JPS62177895A - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

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JPS62177895A
JPS62177895A JP61020453A JP2045386A JPS62177895A JP S62177895 A JPS62177895 A JP S62177895A JP 61020453 A JP61020453 A JP 61020453A JP 2045386 A JP2045386 A JP 2045386A JP S62177895 A JPS62177895 A JP S62177895A
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JP
Japan
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transition
emission
thin film
light
film
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JP61020453A
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明義 三上
浩司 谷口
康一 田中
隆 小倉
勝 吉田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 未発明は電界の印加に応答してEL全発光呈する薄膜E
L素子に関し、特に発光中心としてテルビウム(Tb)
tドープした緑色発光EL素子に関するものである。
〈従来技術とその問題点〉 発光中心をドープした硫化亜鉛(ZnS)に交流電界を
印加することにより高輝度のEL全発光得られることが
見い出されて以来、高輝度多色表示パネルへの応用を目
積した薄膜EL素子の研究が盛んに行われている。
これらEL素子の発光色は添加する発光中心の種類によ
って異なり、マンガン(Mn)や希土類元素を添加した
場合、可視域で種々の発光色が得られる。現在、すでに
実用化されてbる薄膜ELパネルは発光中心としてMn
を用いたものであるが発光色が黄橙色に限られており、
このためフルカラー化全実現する上で必要な赤、緑、青
の3原色発光を呈する薄膜EL素子の開発が望まれてい
る。
Tbi発光中心として用いた薄膜EL素子は黄色がかっ
た緑色発光を呈するが、希土類元素の中では最も高い輝
度が得られるため、近年研究が活発化している。この素
子の場合、発光層の母材としてZnS、発光中心用材料
としてTbのフッ化物を用いてスパッタ法あるいは真空
蒸着法で発光層が成膜されている。
Tbイオン力・らの発光;ま4f軌道の電子配置によっ
て定まる固有な発光スペクトルを示し、′D4準位75
)ら7FJ準位(J=3.4,5.6)への電子遷移に
基づく比較的強い発光がそれぞれ波長620.590,
545および490 nm付近に観察される。最も強い
発光は545 nm付近にピークを有する5D4から7
F5への遷移に基づくものであり、純緑色に近いが、そ
の他に490 nm付近の青色発光、590および62
0 nm付近の橙色および赤色の発光が混っているため
、全体としては黄色味が力)った緑色発光となる。また
、Tb以外にもエルビウム(Er) 、セリウム(Ce
 )などが緑色発光材料として研究されているが、それ
らはTbに比べて輝度が低く、実用段階には達していな
い。従って、Tb(i−緑色発光源とし念フルカラーE
LパネルあるいはMnの黄澄色発光と組み合せたマルチ
カラーELパネルを実現するためには、Tbの発光をよ
り緑色に近づけることが重要な課題となる。
Tb膜を始めとする希土類イオンの4f−4f電子遷移
に基づく発光は、主として電気双極子遷移cEt、i移
)と磁気双極子遷移(Ml遷移)751ら成っている。
El遷移は厳密に禁止された禁制遷移であり、自由イオ
ンの状態では起きないが、イオンが反転対称のない奇の
パリティの結晶場中に置75)れた場合など、結晶場の
作用でこの禁制が破れると4f−4f間のEl遷移が可
能となる。一方、Ml遷移は4f−4f間では許容遷移
であり更にその遷移確率は結晶場の影atあまり受けな
いことが知られている。
Tbイオンの場合、El遷移については5D4から7F
Jの全てのJに対して可能であり、またMl遷移につい
てはJ=14,5が可能である。
従って504から7F6への遷移についてはEl遷移の
みが許されていることになり、上記理由によってその遷
移確率は他の7FJへの遷移に比べて結晶場の影響を受
けて犬きく変化しやすい。このことはTbイオンの禁制
遷移が結晶場の作用で破れてEl遷移に基づく発光が強
くなった場合、特にEl遷移のみから成る4 90 n
m付近の発光強度が相対的に大きくなることを意味して
おり、その結果、発光色はより緑色に近づくものと考え
られる。
〈発明の概要〉 未発明は上述の問題点および改善主眼に基づいて製作さ
れたものであり、発光層母材中に発光中心であるTb’
k、発光中心用材料としてTbの硫化物などを用いて添
加することにより、Tbイオンの禁制遷移を許容化して
 D47’)>ら7F6への遷移確率を増大させ、発光
輝度を低下させることなくより緑色に近いEL発光を得
ることを目的とする。
〈実施例〉 第1図は未発明の一実施例を示す薄膜EL素子の溝成因
である。
以下、製作工程順りこ説明する。まずガラス基板lの表
面を清浄化した後、透明電極2であるITD膜をストラ
イプ状に生成し、この上に下部誘電体層3としてS i
02 、Y2O3,5i3Naなどを適宜選択してスパ
ッタ法、真空蒸着法などの薄膜生成技術により厚さ10
00〜3000A’程度に堆積させる。次に、この上に
発光層4としてZnS:Tb膜を8000−1000O
A’の厚さに生成するがこれはTbの硫化物(TbzS
3など)とZnSの混合された焼結ペレットをターゲッ
トとしてスパッタ法で成膜する。また上記混合物の焼結
ペレットを用いて真空蒸着法で成膜してもよい。更に上
部誘電体層5として5i02.Aノ203 * Y2O
3。
Si3N4などを適宜選択して単層あるいは複合膜の状
態で堆積させる。上部誘電体層5の成膜法は下部誘電体
層3と同様であり、また膜厚は1000〜5000A”
に設定する。最後に、上記透明電極2と直交する方向に
ストライプ状にAノミ極6を真空蒸着してマトリックス
型表示電極を形成する。
この素子は透明電極2とAi電極6の間に交流電圧を印
加することによって発光する。
上記発光層4の成膜によって、発光中心であるTbは基
板上へ堆積される際、成膜用材料としてTbの硫化物を
用いているためにTbとS原子の結合状態を保持したま
まZnS格子中に取り込まれる。一方、従来のようにT
bのフッ化物?用いた場合にはTbはF原子に囲まれた
状態でZnS格子に組み込まれ易くなる。
発光中心用材料にTbの硫化物(Tb2S3)k用すた
場合の発光スペクトルをTbのフッ化物(TbF3)を
用力た場合のそれと比較して第2図に示す。図より明ら
かなように、Tbの硫化物を用いることにより5D47
5・ら7F6への遷移に基づ<490nm付近の発光が
著しく増大しておりこの結果、TbF3fl:用めて成
膜した場合に比べて良好な緑色発光が得られる。またT
b2S、に代えて金属Tbを用いても同様なスペクトル
を示した。これはZnS中のS原子がTbと結合してい
るためと考えられる。このような発光スペクトルの変化
の原因としては、’rb2s32用いた時にはTbが置
かれている結晶場が前述の条件を満たしていること、あ
るいはフッ化物に比べると硫化物の方が配位子の電子が
Tbイオンの4f軌道と混る傾向が強いため、4f−4
f間のEl遷移の禁制が解けやすいことが考えられる。
また一般に禁制遷移が解けると発光の減衰時定数が短く
なることが知られてb/8ため、発光の減衰特性を調べ
たところ、減衰時定数はそれぞれ約200μ5(Tb2
S3)および約600 μs (TbF3)であり上記
考案の正当性を裏付ける結果を示した。
第3図にT b2 s3あるいはTbF、+’を用いた
場合の発光輝度−印加電圧特性を示す。発光中心用材料
’tTbF375.らTb3S3に代えたことによる輝
度の低下はあまり認められず、TbO高輝度性を保持し
た!まより高品位の緑色発光が得られることがわかった
尚、上記実施例は母体としてZnS 、発光中心用材料
としてTb2Sa’に用いたが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、TbのEl遷移が許容化する組み合
せならば適用可能である。
〈発明の効果〉 以上説明した如く、未発明によれば発光中心としてTb
t−添加した場合に発光輝度を低下させることなく高品
位の緑色発光EL素子が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の説明に供する薄膜EL素子
の構成図である。第2図は発光中心用材料としてそれぞ
れTb2SaおよびTbF3に用カた薄膜EL素子の発
光スペクトル図である。第3図は第2図に発光スペクト
ルを示した薄膜EL素子の発光輝度−位加電圧特性図で
ある。 1ニガラス基板、2:透明電極、3:下部誘電体層、4
:発光層、5:上部誘電体層、6:Aノミ極。 代理人 弁理士 杉 山 毅 至(他1名)第1図 卯  40 t、E   Cレフ 第 7 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.Tbを発光中心とする発光層を有する薄膜EL素子
    において、前記発光層はTbイオンの^5D_4から^
    7F_6エネルギー準位への電子遷移に基づく発光の強
    度を増大させるTb化合物より形成された発光中心を有
    することを特徴とする薄膜EL素子。
  2. 2.発光層がTb化合物とTbの硫化物を含有して成る
    特許請求の範囲第1項記載の薄膜EL素子。
JP61020453A 1986-01-31 1986-01-31 薄膜el素子 Granted JPS62177895A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61020453A JPS62177895A (ja) 1986-01-31 1986-01-31 薄膜el素子

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JP61020453A JPS62177895A (ja) 1986-01-31 1986-01-31 薄膜el素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62177895A true JPS62177895A (ja) 1987-08-04
JPH0518238B2 JPH0518238B2 (ja) 1993-03-11

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ID=12027489

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JP61020453A Granted JPS62177895A (ja) 1986-01-31 1986-01-31 薄膜el素子

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59146192A (ja) * 1983-02-10 1984-08-21 松下電器産業株式会社 El素子

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59146192A (ja) * 1983-02-10 1984-08-21 松下電器産業株式会社 El素子

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JPH0518238B2 (ja) 1993-03-11

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