JPS62178905A - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents

カラ−フイルタ−の製造方法

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JPS62178905A
JPS62178905A JP61021388A JP2138886A JPS62178905A JP S62178905 A JPS62178905 A JP S62178905A JP 61021388 A JP61021388 A JP 61021388A JP 2138886 A JP2138886 A JP 2138886A JP S62178905 A JPS62178905 A JP S62178905A
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JP
Japan
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color filter
plating
nickel
electroless
immersed
Prior art date
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Pending
Application number
JP61021388A
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English (en)
Inventor
Hisashi Ariga
久 有賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本QEIAは、’1’FT、M工M、ハイデユーティ−
等の基板と組み合わせて液晶表示セルに用いられるカー
y−フィルターの製造方法に関するものである。
〔発明の概要〕
本発明は、TV’!’、M工M、ハイデユーティ−等の
基板と組み合わせて液晶表示セルに用いられるカラーフ
ィルターの遮光部分をガラスの表面にニッケルの無電解
メッキを行ない、これを7オトリソグラフ1イー法によ
りレジスト塗布→露光→現像→エツチングを行なって形
成することを特徴としたカラーフィルターの製造方法で
ある。
〔従来の技術〕
従来のカーy−フィルターに用いられていたブラックス
トライプ(以降BSと呼ぶ)と呼ばれる遮光部分は、基
板上に蒸着法もしくはスパッタリング法等でクロムを成
膜し、これを上記フォトリソ法によりバターニングする
ことで形成していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このような製造方法によりカラーフィルターのBS部を
製造する場合、クロム膜の成膜により相当なコスト高に
なってしまうという問題°点があった。これはクロム膜
を基板上に付けるためには、真空蒸着機もしくはスパッ
タ装置によらねばならないことによる。装置自身が高価
格であるのに加えて一度に付けられる枚数は真空槽の寸
法で決められてしまうため単位時間の処理数が少ない。
しかも真空引きから最後まで20〜30分も時間がかか
ってしまうといつたためである。またこうして真空装置
によって形成された膜質はピンホール等が多いためけっ
して遮光性が良いとは言えない場合もあった。本発明は
、このような従来のBS形成にあっト問照点を解消し、
安価で高品質なカラーフィルターの製造方法を提供する
ことにある〔問題を解決するための手段〕 上記の間迦を解決するために、本発明はカラーフィルタ
ー基板上にニッケルの無電解メッキを行ない、これをフ
ォトリソグラフィー法によりパターニングすることでB
Sを形成することを特徴とするものである。
〔実施例〕
第1図に本発明を実施したカラーフィルターの断面図を
示す。第2図に本発明によるカラーフィルターの製造方
法を示す。まず原料基板となるガラスを洗浄する(第2
図α)。次に25℃の7ツ酸液に1分もしくは、75℃
に加温したフッカアンモニウム液と硝酸の混合液に3分
浸漬する(第2図b)。談いて純水流水槽1に1分浸漬
する(第2図C]。続いて純水流水槽2に1分浸漬する
(第2図d)。続いて純水流水槽3に1分浸漬すす(第
2 fjJ t )。次に1wt%の塩化第一スズと1
wt%の塩酸の混合液に3分浸漬する(第2図f)。続
いて純水槽1に1分浸漬する(第2図1)。続いて純水
槽2に1分浸鑓する(第2図h)、次に20wt%の塩
化バラジューム液に3分間浸漬する(#g2図t)。続
いて純水槽3に1分間浸漬する(@2図)゛)。続いて
純水槽4に1分間浸漬する(第2図k)、次にスピンド
ライヤー等にて水切夛をおこなう(第2図り。つづいて
100℃で5分の乾燥を行なう(第2図77り。次にニ
ッケル液槽に浸漬する(第2図外)。浴組成ハ、塩化ニ
ッケル、次亜燐酸ソーダ、クエン酸ソーダであるが、実
際には日本カニゼン(株)のシューマーを45℃に加温
して4分浸漬した。およそ3〜4分で3000Xの膜厚
となる。続いて純水流水槽4に1分浸漬する(第2図0
)。続いて純水流水槽5に1分浸漬する(第2図P)。
続いて純水流水槽乙に5分浸漬する(第2図q)。次に
スピンドライヤー等にて水切シを行なう(第2図M)。
続いて150℃で1Hの乾燥を行なう(第2図S)。こ
うしてガラス基板上にエラ呪ル膜を形成する。これより
以降は、通常のフォトリソグラフィ一工程を行なってパ
ターニングする(@3図参照)。フォトリソグラフィ一
工程は、まずポジレジストをスピンコーター、ロールコ
ータ−等にて均一に塗布する(第3図A)。これを乾燥
しく第3図B)、露光した後(第3図C)現像してから
(第3図D)乾燥する(第3図M)。ニッケルメッキの
エツチング液は、混酸で調合比は純水20.リン酸35
.酢酸5.硝酸35.硫m5の割合で調合されている。
この液中に20〜25℃の温度にして約1分間浸漬する
(第3図M)。
次に純水流水槽7に1分間浸漬する(第3図G)、次に
純水流水槽8に1分間浸漬する(第3図M)。次に純水
流水槽9に3分間浸漬する(第3図工)。そしてスピン
ドライヤー等で水切シをする(第3図J)。続いてレジ
ストを剥離するため1KWの高圧水銀燈によるU’V照
射を約10秒以上行なう(#!3図L)。次に1wt%
の水酸化カリウム水溶液あるいはアセトンに2分以上浸
漬しレジストを剥離する(第3図M)。次に純水流水槽
10に5分浸漬しく第3図N)水切シを行なう(第3図
0)、最後に200〜300℃の焼成を1時間行なって
(第3FjJP)カラーフィルターのBS部を完成させ
た。
〔発明の効果〕
このようにニッケルの無電解メッキによるBS部を製造
することで、従来のカラーフィルターと比較して価格を
大幅に下げることが出来るようになった。またビンホー
ル不良を減少させる事が出来、遮光性の良いカラーフィ
ルターを供給することが出来るようになった。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるカラーフィルターの断面図。 1・・・・・・ガラス基板 2・・・・・・染色基質 3・・・・・・ニッケルによるBS 第2図は、ニッケル膜の成膜工程図。 第3図は、BS部バターニング工程図。 以  上 出願人 セイコーエプソン株式会社 藻  1  凹 皐  λ  図 第  3  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. カラー画像表示用液晶表示体のTFT、MIM、ハイデ
    ューティー等の基板と組合わされるカラーフィルターに
    於て、ブラックストライプと呼ばれる遮光部分をニッケ
    ルの無電解メッキを直接ガラス上に形成し、これをパタ
    ーン形成して作ることを特徴とするカラーフィルターの
    製造方法。
JP61021388A 1986-02-03 1986-02-03 カラ−フイルタ−の製造方法 Pending JPS62178905A (ja)

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