JPS62164676A - 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 - Google Patents

4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法

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JPS62164676A
JPS62164676A JP769286A JP769286A JPS62164676A JP S62164676 A JPS62164676 A JP S62164676A JP 769286 A JP769286 A JP 769286A JP 769286 A JP769286 A JP 769286A JP S62164676 A JPS62164676 A JP S62164676A
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JP
Japan
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lower alkyl
hydroxy
compound
group
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Pending
Application number
JP769286A
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English (en)
Inventor
Takeshi Nakai
武 中井
Katsuhisa Masumoto
勝久 増本
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導体
の製造法に関し、さらに詳しくは制癌作用、殺菌作用ま
たは抗高血圧作用などの生理活性を有する種々の2−フ
ラノン誘導体の合成中間体として有用な一般式CI)〔
式中 R1は水素原子、低級アルキル基、フェニル基ま
たはベンジル基を表わし、R2は低級アルキル基、フェ
ニル基またはベンジル基を表わす。また R1とR2と
が末端で結合し、ポリメチレン鎖を形成する場合も含ま
れる。R3は水素原子、低級アルキル基またはトリフル
オロメチル基を表わす。〕 で示される4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導
体の製造法に関する。
〈従来の技術〉 これ迄の4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導体
の合成法としては特開昭52−189056号公報やT
etrahedron Lett、、 26(8) 、
 981(1985)などに記載の方法が知られている
しかしながら、これらの方法は、収率や操作性の面で工
業的な製造法としては必ずしも充分なものとは言い難い
〈発明が解決しようとする問題点〉 このような状況の下で本発明者らは工業的にも有利な上
記一般式(I)で示される4−ヒドロキシ−2(5H)
−フラノン誘導体の製造法につき鋭意検討を重ねた結果
、本発明方法を完成するに至った。
く問題点を解決するための手段〉 即ち本発明は、一般式(II) 〔式中、R、RおよびRは前述と同 じ意味を表わす。〕 で示されるシアノ化合物と一般式(I[)g 〔式中、R4、R5およびR6は同一または相異なり、
メチル基、エチル基あるいはt−ブチル基を表わす。〕 で示されるシリル化合物とを第三級アミンの存在下に反
応させた後、反応生成物を強酸性条件下に加水分解する
ことによる上記一般式CI)で示される4−ヒドロキシ
−2(5H)−フラノン誘導体の製造法を提供するもの
である。
以下に本発明方法につき説明する。
前記一般式(II)で示されるシアノ化合物において、
置換基R1、R2およびR3の低級アルキル基としては
例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基などが挙げられる。
本発明方法において一般式(II)で示されるシアノ化
合物と一般式(III)で示・されるシリル化合物の使
用量は、通常、シアノ化合物1モルに対し、シリル化合
物1〜4モルの範囲である。また反応温度および反応時
間は特に限定されるものではないが、通常夫々θ〜10
0℃および80〜72時間の範囲である。
使用される第三級アミンとしてはトリエチルアミン、N
、N−ジエチルメチルアミン、N、N−ジイソプロピル
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ジイソブチル
−n−プロピルアミン、ジ−n−プロピルイソブチルア
ミン、ヘキサメチレンテトラミン、1.4−ジアザビシ
クロ−(252F2)−オクタン等が挙げられ、その使
用量は通常一般式(II)で示されるシアノ化合物1モ
ルに対し、1〜4モルの範囲である。
上記の反応に際し、反応溶媒は必須ではないが通常、不
活性溶媒が使用され、そのような溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素、クロロヘンセン、ジクロロベンゼン等のノ
10ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコール、ジメチルエーテル等のエーテルあるいは
これらの混合溶媒を挙げることができる。
このようにして反応を行った後、反応生成物を強酸性条
件下に加水分解することにより目的の4−ヒドロキシ−
2(5H)−フラノン誘導体が得られる。該加水分解反
応はpH2以下、より好ましくはpH1以下の条件下に
行なわれ、反応系をかかる強酸性条件下に調整するため
に使用し得る強酸としては代表的には塩酸、硫酸、リン
酸などが挙げられ、標準的には1規定以上の上記のよう
な強酸を一般式〔■〕で示されるシアノ化合物1モルに
つき1〜20モル用い、0〜100℃、1〜40時間で
作用させることIこより充分にその目的が達せられる。
このようにして得られる反応生成物に抽出、濃縮等の通
常の後処理操作を施すことにより目的の4−ヒドロキシ
−2(5H)−フラノン誘導体が得られ、該化合物はさ
らに必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等
の操作により精製することもできる。
〈発明の効果〉 本発明方法によれば従来法に比し、操作的にも容易に短
工程でまた効率よく目的の4−ヒドロキシ−2(5H)
−フラノン誘導体カ得られ、工業的製造法として有利で
ある。
〈実施例〉 以下に本発明を実施例でさらに詳細に説明する。
実施例1 2−アセトキシ−2−メチルプロピオニトリル2.54
 F (0,020モル)、塩化メチレン2〇−及びト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート11.
111 (0,050モル)を反応容器に入れ、撹拌し
ながら、これにトリエチルアミン2.4fll 、F 
(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴下終了後室
温下に23時間撹拌を続けた後これに濃塩酸2〇−を加
え、室温下に4時間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した
。有機層を水で洗浄後減圧下に溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチ
ル/酢酸−100: 1 )で精製することにより、4
−ヒドロキシ−5,5−ジメチ、1/−2(5H)−7
ラノン、1.64 / (m、1)−140〜142℃
、収率64%)を得た。
スペクトルデーター NMR(DMSO−d6) δ(1)I)m):  1.40(S、6H)、4.7
6(S、IH)。
12.7(br、s 、 IH) 実施例2 2−プロピオニルオキシ−2−メチルプロピオニトリル
2.82 、F (0,020モル)、1゜2−ジクロ
ルエタン2〇−及びトリメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホナート11.1.9 (0,050モル)を反
応容器に入れ、これに撹拌しながらトリエチルアミン2
.43jI(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴
下終了後、反応液を加熱し、還流下に20時間撹拌を続
けた。反応液を放冷した後、これに12N硫酸20−を
加え、80℃で80時間撹拌を続けた。以後、反応液を
実施例1と同様に処理することにより4−ヒドロキシ−
8,5,5−トリメチル−2(5H)−7ラノン2.8
81 (m−2,189〜140℃、収率82%)を得
た。
スペクトルデータ NMR(DMSO−d6) δ(ppm) : 1.86(s、6H) 、 1.5
6(s、8H)。
11.7(br、s、IH) 実施例3 2−アセトキシ−2,2−ペンタメチレンアセトニトリ
ル8.34 F (0,020モル)、塩化メチレン2
〇−及びトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナ
ー) 11.1 、f(0,060モル)を反応容器量
ζ入れ、撹拌しながら、これにトリエチルアミン2.4
8 、F(0,024モル)を水冷下に滴下した。滴下
終了後、室温下に18時間撹拌を続けた後、これに12
N硫酸を20−加え、50℃で6時間撹拌した。以後、
反応液を実施例1と同様に処理することにより4−ヒド
ロキシ−5,5−ペンタメチレン−2(5H)−フラノ
ン2.961 (m、p 、 196〜198℃、収率
88%)を得た。
スペクトルデータ NIVIR(Df’vlSO−d、 )δ(ppm) 
: 1.0〜2.1(m、l0H)4.79 (8、I
H) 12.5(br、s、IH) #    4為 〒 A^↓ 6為 手続補正書(Qffi) 1、事件の表示 2、発明の名称 今一ヒC°ワキシーユ(!5N)−7,7/ン訝導4っ
襞り本 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 住 所  大阪市東区北浜5丁目15番地7犬串 り、   @iI:す^ツボ 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1)  明細書第6頁第9行目−「80〜72時間」
とあるをl’−80分〜72時間」と訂正する。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子、低級アルキル基、フェニル
    基またはベンジル基を表わし、R^2は低級アルキル基
    、フェニル基またはベンジル基を表わす。またR^1と
    R^2とが末端で結合し、ポリメチレン鎖を形成する場
    合も含まれる。R^3は水素原子、低級アルキル基また
    はトリフルオロメチル基を表わす。〕 で表わされるシアノ化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^4、R^5およびR^6は同一または相異
    なり、メチル基、エチル基またはt−ブチル基を表わす
    。〕 で示されるシリル化合物とを第三級アミンの存在下に反
    応させた後、反応生成物を強酸性条件下に加水分解する
    ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2およびR^3は前述と同じ意味
    を表わす。〕 で示される4−ヒドロキシ−2(5H)−フラノン誘導
    体の製造法
JP769286A 1986-01-16 1986-01-16 4−ヒドロキシ−2(5h)−フラノン誘導体の製造法 Pending JPS62164676A (ja)

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