JPS62164676A - 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 - Google Patents
4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS62164676A JPS62164676A JP769286A JP769286A JPS62164676A JP S62164676 A JPS62164676 A JP S62164676A JP 769286 A JP769286 A JP 769286A JP 769286 A JP769286 A JP 769286A JP S62164676 A JPS62164676 A JP S62164676A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- lower alkyl
- hydroxy
- compound
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導体
の製造法に関し、さらに詳しくは制癌作用、殺菌作用ま
たは抗高血圧作用などの生理活性を有する種々の2−フ
ラノン誘導体の合成中間体として有用な一般式CI)〔
式中 R1は水素原子、低級アルキル基、フェニル基ま
たはベンジル基を表わし、R2は低級アルキル基、フェ
ニル基またはベンジル基を表わす。また R1とR2と
が末端で結合し、ポリメチレン鎖を形成する場合も含ま
れる。R3は水素原子、低級アルキル基またはトリフル
オロメチル基を表わす。〕 で示される4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導
体の製造法に関する。
の製造法に関し、さらに詳しくは制癌作用、殺菌作用ま
たは抗高血圧作用などの生理活性を有する種々の2−フ
ラノン誘導体の合成中間体として有用な一般式CI)〔
式中 R1は水素原子、低級アルキル基、フェニル基ま
たはベンジル基を表わし、R2は低級アルキル基、フェ
ニル基またはベンジル基を表わす。また R1とR2と
が末端で結合し、ポリメチレン鎖を形成する場合も含ま
れる。R3は水素原子、低級アルキル基またはトリフル
オロメチル基を表わす。〕 で示される4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導
体の製造法に関する。
〈従来の技術〉
これ迄の4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導体
の合成法としては特開昭52−189056号公報やT
etrahedron Lett、、 26(8) 、
981(1985)などに記載の方法が知られている
。
の合成法としては特開昭52−189056号公報やT
etrahedron Lett、、 26(8) 、
981(1985)などに記載の方法が知られている
。
しかしながら、これらの方法は、収率や操作性の面で工
業的な製造法としては必ずしも充分なものとは言い難い
。
業的な製造法としては必ずしも充分なものとは言い難い
。
〈発明が解決しようとする問題点〉
このような状況の下で本発明者らは工業的にも有利な上
記一般式(I)で示される4−ヒドロキシ−2(5H)
−フラノン誘導体の製造法につき鋭意検討を重ねた結果
、本発明方法を完成するに至った。
記一般式(I)で示される4−ヒドロキシ−2(5H)
−フラノン誘導体の製造法につき鋭意検討を重ねた結果
、本発明方法を完成するに至った。
く問題点を解決するための手段〉
即ち本発明は、一般式(II)
〔式中、R、RおよびRは前述と同
じ意味を表わす。〕
で示されるシアノ化合物と一般式(I[)g
〔式中、R4、R5およびR6は同一または相異なり、
メチル基、エチル基あるいはt−ブチル基を表わす。〕 で示されるシリル化合物とを第三級アミンの存在下に反
応させた後、反応生成物を強酸性条件下に加水分解する
ことによる上記一般式CI)で示される4−ヒドロキシ
−2(5H)−フラノン誘導体の製造法を提供するもの
である。
メチル基、エチル基あるいはt−ブチル基を表わす。〕 で示されるシリル化合物とを第三級アミンの存在下に反
応させた後、反応生成物を強酸性条件下に加水分解する
ことによる上記一般式CI)で示される4−ヒドロキシ
−2(5H)−フラノン誘導体の製造法を提供するもの
である。
以下に本発明方法につき説明する。
前記一般式(II)で示されるシアノ化合物において、
置換基R1、R2およびR3の低級アルキル基としては
例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基などが挙げられる。
置換基R1、R2およびR3の低級アルキル基としては
例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基などが挙げられる。
本発明方法において一般式(II)で示されるシアノ化
合物と一般式(III)で示・されるシリル化合物の使
用量は、通常、シアノ化合物1モルに対し、シリル化合
物1〜4モルの範囲である。また反応温度および反応時
間は特に限定されるものではないが、通常夫々θ〜10
0℃および80〜72時間の範囲である。
合物と一般式(III)で示・されるシリル化合物の使
用量は、通常、シアノ化合物1モルに対し、シリル化合
物1〜4モルの範囲である。また反応温度および反応時
間は特に限定されるものではないが、通常夫々θ〜10
0℃および80〜72時間の範囲である。
使用される第三級アミンとしてはトリエチルアミン、N
、N−ジエチルメチルアミン、N、N−ジイソプロピル
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ジイソブチル
−n−プロピルアミン、ジ−n−プロピルイソブチルア
ミン、ヘキサメチレンテトラミン、1.4−ジアザビシ
クロ−(252F2)−オクタン等が挙げられ、その使
用量は通常一般式(II)で示されるシアノ化合物1モ
ルに対し、1〜4モルの範囲である。
、N−ジエチルメチルアミン、N、N−ジイソプロピル
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ジイソブチル
−n−プロピルアミン、ジ−n−プロピルイソブチルア
ミン、ヘキサメチレンテトラミン、1.4−ジアザビシ
クロ−(252F2)−オクタン等が挙げられ、その使
用量は通常一般式(II)で示されるシアノ化合物1モ
ルに対し、1〜4モルの範囲である。
上記の反応に際し、反応溶媒は必須ではないが通常、不
活性溶媒が使用され、そのような溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素、クロロヘンセン、ジクロロベンゼン等のノ
10ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコール、ジメチルエーテル等のエーテルあるいは
これらの混合溶媒を挙げることができる。
活性溶媒が使用され、そのような溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素、クロロヘンセン、ジクロロベンゼン等のノ
10ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコール、ジメチルエーテル等のエーテルあるいは
これらの混合溶媒を挙げることができる。
このようにして反応を行った後、反応生成物を強酸性条
件下に加水分解することにより目的の4−ヒドロキシ−
2(5H)−フラノン誘導体が得られる。該加水分解反
応はpH2以下、より好ましくはpH1以下の条件下に
行なわれ、反応系をかかる強酸性条件下に調整するため
に使用し得る強酸としては代表的には塩酸、硫酸、リン
酸などが挙げられ、標準的には1規定以上の上記のよう
な強酸を一般式〔■〕で示されるシアノ化合物1モルに
つき1〜20モル用い、0〜100℃、1〜40時間で
作用させることIこより充分にその目的が達せられる。
件下に加水分解することにより目的の4−ヒドロキシ−
2(5H)−フラノン誘導体が得られる。該加水分解反
応はpH2以下、より好ましくはpH1以下の条件下に
行なわれ、反応系をかかる強酸性条件下に調整するため
に使用し得る強酸としては代表的には塩酸、硫酸、リン
酸などが挙げられ、標準的には1規定以上の上記のよう
な強酸を一般式〔■〕で示されるシアノ化合物1モルに
つき1〜20モル用い、0〜100℃、1〜40時間で
作用させることIこより充分にその目的が達せられる。
このようにして得られる反応生成物に抽出、濃縮等の通
常の後処理操作を施すことにより目的の4−ヒドロキシ
−2(5H)−フラノン誘導体が得られ、該化合物はさ
らに必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等
の操作により精製することもできる。
常の後処理操作を施すことにより目的の4−ヒドロキシ
−2(5H)−フラノン誘導体が得られ、該化合物はさ
らに必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等
の操作により精製することもできる。
〈発明の効果〉
本発明方法によれば従来法に比し、操作的にも容易に短
工程でまた効率よく目的の4−ヒドロキシ−2(5H)
−フラノン誘導体カ得られ、工業的製造法として有利で
ある。
工程でまた効率よく目的の4−ヒドロキシ−2(5H)
−フラノン誘導体カ得られ、工業的製造法として有利で
ある。
〈実施例〉
以下に本発明を実施例でさらに詳細に説明する。
実施例1
2−アセトキシ−2−メチルプロピオニトリル2.54
F (0,020モル)、塩化メチレン2〇−及びト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート11.
111 (0,050モル)を反応容器に入れ、撹拌し
ながら、これにトリエチルアミン2.4fll 、F
(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴下終了後室
温下に23時間撹拌を続けた後これに濃塩酸2〇−を加
え、室温下に4時間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した
。有機層を水で洗浄後減圧下に溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチ
ル/酢酸−100: 1 )で精製することにより、4
−ヒドロキシ−5,5−ジメチ、1/−2(5H)−7
ラノン、1.64 / (m、1)−140〜142℃
、収率64%)を得た。
F (0,020モル)、塩化メチレン2〇−及びト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート11.
111 (0,050モル)を反応容器に入れ、撹拌し
ながら、これにトリエチルアミン2.4fll 、F
(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴下終了後室
温下に23時間撹拌を続けた後これに濃塩酸2〇−を加
え、室温下に4時間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した
。有機層を水で洗浄後減圧下に溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチ
ル/酢酸−100: 1 )で精製することにより、4
−ヒドロキシ−5,5−ジメチ、1/−2(5H)−7
ラノン、1.64 / (m、1)−140〜142℃
、収率64%)を得た。
スペクトルデーター
NMR(DMSO−d6)
δ(1)I)m): 1.40(S、6H)、4.7
6(S、IH)。
6(S、IH)。
12.7(br、s 、 IH)
実施例2
2−プロピオニルオキシ−2−メチルプロピオニトリル
2.82 、F (0,020モル)、1゜2−ジクロ
ルエタン2〇−及びトリメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホナート11.1.9 (0,050モル)を反
応容器に入れ、これに撹拌しながらトリエチルアミン2
.43jI(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴
下終了後、反応液を加熱し、還流下に20時間撹拌を続
けた。反応液を放冷した後、これに12N硫酸20−を
加え、80℃で80時間撹拌を続けた。以後、反応液を
実施例1と同様に処理することにより4−ヒドロキシ−
8,5,5−トリメチル−2(5H)−7ラノン2.8
81 (m−2,189〜140℃、収率82%)を得
た。
2.82 、F (0,020モル)、1゜2−ジクロ
ルエタン2〇−及びトリメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホナート11.1.9 (0,050モル)を反
応容器に入れ、これに撹拌しながらトリエチルアミン2
.43jI(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴
下終了後、反応液を加熱し、還流下に20時間撹拌を続
けた。反応液を放冷した後、これに12N硫酸20−を
加え、80℃で80時間撹拌を続けた。以後、反応液を
実施例1と同様に処理することにより4−ヒドロキシ−
8,5,5−トリメチル−2(5H)−7ラノン2.8
81 (m−2,189〜140℃、収率82%)を得
た。
スペクトルデータ
NMR(DMSO−d6)
δ(ppm) : 1.86(s、6H) 、 1.5
6(s、8H)。
6(s、8H)。
11.7(br、s、IH)
実施例3
2−アセトキシ−2,2−ペンタメチレンアセトニトリ
ル8.34 F (0,020モル)、塩化メチレン2
〇−及びトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナ
ー) 11.1 、f(0,060モル)を反応容器量
ζ入れ、撹拌しながら、これにトリエチルアミン2.4
8 、F(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴下
終了後、室温下に18時間撹拌を続けた後、これに12
N硫酸を20−加え、50℃で6時間撹拌した。以後、
反応液を実施例1と同様に処理することにより4−ヒド
ロキシ−5,5−ペンタメチレン−2(5H)−フラノ
ン2.961 (m、p 、 196〜198℃、収率
88%)を得た。
ル8.34 F (0,020モル)、塩化メチレン2
〇−及びトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナ
ー) 11.1 、f(0,060モル)を反応容器量
ζ入れ、撹拌しながら、これにトリエチルアミン2.4
8 、F(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴下
終了後、室温下に18時間撹拌を続けた後、これに12
N硫酸を20−加え、50℃で6時間撹拌した。以後、
反応液を実施例1と同様に処理することにより4−ヒド
ロキシ−5,5−ペンタメチレン−2(5H)−フラノ
ン2.961 (m、p 、 196〜198℃、収率
88%)を得た。
スペクトルデータ
NIVIR(Df’vlSO−d、 )δ(ppm)
: 1.0〜2.1(m、l0H)4.79 (8、I
H) 12.5(br、s、IH) # 4為 〒 A^↓ 6為 手続補正書(Qffi) 1、事件の表示 2、発明の名称 今一ヒC°ワキシーユ(!5N)−7,7/ン訝導4っ
襞り本 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地7犬串 り、 @iI:す^ツボ 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1) 明細書第6頁第9行目−「80〜72時間」
とあるをl’−80分〜72時間」と訂正する。
: 1.0〜2.1(m、l0H)4.79 (8、I
H) 12.5(br、s、IH) # 4為 〒 A^↓ 6為 手続補正書(Qffi) 1、事件の表示 2、発明の名称 今一ヒC°ワキシーユ(!5N)−7,7/ン訝導4っ
襞り本 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市東区北浜5丁目15番地7犬串 り、 @iI:す^ツボ 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1) 明細書第6頁第9行目−「80〜72時間」
とあるをl’−80分〜72時間」と訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子、低級アルキル基、フェニル
基またはベンジル基を表わし、R^2は低級アルキル基
、フェニル基またはベンジル基を表わす。またR^1と
R^2とが末端で結合し、ポリメチレン鎖を形成する場
合も含まれる。R^3は水素原子、低級アルキル基また
はトリフルオロメチル基を表わす。〕 で表わされるシアノ化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^4、R^5およびR^6は同一または相異
なり、メチル基、エチル基またはt−ブチル基を表わす
。〕 で示されるシリル化合物とを第三級アミンの存在下に反
応させた後、反応生成物を強酸性条件下に加水分解する
ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2およびR^3は前述と同じ意味
を表わす。〕 で示される4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導
体の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP769286A JPS62164676A (ja) | 1986-01-16 | 1986-01-16 | 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP769286A JPS62164676A (ja) | 1986-01-16 | 1986-01-16 | 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62164676A true JPS62164676A (ja) | 1987-07-21 |
Family
ID=11672827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP769286A Pending JPS62164676A (ja) | 1986-01-16 | 1986-01-16 | 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62164676A (ja) |
-
1986
- 1986-01-16 JP JP769286A patent/JPS62164676A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20050245750A1 (en) | Process for preparing 1,3-benzodioxole-2-spirocycloalkane derivative | |
JPH02204481A (ja) | ピリジン―2,3―ジカルボン酸エステル及びその中間体の製造方法 | |
JP5000645B2 (ja) | 3,4−ジクロロイソチアゾールカルボン酸の調製方法 | |
JPS62164676A (ja) | 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 | |
JPH02289563A (ja) | o―カルボキシピリジル―およびo―カルボキシキノリルイミダゾリノンの改良製造法 | |
JPS62164678A (ja) | 4−アミノ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 | |
CN109867633B (zh) | 一种由β-溴苯乙烯合成1,2,3-三氮唑的方法 | |
JP3019528B2 (ja) | β−ラクトンおよび大環状ケトンの製造法 | |
KR20170080190A (ko) | 1,5-쌍극자의 [5+3] 고리화 첨가 반응을 이용한 8원 헤테로 고리 화합물의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 8원 헤테로 고리 화합물 | |
JP2719604B2 (ja) | フッ素置換ピリジン誘導体 | |
JPS6393774A (ja) | 4−アミノ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 | |
JPS6393775A (ja) | 4−アミノ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 | |
CN113149926A (zh) | 一种3,5-二取代异恶唑衍生物的制备方法 | |
JPS5935392B2 (ja) | ベンゾニトリル類の製造方法 | |
JPH06228103A (ja) | 新規なオクタヒドロアクリジン誘導体とその製造方法 | |
JPS6317869A (ja) | 2−低級アルキル−4−アミノ−5−ホルミルピリミジンの製造法 | |
JPS59163370A (ja) | O−(アミノメチル)フエニル酢酸ラクタムの製造方法 | |
JPH07206821A (ja) | α位に塩素原子を有するピリジン類の製造方法 | |
JPH01163154A (ja) | テトラヒドロフタルイミド系化合物の製造法、その中間体および該中間体の製造法 | |
JPH07133271A (ja) | ベンズアルデヒド誘導体及びそれを中間体とするクロマンカルボン酸誘導体の製法 | |
JPH05202046A (ja) | ピリミドプテリジン誘導体及びその製造法 | |
JPH01242585A (ja) | ベンゾフロ〔3,2−c〕キノリン誘導体の製造方法 | |
JPH023630A (ja) | 2,6‐ジエチル‐4‐ヨードアニリン及びその製造法 | |
JPH0273060A (ja) | インドール系化合物の製造法 | |
JPH07165706A (ja) | 5−アミノ−3,4−ジヒドロ−2h−ピロール類の製造方法 |