JPS62174613A - 位置検出装置 - Google Patents

位置検出装置

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JPS62174613A
JPS62174613A JP61142022A JP14202286A JPS62174613A JP S62174613 A JPS62174613 A JP S62174613A JP 61142022 A JP61142022 A JP 61142022A JP 14202286 A JP14202286 A JP 14202286A JP S62174613 A JPS62174613 A JP S62174613A
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JP
Japan
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slit
slit plate
light source
periodic slits
photodetector
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Pending
Application number
JP61142022A
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English (en)
Inventor
Norio Okuya
奥谷 憲男
Tomiyasu Ueda
富康 上田
Tomohiro Maruo
丸尾 朋弘
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62174613A publication Critical patent/JPS62174613A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、位置決め装置にお・ける位置検出装置に関す
るものである。
従来の技術 機械装置の回転角を位置検出装置で検出して、鳥―耽若
の位蔚燦ぬを行う(1青小め装置が良く知られている。
このような位置検出装置として光電式エンコーダが広く
利用されている。以下図面を参照しながら、上述した従
来の光電エンコーダの一例について説明する。
第8図は従来の光電エンコーダを示すものである。第8
図において、1は光源、2はコリメータレンズ、3は回
転ディスク、4は固定マスクs5は受光素子、6は波形
整形回路である。
以上のように構成された光電エンコーダについて、以下
その動作について説明する。光源1から発した光束がコ
リメータレンズ2で平行光にされ、回転ディスク3上の
スリットと固定マスク4上のスリットを貫通した光を受
光素子5で光電変換し、波形整形回路6より信号出力す
る。部材の回転に従って回転ディスク3が回転すると、
回転ディスク3上のスリットと固定マスク4上のスリッ
トが一致、不一致を繰り返す事により、波形整形回路6
より正弦波形状信号が出力され、この信号を検出する事
により部材の回転位置を検出する。この踵の光電エンコ
ーダの光源としては、従来フィラメ/ト電球、発光ダイ
オードが用いられていた。
このような回転ディスク上の規則的な周期的なスリット
の走査のために回転ディスクと固定マスクの間に単一の
特定の距離のみが保持されねばならないのみならず、種
々の大きな距離が可能である事が知ら□れている。
回転ディスクのスリットが平行光線によって透過される
と1回転ディスクのスリット平面の後方の特定平面に回
転ディスクのスリットで回折された光線の干渉によって
、回転ディスクのスリットの回折像が生じ、回折像は同
一格子定数の固定スリットによって走査される事ができ
る。これらの平面は回転ディスクのスリットの格子定数
PM及び光の波長λの場合回転ディスクのスリット平面
から距離0°PM27λ(n==o 、 1.2、−・
−−−−)を有する。従って最適の電気的走査信号は回
転ディスクのスリット平面から固定マスクのスリット平
面の距離n0PM2/λの場合に生じ、誤差が±0. 
I PM2/λで有ることが必要である(Machin
e 5hop Magazinel、1962年4月2
08頁)。
第9図において二つの同一格子定数のスリットの間の相
対運動で生じた光変調の振幅が対向距離aに関して示さ
れている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、光源としてのフィ
ラメント電球、発光ダイオードは発光面積が大きいため
完全な平行光束をうろことは難しく、光束の平行性の悪
さのため、また発光の波長帯域が広いため回転ディスク
のスリットの回折像が固定マスク上ではぼける事となり
、回転ディスクと固定マスクの間隔りは大きくできず、
一般的にはL≦PM/λであり、PMを微小にするとゴ
ミ等の巻き込みによるスリットの汚損、破損があった。
また格子定数に対しスリットの光の透過部は一般的には
1/2以下でα46〜0.6 の値をとることが多(L
 = (n −1/2 )・P、/λでは光変調の振幅
は、はぼ0に吐下する事となりLの変化に伴い正弦波形
状信号も大きく変化する事となり、高安定の位置検出を
おこなうためにはLの変化を小さく抑える必要があった
。従来の光電式エンコーダでは上記問題点を解決するた
め、回転ディスクの平坦性の向上、回転ディスク軸受の
高精度化を行い、Lの変化を抑え、小型、高分解能化を
図ったものがあるが、Lの変化を小さく保つために使用
温度条件、回転ディスク軸受に対する負荷条件が厳しく
限られるために、精密計測器としての構成であり、一般
産業用としての使用は難しかった。また大光量のフィラ
メント電球と長焦点コリメータレンズにより比較的平行
度の高い光束を得て、スリット回折像のぼけの影響を抑
え、Lの変化に強くし、高分解能化を図ったものもある
が、大光量を得るためのフィラメント電球は振動に弱く
寿命の点で問題があり、また平行度の高い光束を得るた
めの長焦点レンズ使用により照明系の大型化を伴い、一
般産業用としての使用は難しかった。以上従来例では機
構f;”り成上の制約より、一般産業用としての小型化
、高分解能化が困難であるという間色点を有していた。
本発明は上記間色点に鑑み、一般産業用として使用し得
る小型、高分解能の位置検出装置を提供するものである
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の第1の発明は、光
電式位置検出装置において、光源としてレーザー光源を
用い、レーザー光源の発光源の大きさSとコリメータレ
ンズ焦点距離Fの関係をS/F≦d1/2Lとし、光源
側のスリット板上のスリットの幅aがa≧d1/2 の
周期的スリットにより生じるフラウンホーファ回折1栄
の明暗縞を光検出器で検出するという構成を備えたもの
である。
また1本発明の第2の発明は、光源としてレーザー光源
を用い、レーザー光源の発光源の大きさSとコリメータ
レンズの焦点距離Fの関係をS/F≦d2/Lとし、光
源ft111のスリット板上のスリットの幅aをa≧d
2/2とし、光源1111のスリット板上の周1す1的
スリツトと元検出器助1のスリット板上の周1υ)的ス
リットの距離を、前記光源11i11の周期的スIJッ
トのフラウンホーファ回折1争のo次ノ主bi犬と1次
の王悼犬の間隔が前記周)υ]的スリ、ノドのスリット
間隔の整数倍で、かつ前記フラウンホーファ回折f象の
主極大の幅が前記光検出器側の周期的スリットのスリッ
ト間隔の1/2以下とし、前記光源側の周期的スリット
のスリット間隔の整数分の1のスリット間隔に設定され
た前記光検出器側の周期的スリットをかいし、前記フラ
ウンホーフッ回折像の明暗縞を光検出器で検出するとい
う構成を備えたものである。
作   用 本発明の第1の発明の作用は、レーザー光源とコリメー
タレンズにより良質の平行束を得、レーザー光の可干渉
性による周期的スリットのフラウンホーファ回折像の大
きな0次の主極大と1次を得ることにより、明暗縞の鮮
明度が増すとともに明部が鋭いビーム状となることによ
り、スリット板と光検出器の間隔を大きくでき、小型化
、高分解能化が容易に行えることとなる。
本発明の第2の発明の作用は1周期的スリットのフラウ
ンホーファ回折像の大きな0次の主極大を得ることによ
り、明部が幅の狭い鋭いビーム状となることにより、2
つのスリット板の間隔を減少さすことなく、光検出器側
のスリット板上の周191的スリットの間隔を小さくす
るだけで高分解能化が可能となり、一層の小型化、高分
解能化が容易に行えることとなる。
実施例 以下本発明の第1の実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。第1図は本発明の実施例における位置検出
装置の構成図を示すものである。
第1図において、11はレーザーダイオード。
12はコリメータレンズ、13は移動スリット板、14
は固定スリット板、15は光検出素子である。
以上のように構成された位置検出装置の光学部分につい
て、以下その動作を説明する。
まず前記レーザーダイオード11の発光面より出た光は
前記コリメータレンズ12で平行束となり、前記移動ス
リット板13を照射する。第2図に示すように、前記移
動スリット板13上には。
開口巾aのスリット16が間隔d1で多数個並べられて
おり、光は前記スリット16部では透過。
他の部分では遮光され、透過光は前記固定スリット板1
4を照射する。
このとき前記スリット16を透過した波長λのフラウン
ホーファ回折像は、前記スリット16は同一矩形スリッ
ト開口を規則的にきわめて多数配置したものと考えられ
るから前記スリット16の光の回折は同一開口の規則的
配列と矩形単開口とを組合せたものである。前記スリッ
ト16の方向は第3図のy軸に平行でその中心がX軸上
に一定間隔d1をもって規則正しく並んでいるとする。
光源SはXl−Y1平面上Y1  軸に平行で中心がx
1軸上にあるスリットとすれば、回折像Pはx2軸上に
中心を有しI2軸に平行な細線となり1回折像の強度分
布I (P)は I(P)=I。(P) l F (P) +2  ・・
・・・・・・・・・(1)となる。工。(P)は矩形単
開口における回折〔象のa=−(sinθ1+sinθ
2)1・憎λ としてよく、l F(P) I  はN個の同一開口が
原点にある第1開口からX軸上に1険次、間隔d1 で
並んでいるときの回折像の相対的強度分布で。
となり、光源が波長λの単色光源の場合、(1)式のI
 (P)をI F(P) I2中のdl(s+nθ1−
I−sinθ2)の関数として描いたものが第4図であ
る(参考文献;光学技術ハンドブック〔朝食書店〕)。
ここで光源には前記レーザーダイオード11と前記コリ
メータレンズ12を用い平行束化を行っているので、前
記(4,(@式は各々。
α=−sinθ2    ・・・・・・・・・ ・・・
・・・・・・(@λ となり、主極大と1次の出る条件は dSI口θ2=mλ (m=o  、±1 、±2・・
・・・・)  ・・・・・・・・・(@主極大の巾は主
極大の間隔の2/NでNが犬になるにつれて主極大と1
次がしだいに細く先鋭になる。また第4図に示すように
I F(Pi l 2の各次数の主極大を連ねた点線は
矩形単開口の工。(P)の分布を示す。
以上のようにして求まる前記スリット16のフラウン永
−ファ回折像は、前記固定スリット板14上に投影され
る。第2図に示すように、前記固定スリット板14上に
は、開口巾すのスリット17がd2=d1に設定された
間隔d2で多数個並べられており、光は前記スリット1
7部では透過、他の部分では遮光され、透過光は前記光
検出素子15を照射する。
このとき前記固定スリット板14上に投影されたフラウ
ンホーファ回折像の主極大の間隔が、前記固定スリット
板上に並べられた前記スリット170間隔d2と一致す
る時、近似的には主極大のピークが前記スリット17内
にある時、前記移動スリット板13の移動にともない前
記光検出素子16より出力される検出信号の振幅は最大
となる。但し、フラウンホーファ回折像の主極大と1次
の間隔は前記固定スリット板上では次数が高くなる程長
くなる不等間隔であり、また、次数が高くなる程強度は
低くなることにより実用的許容度により考慮すべき主章
大の次数は決定される。実用的許容度を決定する主要因
としては前記スリット16の間隔d1  と開口巾aの
比があるが、代表的な例としては、 dl #2 aが
ある。この時0次の主極大に対し、2次以上の主極大と
1次の強度は約1/22以下になる小より2次以上の主
極大と1次を無視し、0次と1次の主極大のピークが前
記スリット17内にあれば検出信号の振幅は十分あると
考えられる。
また、フラウンホーファ回折像の斉次の主極大の大きさ
は、第4図に示すように前記スリット16の間隔d1 
 と開口幅aの比によって決定される。
0次の主極大と1次に対し1次以上の主極大と1次はd
1/aが小さくなる程小さくなり、(11/aを小さく
する程、すなわちaを大きくする程より(氏次の主極大
と1次を無視する事ができる。
また実用的許容度を決定する他の要因としては、光源の
大きさSがある。第3図において光源Sを点光源と考え
ているが、実用的には、大きさSを有する光源を焦点距
離Fのコリメータレンズにより光学的に無限遠に設置す
ることとなる。そのため、光源は点光源の集合と考えら
れ、無限遠にS/Fなる角度範囲内に点光源が分布して
いると考えて良く、その結果中じる前記スリット16の
フラウンホーファ回折像も、近似的にS/Fの拡がり角
を有する事となる。
以上の要因とは別に、装置の溝成上起りうるものとして
前記移動スリット板13と前記固定スリット板14の間
隔の変化が生じ、それにともないフラウンホーファ回折
像の王憔大の間隔に変化が生じることである。この時0
次の主極大と1次と1次の主俟大の平均的間隔を前記ス
リット17の間隔d2と一致させれば、前記移動スリッ
ト板13と前記固定スリット板14の間隔の変化を最大
に許容しうるものとなる。0次の主極大と1次と1次の
主極大の間隔が前記スリット170間隔dと一致する前
記移動スリット板13と前記固定スリ4フト板14の曲
成■は r−ギf本・(ハイm = 1       
    ・・・・・・ ・・ ・・・ (鋤よりL =
 −、、、、、、、、、、、、、、、、、、(11)λ で決定される。またフラウンホーファ回折像の主極大と
1次の主極大と1次の間隔がMd1(Mは正の整数)の
時、主極大と1次の巾Wは で与えられ、NとMで決定される王!1ijl犬の巾W
が前記スリット17の間隔のkgを越えない範囲、すな
わち、 824M      ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・(13)なる条件内で、検出信号の振幅は
十分あると考えとなる。
また、主極大の実用的な幅Wば、光源の大きさSとコリ
メータレンズの焦点距離Fにも関係し。
で与えられ、Nが十分に大きく、主極大の幅Wが前記ス
リット17の1/2を越えない範囲、すなわち なる条件で、検出信号の振幅は十分にあると考えられる
。第5図に、S/Fの変化による最大振幅の変化を示す
次に、前記移動スリット板13と前記固定スリット板1
4の間隔りの変化による検出信号の振幅変化は、斉次の
主極大間隔がスリット間隔の整数倍と一致しない時に生
じ、検出信号の振幅変化の大きさは、1次以上の主極大
と1次の大きさに依存する。
第5図は、(1)、(功、(→式よりa / dlの値
によって斉次の主極大の大きさと間隔を求め、Lを変化
させた時の検出信号の最小振幅を0次の主極大の大きさ
との比としてプロットした結果であり、最小振幅値が太
きければ最大振幅値との差が小さく、Lの変化による振
幅変化が小さいこととなる。
以上のように本実施例によれば、光源としてレーザーダ
イオードとコリメータレンズを用い、移動スリ、ト板上
に規則的に多数配(61シたスリットにより生じるフラ
ウンホーファ回折像を固定スリット板上に投影し主極大
と1次を検出することにより、鮮明度の高い明暗縞を検
出することとなり、小型化・高分解能化を容易に行うこ
とができる。また、移動スリット板上の周期的スリット
のスリット幅をスリット間隔の1/2以上に設定する事
により。
0次の主極大の大きさに対する1次以上の主イ〉犬の大
きさの比を小さくすることができ、移動スリット板と固
定スリット板との間隔の変化に対して安定した検出信号
を得ることとなり、小型化、高分解能化を容易に行うこ
とができる。また、レーザー光源の構成として、コリメ
ータレンズの焦点距離とレーザーダイオードの発光源の
大きさの比を、移動スリット板と固定スリット板の距離
と移動スリット板上の周期的スリットのスリット間隔の
1/2の比より小さくすることにより、フラウンホーフ
ァ回折像のぼけを小さくすることができ、鮮明度の高い
明暗縞を得ることとなり、小型化、高分解能化を容易に
行うことができる。
また、0次の主極大と1次の主極大の間隔がスリット間
隔の整数倍の近くになるように固定スリット板上に投影
することにより、フラウンホーファ回折像の明暗縞の振
幅を損なうことなく移動スリット板と固定スリット板の
間隔を大きくすることができ、移動スリット板と固定ス
リット板間へのゴミ等の巻き込みによるスリット板の汚
損・破損によるスリット板寿命の短縮の影響を軽微とす
ることができ、小型化φ高分解能化を容易に行うことが
できる。また、0次の主極大と1次と1次の主極大と1
次の間隔のみを取り扱うことにより、実用上十分な精度
で移動スリット板と固定スリット板の間隔を設定するこ
とができ、移動スリット板と固定スリット板の間隔を容
易に決定することができる。
また、0次の王・9犬と1次の主極大と1次の間隔がス
リット間隔の整数倍と一致するように固定スリット板上
に投影することにより、移動スリット板と固定スリット
板の間隔変化による検出信号変化を最大限許容しうる構
成となり、機構構成上による移動スリット板と固定スリ
ット板の間隔精度の影響を軽微とすることができ、小型
化・高分解i′iヒ化を容易に行うことができる。また
、0次の主極大からn次の主極大と1次が固定スリット
板上のスリット内に入るように投影することにより、フ
ラウンホーファ回折像の明暗縞の振幅を最大限検出信号
の振幅に変換しうる構成となり、より大きい振幅の検出
信号を得ることとなり、小型化・高分解能化を容易に行
うことができる。
なお1本実施例においては光諒判に移動スリット板を配
置したが、光源側に(6)定スリット板を配置しても良
い。
また、本実施例においては固定スリット板を設けたが、
固定スリット板のスリッh rt+能を有する光学検出
素子のみを用いた場合も同様の効果が14)られること
は言うまでもないので説明は省略する。
1だ1本罵施iすにおいては、光源にレーザーダイオー
ドとコリメータレンズを用いたが、平行束の得られるレ
ーザー光源であれば何を用いても良いことは言うまでも
ない。
次に本発明の第2の実施し11について、図面を参照し
ながら説明する。第1図のように構成された位置検出装
置において、第1の実施例と同じようにして前記スリッ
ト16のフラウンホーファ回折像は、前記固定スリット
板14上に投r象される。
第7図に示すように、前記固定スリット板14上には、
開口巾すのスリット17が、d2がdlの整数分の1に
設定された間隔d2で多数個並べられており、光は前記
スリット17部では透過、他の部分では遮光され、透過
光は前記光検出素子16を照q寸する。
このとき前記固定スリット板14上に投影されたフラウ
ンホーファ回折像の主極大の間隔が、前記固定スリット
上に並べられた前記スリット17の間隔d2の整数倍と
一致し、前記主極大の幅Wが前記スリット17の間隔d
2の%を越えない範囲にある時、前記移動スリット板1
3の移動にともない前記光検出素子16より出力される
検出信号の振幅は最大となる。
ここで、前記フラウンホーファ回折像の0次の主極大と
1次の王4夕大の間隔がMld、(Ml は正の整数)
の時、主極大の幅Wは、 で与えられ、前記1■定スリツト板14上のスリット1
7の間隔d2が617M2(M2は正の整数)の時、 W≦−・・・・・・・・・・・・・・・(18)すなわ
ち、 41vi1M2≦N      ・・・・・・・・・・
・・・・・(19)なる条件内で、検出信号の振幅は十
分あると考えられ、−実施列として残=1とした時、M
2≦−・・・・・・・・・・・・・・・(2o)となり
、前記移動スリット板13上のスリット16の間隔d1
の4/Nまで前記固定スリット板14上のスリット17
の間隔d2f:小さくしても検出信号の振幅は十分ある
こととなり、d1=d2とおく場合に比べN/a倍の分
解能の向上が可能となる。
また、この時の前記移動スリット板13と前記固定スリ
ット板14の間隔りは(8)式において。
m=1        ・・・・・・・・・・・・・・
・(2+)λ       ・・・・・・・・・・・・
・・(23)で決定され。
よって、(19)式の条件内で。
λ となる。
前記移動スリット板13と前記固定スリット板14の間
隔を狭ばめることなく1分解nヒの向上が可能となる。
以上のように本実施列によれば、光源としてレーザーダ
イオードとコリメータレンズを用い、移動スリット板上
の周期的スリットにより生じるフラウンホーフッ回折像
の0次の主極大と1次と1次の主極大と1次の間隔が前
記周期的スリットの間隔の整数倍であるような位置に固
定スリット板を設置し、前記固定スリット板上の周期的
スリットの間隔を移動スリット板上の周期的スリットの
間隔の整数分の1で、移動スリット板上の周期的スリッ
トにより生じるフラウンホース1回折像の主極大の幅の
2倍以上に設定することにより、フラウンホープ1回折
像の明暗縞の振幅を損なうことなく高分解能化が可能と
なり、高分解能化に伴なう移動スリット板と固定スリッ
ト板の間隔を減少することなく小型化・四分解能化を容
易に行うことができる。
なお、本実施列においては光源側に移動スリット板を配
置したが、光源1u11に固定スリット板を配置しても
良い。
また、本実施例においては固定スリット板を設けたが、
固定スリ、ト板のスリット磯11巨を有する光検出素子
のみを用いた場合も同様の効果が得られることは言うま
でもない。
また、本実施列においては、光源にレーザーダイオード
とコリメータレンズを用いたが、平行束の得られるレー
ザー光源であれば何を用いても良いことは言うまでもな
い。
発明の効果 以上述べたように、本発明の第1の発明によれば、レー
ザー光源とコリメータレンズにより良質の平行束を得、
レーザー元の可干渉性による周期的スリットのフラウン
ホーファ回折像の大きな0次の主極大と1次を得ること
により、明暗縞の鮮明度が増すとともに明部が鋭いビー
ム状となるとともに、主極大の間隔をスリット間隔と一
致させるような距離に2枚のスリット板を設置すること
により、機構構成上による2枚のス1ル、ト板の間隔精
度の影響を軽微とし、2枚のスリット板を長寿命比する
ことができ、小型化、高分解能化が容易に行えるという
効果を得ることができ、その効果は大なるものである。
また、本発明の第2の発明によれば、周期的スリットの
7ラウンホ一フ1回折像の大きな0次の主極大を得るこ
とにより、明部が幅の狭い鋭いビーム状となるとともに
、主極大と1次の間隔をスリリド間隔と一致させるよう
な距離に2枚のスリット板を設置し、光検出器側のスリ
ット板上の周期的スリットのスリット間隔を光源側のス
リット板上の周期的スリットのスリット間隔の整数分の
1で主極大と1次の幅の2倍以りに設定することにより
、2枚のスリット板の間隔を減少さすことなく、光検出
器側のスリット板上の周期的スリットのスリット間隔を
小さくするだけで高分解能化ができ、小型化、高分解能
化が容易に行えるという効果をf4↑ることができる優
れた位置検出装置を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における位置検出装置の構成
図、第2図は第1の実施例における第1図のスリットn
の詳細図、第3図はフラウンホーファ回折の位置関係図
、第4図は同一開口の規則的配列と矩形単開口とを組合
せたフラウ回折−ス1回折隙の光強度分布図、第5図は
S/Fと最大振幅の関係図、第5図はa/’d1 とL
の変化による最小振幅の関係図、第7図は第2の実施例
における第1図のスリット部の詳細図、第8図は従来の
光電式エンコーダの構成図、第9図は二つの同一格子定
数のスリットの間隔と振幅の関係図である。 11・・・・・・レーザーダイオード、12・・・・・
・コリメータレンズ、13・・・・・・(移動)スリッ
ト板、14・・・・・・(固定)スリット板、16・・
・・・・光検出器〔光検出素子〕。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第 
13 z γf 第 4 図 第5図 @6図   57F Q/dt 第7図 第9図

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザー光源を用いた光源と、周期的スリットを
    有する1枚のスリット板と、前記スリット板の移動に伴
    う光量変化を検出する少なくとも1個の光検出器を有し
    、前記光源と前記光検出器との間に前記スリット板を設
    け、前記光検出器の出力信号を検出して前記スリット板
    の変位量を求める光電式位置検出器において、前記スリ
    ット板上の周期的スリットにより生じるフラウンホーフ
    ァ回折像の明暗縞を前記光検出器で検出することを特徴
    とする位置検出装置。
  2. (2)スリット板上の周期的スリットのスリットの幅a
    が、a≧d_1/2であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の位置検出装置。
  3. (3)レーザー光源を用いた光源と、周期的スリットを
    有する2枚のスリット板と、前記スリット板の移動に伴
    う光量変化を検出する光検出器を有し、前記光源と前記
    光検出器との間に2枚の前記スリット板を設け、光検出
    器の出力信号を検出して前記スリット板の変位量を求め
    る光電式位置検出器において、光源側の前記スリット板
    上の周期的スリットにより生じるフラウンホーファ回折
    像の明暗縞を光検出器側の前記スリット板上の周期的ス
    リットをかいし前記光検出器で検出することを特徴とす
    る位置検出装置。
  4. (4)光源側のスリット板上の周期的スリットのスリッ
    トの幅aが、a≧d_1/2であることを特徴とする特
    許請求の範囲第3項に記載の位置検出装置。
  5. (5)大きさSの発光源と焦点距離Fのコリメータレン
    ズより構成したレーザー光源を用いた光源と、周期的ス
    リットを有する1枚のスリット板と、前記スリット板の
    移動に伴う光量変化を検出する少なくとも1個の光検出
    器を有し、前記光源と前記光検出器との間に前記スリッ
    ト板を設け、前記スリット板上の周期的スリットにより
    生じるフラウンホーファ回折像の明暗縞を前記光検出器
    で検出して前記スリット板の変位量を求める光電式位置
    検出器において、前記スリット板上のスリット間隔d_
    1の周期的スリットと検出するフラウンホーファ回折像
    の距離をLとするとS/F≦d_1/2Lであることを
    特徴とする位置検出装置。
  6. (6)発光源として、レーザーダイオードを用いたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第5項に記載の位置検出装
    置。
  7. (7)スリット板上の周期的スリットと検出するフラウ
    ンホーファ回折像の距離を、前記フラウンホーファ回折
    像の0次の主極大と1次の主極大の間隔が前記周期的ス
    リットのスリット間隔の整数倍から±b/2の範囲内に
    あるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第5項
    に記載の位置検出装置。
  8. (8)スリット板上の周期的スリットと検出するフラウ
    ンホーファ回折像の距離を、前記フラウンホーファ回折
    像の0次の主極大と1次の主極大の間隔が前記スリット
    板上の周期的スリットのスリット間隔の整数倍と一致す
    るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第7項に
    記載の位置検出装置。
  9. (9)スリット板上の周期的スリットと検出するフラウ
    ンホーファ回折像の距離を、前記フラウンホーファ回折
    像の0次の主極大と1次からn次の主極大の間隔が前記
    スリット板上の周期的スリットのスリット間隔の1倍か
    らn倍の±b/2の範囲内にあるようにしたことを特徴
    とする特許請求の範囲第5項に記載の位置検出装置。
  10. (10)スリット板上の周期的スリットのスリットの幅
    aが、a≧d_1/2であることを特徴とする特許請求
    の範囲第5項に記載の位置検出装置。
  11. (11)大きさSの発光源と焦点距離Fのコリメータレ
    ンズより構成したレーザー光源を用いた光源と、周期的
    スリットを有する2枚のスリット板と、前記スリット板
    の移動に伴う光量変化を検出する光検出器を有し、前記
    光源と前記光検出器との間に2枚の前記スリット板を設
    け、光源側の前記スリット板上の周期的スリットにより
    生じるフラウンホーファ回折像の明暗縞を光検出器側の
    前記スリット板上の周期的スリットをかいし前記光検出
    器で検出して前記スリット板の変位量を求める光電式位
    置検出器において、光源側の前記スリット板上の周期的
    スリットのスリット間隔d_1と光検出器側の前記スリ
    ット板上の周期的スリットのスリット間隔d_2がd_
    1=d_2に設定され、前記フラウンホーファ回折像の
    主極大の幅が光検出器側の前記スリット板上の周期的ス
    リットのスリット間隔d_2の1/2以下となるような
    光源側の前記スリット板上の周期的スリットと光検出器
    側の前記スリット板上の周期的スリットの距離をLとす
    るとS/F≦d_1/2Lであることを特徴とする位置
    検出装置。
  12. (12)発光源として、レーザーダイオードを用いたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第11項に記載の位置検
    出装置。
  13. (13)光源側のスリット板上の周期的スリットと光検
    出器側のスリット板上の周期的スリットの距離を、フラ
    ウンホーファ回折像の0次の主極大と1次の主極大の間
    隔が光源側の前記スリット板上の周期的スリットのスリ
    ット間隔の整数倍から±b/2の範囲内にあるようにし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第11項に記載の位
    置検出装置。
  14. (14)光源側のスリット板上の周期的スリットと光検
    出器側のスリット板上の周期的スリットの距離を、フラ
    ウンホーファ回折像の0次の主極大と1次の主極大の間
    隔が光源側の前記スリット板上の周期的スリットのスリ
    ット間隔の整数倍と一致するようにしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第13項に記載の位置検出装置。
  15. (15)光源側のスリット板上の周期的スリットと光検
    出器側のスリット板上の周期的スリットの距離を、フラ
    ウンホーファ回折像の0次の主極大と1次からn次の主
    極大の間隔が光源側の前記スリット板上の周期的スリッ
    トのスリット間隔の1倍からn倍の±b/2の範囲内に
    あるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第11
    項に記載の位置検出装置。
  16. (16)光源側のスリット板上の周期的スリットのスリ
    ットの幅aが、a≧d_1/2であることを特徴とする
    特許請求の範囲第11項に記載の位置検出装置。
  17. (17)大きさSの発光源と焦点距離Fのコリメータレ
    ンズより構成したレーザー光源を用いた光源と、周期的
    スリットを有する2枚のスリット板と、前記スリット板
    の移動に伴う光量変化を検出する光検出器を有し、前記
    光源と前記光検出器との間に2枚の前記スリット板を設
    け、光源側の前記スリット板上の周期的スリットにより
    生じるフラウンホーファ回折像の明暗縞を光検出器側の
    前記スリット板上の周期的スリットをかいし前記光検出
    器で検出して前記スリット板の変位量を求める光電式位
    置検出器において、光源側の前記スリット板上の周期的
    スリットのスリット間隔d_1と光検出器側の前記スリ
    ット板上の周期的スリットのスリット間隔d_2がd_
    1>d_2でかつd_1の整数分の1にd_2は設定さ
    れ、前記フラウンホーファ回折像の主極大の幅が光検出
    器側の前記スリット板上の周期的スリットのスリット間
    隔d_2の1/2以下となるような光源側の前記スリッ
    ト板上の周期的スリットと光検出器側の前記スリット板
    上の周期的スリットの距離をLとするとS/F≦d_2
    /2Lであることを特徴とする位置検出装置。
  18. (18)発光源として、レーザーダイオードを用いたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第17項に記載の位置検
    出装置。
  19. (19)光源側のスリット板上の周期的スリットと光検
    出器側のスリット板上の周期的スリットの距離を、フラ
    ウンホーファ回折像の0次の主極大と1次の主極大の間
    隔が光源側の前記スリット板上の周期的スリットのスリ
    ット間隔の整数倍から±b/2の範囲内にあるようにし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第17項に記載の位
    置検出装置。
  20. (20)光源側のスリット板上の周期的スリットと光検
    出器側のスリット板上の周期的スリットの距離を、フラ
    ウンホーファ回折像の0次の主極大と1次の主極大の間
    隔が光源側の前記スリット板上の周期的スリットのスリ
    ット間隔の整数倍と一致するようにしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第19項に記載の位置検出装置。
  21. (21)光源側のスリット板上の周期的スリットと光検
    出器側のスリット板上の周期的スリットの距離を、フラ
    ウンホーファ回折像の0次の主極大と1次からn次の主
    極大の間隔が光源側の前記スリット板上の周期的スリッ
    トのスリット間隔の1倍からn倍の±b/2の範囲内に
    あるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第17
    項に記載の位置検出装置。
  22. (22)光源側のスリット板上の周期的スリットのスリ
    ットの幅aが、a≧d_1/2であることを特徴とする
    特許請求の範囲第17項に記載の位置検出装置。
JP61142022A 1985-08-23 1986-06-18 位置検出装置 Pending JPS62174613A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP86111651A EP0216159B1 (en) 1985-08-23 1986-08-22 Position detecting device
DE3689602T DE3689602T2 (de) 1985-08-23 1986-08-22 Positionsdetektionsvorrichtung.
KR1019860006975A KR900008877B1 (ko) 1985-08-23 1986-08-23 위치검출장치
US07/342,609 US4971442A (en) 1985-08-23 1989-04-20 Photoelectric position encoder using diffraction imagery

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60-185211 1985-08-23
JP18521185 1985-08-23
JP60-227102 1985-10-11

Publications (1)

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JPS62174613A true JPS62174613A (ja) 1987-07-31

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ID=16166812

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61142022A Pending JPS62174613A (ja) 1985-08-23 1986-06-18 位置検出装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64417A (en) * 1987-02-25 1989-01-05 Asahi Optical Co Ltd Optical encoder

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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