JPS62177191A - 無電解めつき前処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録装置に用いられる磁気記録媒体を、
めっき方法により製造する場合の磁気ディスク用アルミ
ニウム合金基板の無電解めっき前処理方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、めっき方法により磁気記録媒体を製造する場合に
は、磁性層の下にニッケルーリンの無電解めっき層を硬
度確保のため被覆していた。基板のアルミニウム合金に
無電解めっきを実施する前処理として、一般に脱脂−酸
洗一金属冴換方式が採用されている。酸洗浴としては（
１１１ｉ！硝酸−濶弗酸を２＝１に混合した浴（２）ク
ロム酸４５〜９０ｙ／１を含有する浴、（３）炭酸ソー
ダ３０５／１とリン酸３ナトリウム３０ｇ／ｊ！を含む
浴、（４）硝酸３８〜１２５＃！１！／１と硫酸ソーダ
６０〜１−２０ｇ／ｌを含む浴、といった各種の混酸系
の浴が使用されてきた。これらは、いづれの浴も強力な
エツチング作用でアルミニウム合金の表面の強固な酸化
物被膜を除去しようとするものである。

金属置換としては、亜鉛置換が主で、そのために苛性ソ
ーダ、酸化亜鉛、ロツセル塩、塩化第２鉄から成る浴が
一般的に使用されており、その組成としては、例えば、
Ｎ　ａ　ＯＨ５２５’Ｊ　／　１、Ｚｎ０１００ｇ／Ａ
、ロツセル塩１（１／ｊ２：ＦｅＣｌ３１び／ｉから成
る水溶液をあげることができる。その他、錫置換なども
行われる場合もある。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、上述のめつぎ前処理方法における酸洗工程にお
いて、次のような問題点があった。

上記（１）浴では、処理は常温で行なうことができるが
、高濃度酸及び弗酸を使用するため、非常に危険である
。また、設備に金属が使用できない。

上記（２１浴では、処理温度が６０−７０℃と高いこと
と有害物質であるクロム酸を使用している。上記（３）
浴では、処理温度が６０−７０℃と高い。上記（４）浴
では、処理温度が７５−８５℃と著しく高い。

これらの浴ではいずれもエツチング作用が強い。

ため、アルミニウム合金においては容易にスマットが生
成する。そのため、酸洗工程の管理が難しい。また、ス
マットが生成した場合には除去のための工程が必要とな
る。さらにまた、アルミニウムディスク材は、めつぎ後
の皮膜の均一性、緻密性が必要とされるため、前処理工
程においても反応性が著しく高くて、ピッ１−が生成す
る酸洗浴や続工程において金属置換皮膜の不均一なもの
となる浴は使用することができない。

本発明の目的は、燐酸及びホウ酸を非常に希薄な濃度範
囲にＪ３いてかつ低）３度域にて（磁気ディスク用アル
ミニウム合金基板を処理する工程を経ることによって上
述の問題点を解消し、均質なエツチング表面を得て、均
一で緻密な金属置換皮膜を析出させ得る無電解めつぎ前
処理方法を提供するものである。

Ｃ問題点を解決するための手段〕 本発明によれば、磁気ディスク用アルミニウム合金基板
を、溶剤さらにアルカリによりＩＢ２脂する工程、次い
で酸洗工程、さらに金属置換する工程による磁気ディス
ク用アルミニウム無電解めっき前処理方法において、前
記酸洗工程が各５〜５０’Ｊ／１の濃度範囲の燐酸及び
ホウ酸を含有する溶液による浸漬からなること、を特徴
とする前記方法が提供される。

本発明に例示するアルミニウム合金基板は、ＪＩＳに規
定された８０８６合金であり表面がグラインド仕上げさ
れたものであるが、アルミニウムディスク材料として使
用されるすべての合金に適用が可能である。

程が酸洗工程前に設けられるが、非エツチングタイプで
あればその処理方式については問題としない。

脱脂の終了した清浄な表面を持つディスク用アルミニウ
ム合金基板を十分に純水で洗滌した俊、本発明の酸洗液
にて処理を実施する。

本発明の酸洗液の成分のうち、燐酸は酸としてアルミニ
ウム合金基板をエツチングする作用を有しており、その
温度は５’ｊ／１〜５０９／Ｊ！の範囲が好ましい。そ
の酸濃度がうすいとアルミニウム表面の酸化物を除去す
る能力が低く、ａｍ度がこすきるとエツチング作用が大
きくなり微小ビットを生じやすくなる。ホウ酸は［ｌｔ
のエツチング作用を駁和する作用を有しており、その濃
度は５’Ｊ／１〜５０９／１の範囲が好ましい。その酸
濃度がうすいとｇ衝作用が弱くエツチングが過剰に進行
しやすい。そのＨａ度がこすきるとエツチングを抑制し
すぎて後工捏での金属置換の際の金属析出が不均一とな
りやずい。

酸洗工程の処理温度は２０〜６０が好ましく、特に３０
℃〜４０℃が最適である。処理温度が低すぎると反応が
遅くエツチングが不均一となり、温度が高すぎると燐酸
のエツチング作用が著しく強くなり、アルミニウム合金
基板表面に大ぎなピットを作り最終的な磁気特性を阻害
する原因となり不都合である。

酸洗工程の処理時間は、上記組成の液、温度範囲におい
て２分間以上が好ましく、特に３〜７分間が最適である
。処理時間が短かすぎると均質なエツチング面が得られ
ず、又、あまり長時間処理してもエツチング状況は変ら
ず経済的に不利である。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明づる。

実施例１〜４、比較例１〜３ （１）磁気ディスク用アルミニウム合金基板（神戸製鋼
社製、Ｊ　Ｉ　Ｓ　　８０８６相当、表面グラインド仕
上げ品）を１〜リクレン脱脂及びアルミニウム用アルカ
リ脱脂剤（三井金属パーライト社製Ａｚ−３０１）でア
ルカリ脱脂した後、十分に水洗を実施した。

ｆ２）　　＊脂した基板を、各一定濃度の燐酸及びホウ
酸を含有する水溶液中に一定温度で一定時間浸漬した後
、十分に水洗した。

（３１酸処理した基板を、亜鉛置換液（カニゼン社製シ
ューマーに−１０２）を用い３０℃で２０秒間浸漬し、
水洗して、亜鉛皮膜を得た。

この亜鉛被覆した基板を１５％（重量）硝酸溶液にて析
出亜鉛を除去し、水洗後、再度上記と同様の亜鉛置換液
を用い３０℃で１５秒間浸漬しくダブルジンケート法）
、水洗した。

（４）　　亜鉛被覆した基板をＮ１−Ｐ無電解めっき液
（カニゼン社製ブルーシューマー）に９０℃で１時間浸
漬し、水洗した。

各処理工程毎に基板の表面状態を顕微ｖＬ観察、酸洗工
程におりる減量の測定およびＮ１−Ｐめつき皮膜形成後
の表面粗さの測定（小坂研究所装５Ｅ−３Ｃ型測定装置
による測定）を行なった。

処理条件及び？ｌＳ！察・測定結果を次の表に示す。

表に示ず通り、燐酸及びホウ酸の各濃度が５〜５０ｒＪ
／１の範囲の浴で前処理した場合（実施例１〜４）には
、燐酸単独の浴（比較例１）あるいは燐酸又はホウ酸の
濃度が５〜５０’Ｊ／１の範囲外の浴（比較例２〜３）
で前処理した場合に比較して、その表面は、酸洗工程に
おける減ｆｆｌが少ないため、ピットやスマットの生成
は認められず、光沢がある。

〔発明の効果〕

以上説明した通り、本発明に係る前処理により、酸洗工
程において燐酸及びホウ酸を含んだ溶液で磁気ディスク
用アルミニウム合金基板を処理することによって、均質
なエツチング表面を与え、後工程の金属置換処理におい
て均一で緻密な無電解めっき用下地金属皮膜を与えるこ
とが可能となった。このため、アルミニウム合金基板−
亜鉛皮膜−Ｎｉ−Ｐ皮膜間の密着性が良好となり、その
上に設【プられる垂直磁化膜の磁気特性が安定となる。

つまり、品質の良好な磁気記録媒体の安定的な供給が可
能となり、コスト面での効果も大きい。

本発明に係る処理においては、酸洗工程のＭＭ度、処理
温度が低くても良好に実施することができ、つまり酸の
エツチング表面がマイルドであり、過剰エツチングにな
ることもなく、スマット除去の様な工程も不要であり、
又、アルミニウム合金基板へのピッ］・の生成も抑制さ
れる。かつ、有害物質、強酸を使用していないので、従
来の方法に比較して安定性及び操作性が良好である。ざ
らに、酸濃度が低いため、廃水処理も容易であり、ガス
発生も少なく、公害防止の面で６好ましい。

手続補正書（チジ 昭和６１年３り／？口

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ディスク用アルミニウム合金基板を、溶剤さらにア
   ルカリにより脱脂する工程、次いで酸洗工程、さらに金
   属置換する工程による磁気ディスク用アルミニウム無電
   解めつき前処理方法において、前記酸洗工程が各５〜５
   ０ｇ／ｌの濃度範囲の燐酸及びホウ酸を含有する溶液に
   よる浸漬からなること、を特徴とする前記方法。