アンモニウム膜を示す（第１Ａ図）
。次に、ゼラチン−重りＯム酸アンモニウムｌ１ｌｓ上
にノボラック系のポジ型フォトレジスト、たとえば０Ｆ
ＰＲ−８００を回転塗布し、この後、０ＦＰＲ−８ｏＯ
をプレベークして０ＦＰＲ−８００膜を形成する。続い
て、ガラスなどの透明基板９０にクロム９１が蒸着され
た所定のクロムマスク９を用いて紫外光によりこの０Ｆ
ＰＲ−８００！ＩＩを選択的に露光し、この後、露光さ
れた０ＦＰＲ−８００膜を水で現像処理して所望の０Ｆ
ＰＲ−８００１１１パターン１０ａを形成する（第１Ｂ
図）、、次に、ＯＦ Ｐ Ｒ−８００ＩＩＩパターン１
０ａをマスクとしてゼラチン−重クロム酸アンモニウム
１１８をプラズマ中で選択的にリアクティブイオンエツ
チングしてゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パター
ン８ａを形成する。このとき、エツチングガスとして四
塩化炭素と酸素との混合ガス（組成比、ＣＣ１１，：０
２−１ ：２または１：３）を用いると、ゼラチン−重
クロム酸アンモニウム膜８のプラズマエツチング速度γ
とＯＦ Ｐ Ｒ−８００１！！Ｉ １ｅＬ Ｏａのプラズマエツチング速度γ０ＦＰＩＩとの比がγ
ｙｅｆｆｉ／γｏｙｒａ−２０〜１２と大きくなり、０
ＦＰＲ−８００膜パターン１０ａがゼラチン−重クロム
酸アンモニウム膜８のバターニングのためのマスクとし
て有効に働く。また、カラーフィルタの解像力はこのマ
スクに用いられるフォトレジストの解像力に左右される
が、通常のノボラック系のポジ型フォトレジストは解像
力が優れているので、従来法に比べてゼラチン−重クロ
ム酸アンモニウム膜８のバターニングにおいてその微細
加工が可能となり、カラーフィルタの解像力は著しく向
上する（第１Ｃ図）。次に、残存した０ＦＰＲ−８００
膜パターン１０ａをアルコール（エタノール、イソプロ
ピルアルコールなど）を用いて溶融剥離する（第１Ｄ図
）。次に、従来と同様の方法により、ゼラチン−重クロ
ム酸アンモニウム膜パターン８ａを染色し、この後、有
機感光性高分子１１４．染色ゼラチン−重クロム酸アン
モニウム膜パターン８ａ上に有機感光性高分子膜を形成
することによって高解像力のカラーフィルタが完成され
る。
法により第２Ａ図の工程を経た侵、ゼラチン−重クロム
酸アンモニウム膜５の全領域を紫外光により露光し、続
いて、露光されたゼラチン−重クロム酸アンモニウムｆ
ｆ１５を水で現像処理する。８は露光・現像処理後のゼ
ラチン−重クロム酸アンモニウム膜を示す（第１Ａ図）
。次に、ゼラチン−重りＯム酸アンモニウムｌ１ｌｓ上
にノボラック系のポジ型フォトレジスト、たとえば０Ｆ
ＰＲ−８００を回転塗布し、この後、０ＦＰＲ−８ｏＯ
をプレベークして０ＦＰＲ−８００膜を形成する。続い
て、ガラスなどの透明基板９０にクロム９１が蒸着され
た所定のクロムマスク９を用いて紫外光によりこの０Ｆ
ＰＲ−８００！ＩＩを選択的に露光し、この後、露光さ
れた０ＦＰＲ−８００膜を水で現像処理して所望の０Ｆ
ＰＲ−８００１１１パターン１０ａを形成する（第１Ｂ
図）、、次に、ＯＦ Ｐ Ｒ−８００ＩＩＩパターン１
０ａをマスクとしてゼラチン−重クロム酸アンモニウム
１１８をプラズマ中で選択的にリアクティブイオンエツ
チングしてゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パター
ン８ａを形成する。このとき、エツチングガスとして四
塩化炭素と酸素との混合ガス（組成比、ＣＣ１１，：０
２−１ ：２または１：３）を用いると、ゼラチン−重
クロム酸アンモニウム膜８のプラズマエツチング速度γ
とＯＦ Ｐ Ｒ−８００１！！Ｉ １ｅＬ Ｏａのプラズマエツチング速度γ０ＦＰＩＩとの比がγ
ｙｅｆｆｉ／γｏｙｒａ−２０〜１２と大きくなり、０
ＦＰＲ−８００膜パターン１０ａがゼラチン−重クロム
酸アンモニウム膜８のバターニングのためのマスクとし
て有効に働く。また、カラーフィルタの解像力はこのマ
スクに用いられるフォトレジストの解像力に左右される
が、通常のノボラック系のポジ型フォトレジストは解像
力が優れているので、従来法に比べてゼラチン−重クロ
ム酸アンモニウム膜８のバターニングにおいてその微細
加工が可能となり、カラーフィルタの解像力は著しく向
上する（第１Ｃ図）。次に、残存した０ＦＰＲ−８００
膜パターン１０ａをアルコール（エタノール、イソプロ
ピルアルコールなど）を用いて溶融剥離する（第１Ｄ図
）。次に、従来と同様の方法により、ゼラチン−重クロ
ム酸アンモニウム膜パターン８ａを染色し、この後、有
機感光性高分子１１４．染色ゼラチン−重クロム酸アン
モニウム膜パターン８ａ上に有機感光性高分子膜を形成
することによって高解像力のカラーフィルタが完成され
る。
なお、上記実施例では、モノリシック型固体撮像素子の
カラーフィルタの製造方法について示したが、この発明
は透明なガラス基板に形成されるカラーフィルタの製造
にも応用できることは言うまでもない。
カラーフィルタの製造方法について示したが、この発明
は透明なガラス基板に形成されるカラーフィルタの製造
にも応用できることは言うまでもない。
［発明の効果］
以上のようにこの発明によれば、ノボラック系のポジ型
フォトレジスト膜パターンをマスクとして四塩化炭素を
含むエツチングガス雰囲気でゼラチン系のネガ型フォト
レジスト膜を選択的にプラズマエツチングして被染色部
を形成するようにしたので、良好な被染色性を有するゼ
ラチン系の７オトレジスト膜のバターニングにおいてそ
の微細加工が可能になり、高解像力のカラーフィルタを
製造することができる。
フォトレジスト膜パターンをマスクとして四塩化炭素を
含むエツチングガス雰囲気でゼラチン系のネガ型フォト
レジスト膜を選択的にプラズマエツチングして被染色部
を形成するようにしたので、良好な被染色性を有するゼ
ラチン系の７オトレジスト膜のバターニングにおいてそ
の微細加工が可能になり、高解像力のカラーフィルタを
製造することができる。
第１Ａ図〜第１Ｄ図はモノリシック型置体Ｉｉ像素子の
カラーフィルタの製造方法の主要工程段階における状態
を示す断面図である。 第２Ａ図〜第２Ｄ図は従来のモノリシック型固体撮像素
子のカラーフィルタの製造方法の主要工程段階における
状態を示す断面図である。 図において、１は基板、２は光検出部、３は電荷転送部
、４．７は有機感光性高分子膜、５．８はゼラチン−重
クロム酸アンモニウム膜、５ａ。 ８ａはゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パターン、
５ｂは染色ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パター
ン、６．９はクロムマスク、１０ａは０ＦＰＲ−８００
１１１パターンである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄第１Ａ
図 第１Ｄ図 光２Ａ閏 第２Ｃ図 ５ｂｓｆ色ｔ°ラテン′−奢りＯム１う斐ア＞εエフ６
月更ノザター／７】廟機広光ｆ１達ｌ費 手続補正書（自発） 特許庁長官殿 １１１、
事件の表示 特願昭６１−２６１６４号２、発明の
名称 カラーフイμりの製造方法 ３、補正をする者 ５、補正の対象 明１Ｂａｔの発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１） 明細書第５１第１１行ないし第１２行の「現像
し、」を「環徴して未反応物を除去し、」に訂正する。 （２） 明細書第５頁第１５行ないし第１６行の「ポジ
型フォトレジスト躾現像して」を［ポジ型フォトレジス
ト膜を現像して」に訂正する。 （３） 明細書第７頁第１６行の「水で」を「所定の現
像液を用いて」に訂正する。 以上
カラーフィルタの製造方法の主要工程段階における状態
を示す断面図である。 第２Ａ図〜第２Ｄ図は従来のモノリシック型固体撮像素
子のカラーフィルタの製造方法の主要工程段階における
状態を示す断面図である。 図において、１は基板、２は光検出部、３は電荷転送部
、４．７は有機感光性高分子膜、５．８はゼラチン−重
クロム酸アンモニウム膜、５ａ。 ８ａはゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パターン、
５ｂは染色ゼラチン−重クロム酸アンモニウム膜パター
ン、６．９はクロムマスク、１０ａは０ＦＰＲ−８００
１１１パターンである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄第１Ａ
図 第１Ｄ図 光２Ａ閏 第２Ｃ図 ５ｂｓｆ色ｔ°ラテン′−奢りＯム１う斐ア＞εエフ６
月更ノザター／７】廟機広光ｆ１達ｌ費 手続補正書（自発） 特許庁長官殿 １１１、
事件の表示 特願昭６１−２６１６４号２、発明の
名称 カラーフイμりの製造方法 ３、補正をする者 ５、補正の対象 明１Ｂａｔの発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１） 明細書第５１第１１行ないし第１２行の「現像
し、」を「環徴して未反応物を除去し、」に訂正する。 （２） 明細書第５頁第１５行ないし第１６行の「ポジ
型フォトレジスト躾現像して」を［ポジ型フォトレジス
ト膜を現像して」に訂正する。 （３） 明細書第７頁第１６行の「水で」を「所定の現
像液を用いて」に訂正する。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に透明感光性高分子膜を形成する工程と前記透明
感光性高分子膜上にゼラチン系のネガ型フォトレジスト
膜を形成する工程と、 前記ネガ型フォトレジスト膜を露光し、この後該露光さ
れたネガ型フォトレジスト膜を現像する工程と、 前記現像されたネガ型フォトレジスト膜上にノボラック
系のポジ型フォトレジスト膜を形成する工程と、 所定のマスクを用いて前記ポジ型フォトレジスト膜を選
択的に露光し、この後該露光されたポジ型フォトレジス
ト膜を現像してポジ型フォトレジスト膜パターンを形成
する工程と、 前記ポジ型フォトレジスト膜パターンをマスクとして四
塩化炭素を含むエッチングガス雰囲気で前記ネガ型フォ
トレジスト膜を選択的にプラズマエッチングして被染色
部を形成する工程とを含むカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61026164A JPS62184401A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61026164A JPS62184401A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62184401A true JPS62184401A (ja) | 1987-08-12 |
Family
ID=12185910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61026164A Pending JPS62184401A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62184401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02127602A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-05-16 | Polaroid Corp | カラーフィルターの製造方法 |
-
1986
- 1986-02-08 JP JP61026164A patent/JPS62184401A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02127602A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-05-16 | Polaroid Corp | カラーフィルターの製造方法 |
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